JPS6026403B2 - 不飽和化合物の光重合用光増感剤 - Google Patents
不飽和化合物の光重合用光増感剤Info
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Description
【発明の詳細な説明】
有機化学における多くの反応は、可視光線あるいは紫外
線(UV)を照射することによって促進されたりまたは
反応が可能になったりさえする。
線(UV)を照射することによって促進されたりまたは
反応が可能になったりさえする。
これらの反応に属するものとして、例えば、ビタミンD
系列における分裂反応(Fissionreactio
n)、転位反応、例えばシス−トランス異性化反応およ
び例えばマレィン酸のベンゼンへの付加反応等が挙げら
れる。しかしながら、工業的に技も重要であるこの糧の
付加反応は光化学的に促進される重合反応である。これ
らの反応は、どの場合においても、反応混合物の少くと
も一部が照射された光またはUVを吸収し得ることが必
要である。
系列における分裂反応(Fissionreactio
n)、転位反応、例えばシス−トランス異性化反応およ
び例えばマレィン酸のベンゼンへの付加反応等が挙げら
れる。しかしながら、工業的に技も重要であるこの糧の
付加反応は光化学的に促進される重合反応である。これ
らの反応は、どの場合においても、反応混合物の少くと
も一部が照射された光またはUVを吸収し得ることが必
要である。
この部分が反応成分の一つである場合、単に反応混合物
に光またはUVを照射するだけで、その他の付加手段な
しに反応を行うことができる。しかしながら、反応成分
が、光化学的に有効な充分の量の照暁光を吸収できない
場合が多い。この様な場合は、明らかに反応に関与しな
いが、照射された光またはUVを吸収し、その際取り込
んだエネルギーを反応成分の一つに与える光増感剤と呼
ばれる物質を添加することが多い。この様な光増感剤を
選択するための重要な基準は就中、遂行しようとする反
応の種類、光増感剤の吸収スペクトルと使用し得る照射
源のスペクトルのエネルギー分布との関係、反応混合物
への光増感剤の溶解度、および残存する光増感剤残留分
および/または光化学反応中においてそれから生ずる生
成物による最終生成物への影響、などである。
に光またはUVを照射するだけで、その他の付加手段な
しに反応を行うことができる。しかしながら、反応成分
が、光化学的に有効な充分の量の照暁光を吸収できない
場合が多い。この様な場合は、明らかに反応に関与しな
いが、照射された光またはUVを吸収し、その際取り込
んだエネルギーを反応成分の一つに与える光増感剤と呼
ばれる物質を添加することが多い。この様な光増感剤を
選択するための重要な基準は就中、遂行しようとする反
応の種類、光増感剤の吸収スペクトルと使用し得る照射
源のスペクトルのエネルギー分布との関係、反応混合物
への光増感剤の溶解度、および残存する光増感剤残留分
および/または光化学反応中においてそれから生ずる生
成物による最終生成物への影響、などである。
不飽和化合物の光重合反応のための光増感剤としては、
従来は、主としてペンゾフェノン誘導体、安息香酸エー
テル類、ベンジルモノァセタール類およびびQーハロア
セトフェノン誘導体などが用いられて来た。
従来は、主としてペンゾフェノン誘導体、安息香酸エー
テル類、ベンジルモノァセタール類およびびQーハロア
セトフェノン誘導体などが用いられて来た。
しかしながら、これらの物質には種々の欠点があり、そ
のため工業的有用性が明らかに制限される。これらの欠
点としては、特にこれらの群の化合物と混合されたモノ
マーあるいはブレポリマーは、光照射しなくても(階所
で)重合するという性質があげられる。即ち、多くの反
応混合物は、この様な光増感剤と一緒にすると、膳所で
わずかな安定性しか有しないという欠点がある。これら
とは別の、他の化合物は、化学的安定性が低い。即ち例
えば、ペンジルモノアセタール類のあるものは、ごく少
量の水で、例えば空気中の水分でさえペンジルおよびア
ルコールに分解される。最後に、これら既知の増感剤の
他のあるものは、それを用いて製造されたポリマーの黄
色化をひき起す。このことは、通常は無色である合成樹
脂の場合または、特にUVで硬化されたプリント染料の
場合、極めて望ましくない。この最後に記述した使用分
神野では、既知の光増感剤の多くは、モノマーあるいは
プレポリマーへの溶解性が低いということが、重要な役
割を果たしていることが多い。通常、プリント染料は、
照射エネルギーを多量に吸収する着色顔料を多量に含有
しているので、これが光化学的に活性でない場合は、比
較的多量の光増感剤を添加しなければならない。この場
合、光増感剤の童は、反応混合物即ちプリント染料の5
〜1の重量%に達することが多い。一方、合成樹脂工業
において、着色用添加物が存在しない場合は1〜2重量
%で充分であることが多い。通常、この濃度は溶解いこ
くい既知の光増感剤を用いた場合、なんとか達成しうる
濃度でもある。プリント染料に必要な濃度にした場合、
既知の光増感剤はいまいまその一部が析出する。析出し
た結晶がもはや増感剤として作用しなくなることとは全
く別問題として、この析出結晶はまた、やがて比較的鰍
かし、材料からなるプリント板を損傷する。本発明の課
題は、他の反応成分と混合した場合、階所での貯蔵に安
定であり、それ自体あるいはそれから生成する生成物が
反応生成物を黄変せず、通常光重合に供せられるモノマ
ーまたはプレポリマーへの溶解性ができる限り高い光増
感剤、特に不飽和化合物の光重合用光増感剤を提供する
ことである。
のため工業的有用性が明らかに制限される。これらの欠
点としては、特にこれらの群の化合物と混合されたモノ
マーあるいはブレポリマーは、光照射しなくても(階所
で)重合するという性質があげられる。即ち、多くの反
応混合物は、この様な光増感剤と一緒にすると、膳所で
わずかな安定性しか有しないという欠点がある。これら
とは別の、他の化合物は、化学的安定性が低い。即ち例
えば、ペンジルモノアセタール類のあるものは、ごく少
量の水で、例えば空気中の水分でさえペンジルおよびア
ルコールに分解される。最後に、これら既知の増感剤の
他のあるものは、それを用いて製造されたポリマーの黄
色化をひき起す。このことは、通常は無色である合成樹
脂の場合または、特にUVで硬化されたプリント染料の
場合、極めて望ましくない。この最後に記述した使用分
神野では、既知の光増感剤の多くは、モノマーあるいは
プレポリマーへの溶解性が低いということが、重要な役
割を果たしていることが多い。通常、プリント染料は、
照射エネルギーを多量に吸収する着色顔料を多量に含有
しているので、これが光化学的に活性でない場合は、比
較的多量の光増感剤を添加しなければならない。この場
合、光増感剤の童は、反応混合物即ちプリント染料の5
〜1の重量%に達することが多い。一方、合成樹脂工業
において、着色用添加物が存在しない場合は1〜2重量
%で充分であることが多い。通常、この濃度は溶解いこ
くい既知の光増感剤を用いた場合、なんとか達成しうる
濃度でもある。プリント染料に必要な濃度にした場合、
既知の光増感剤はいまいまその一部が析出する。析出し
た結晶がもはや増感剤として作用しなくなることとは全
く別問題として、この析出結晶はまた、やがて比較的鰍
かし、材料からなるプリント板を損傷する。本発明の課
題は、他の反応成分と混合した場合、階所での貯蔵に安
定であり、それ自体あるいはそれから生成する生成物が
反応生成物を黄変せず、通常光重合に供せられるモノマ
ーまたはプレポリマーへの溶解性ができる限り高い光増
感剤、特に不飽和化合物の光重合用光増感剤を提供する
ことである。
さらには、250〜50仇血の波長範囲で、好ましくは
300〜40瓜mの間で最大の光増感効果を有する光増
感剤を提供することである。この課題は光増感剤として
一般式1〔式中、R,は水素、塩素、フェニル、炭素原
子数2〜4のジアルキルアミノあるいは、それぞれ炭素
原子数が18を超えないアルキルまたはアルコキシであ
り、R2は水素、塩素、臭素、あるいはそれぞれ炭素原
子数が4を超えないアルキルまたはアルコキシであり、
R3およびR4は同一または異なって炭素原子数が6を
超えないアルキルであり、R5は水素又は炭素数がそれ
ぞれ炭素原子数がそれぞれ4を超えないアルキルまたは
アルカノィルであり、Kは水素またはメチルを表わす。
300〜40瓜mの間で最大の光増感効果を有する光増
感剤を提供することである。この課題は光増感剤として
一般式1〔式中、R,は水素、塩素、フェニル、炭素原
子数2〜4のジアルキルアミノあるいは、それぞれ炭素
原子数が18を超えないアルキルまたはアルコキシであ
り、R2は水素、塩素、臭素、あるいはそれぞれ炭素原
子数が4を超えないアルキルまたはアルコキシであり、
R3およびR4は同一または異なって炭素原子数が6を
超えないアルキルであり、R5は水素又は炭素数がそれ
ぞれ炭素原子数がそれぞれ4を超えないアルキルまたは
アルカノィルであり、Kは水素またはメチルを表わす。
ただし、すべての基R,〜R6が同時に水素であること
はない〕で表わされる化合物を提供することにより解決
された。本発明者は、一般式(1)で表わされる化合物
が、250〜50仇mの波長範囲の照射に対して良好な
光増感効果を有し、主として光重合反応に使用されるモ
ノマーあるいはプレポリマー類、例えば不飽和ェステル
類(例えばアクリル酸ェステル類、メタクリル酸ェステ
ル類またはマレィン酸ェステル類)あるいは、スチレン
等を基礎とする光重合反応に専ら使用されるモノマーま
たはプレポリマーへの溶解性は、従来使用されてきた大
部分の増感剤より、明らかに優れていること見出した。
さらに、これらのモノマーまたはプレポリマー類中に一
般式(1)で表わされる光増感剤を含有する溶液は、通
常、例えばペンゾィンェーテル類の同様の溶液よりも階
所貯蔵安定性が優れている。最後に一般式(1)で示さ
れる増感剤を用いて光重合を行った場合、ポリマー類の
黄変は観察できないか、あるいは従来用いられてきた増
感剤を用いた場合よりも、その黄変の程度が実質的に少
ない。従って、本発明は、一般式(1)で示される化合
物の光増感剤としての使用、特に不飽和化合物の光重合
用または、プリント染料のUV硬化用光増感剤としての
使用に関する。
はない〕で表わされる化合物を提供することにより解決
された。本発明者は、一般式(1)で表わされる化合物
が、250〜50仇mの波長範囲の照射に対して良好な
光増感効果を有し、主として光重合反応に使用されるモ
ノマーあるいはプレポリマー類、例えば不飽和ェステル
類(例えばアクリル酸ェステル類、メタクリル酸ェステ
ル類またはマレィン酸ェステル類)あるいは、スチレン
等を基礎とする光重合反応に専ら使用されるモノマーま
たはプレポリマーへの溶解性は、従来使用されてきた大
部分の増感剤より、明らかに優れていること見出した。
さらに、これらのモノマーまたはプレポリマー類中に一
般式(1)で表わされる光増感剤を含有する溶液は、通
常、例えばペンゾィンェーテル類の同様の溶液よりも階
所貯蔵安定性が優れている。最後に一般式(1)で示さ
れる増感剤を用いて光重合を行った場合、ポリマー類の
黄変は観察できないか、あるいは従来用いられてきた増
感剤を用いた場合よりも、その黄変の程度が実質的に少
ない。従って、本発明は、一般式(1)で示される化合
物の光増感剤としての使用、特に不飽和化合物の光重合
用または、プリント染料のUV硬化用光増感剤としての
使用に関する。
前記一般式(1)の化合物には一般式(0)〔式中、R
,は水素、フェニル、炭素原子数が2〜4のジァルキル
アミノあるいは炭素原子数がそれぞれ18を超えないア
ルキルまたはアルコキシであり、R2は水素、塩素、臭
素、炭素原子数がそれぞれ4を超えないアルキルまたは
アルコキシであり、R3およびR4は炭素原子数が6を
超えないアルキルであり、R5は水素又は炭素原子数が
それぞれ4を超えないアルキルまたはアルカノイルであ
る。
,は水素、フェニル、炭素原子数が2〜4のジァルキル
アミノあるいは炭素原子数がそれぞれ18を超えないア
ルキルまたはアルコキシであり、R2は水素、塩素、臭
素、炭素原子数がそれぞれ4を超えないアルキルまたは
アルコキシであり、R3およびR4は炭素原子数が6を
超えないアルキルであり、R5は水素又は炭素原子数が
それぞれ4を超えないアルキルまたはアルカノイルであ
る。
ただし、R,およびR2は同時に水素原子ではなく、R
2が水素である場合、ならぴにR3およびR4がメチル
である場合には、R,はメチル、メトキシまたはフェニ
ルではなく、R,が水素である場合ならびにR3および
R4がメチルである場合にはR2はメチルではない〕で
示される新規化合物が包含される。
2が水素である場合、ならぴにR3およびR4がメチル
である場合には、R,はメチル、メトキシまたはフェニ
ルではなく、R,が水素である場合ならびにR3および
R4がメチルである場合にはR2はメチルではない〕で
示される新規化合物が包含される。
従来用いられて来た光増感剤(これは通常2個の、置換
されていることもあるフェニル核を含有し、この芳香族
系は1または2の炭素原子を介して交叉共役している)
の共通の構造特性を考慮すれば、本発明で使用される、
ヒドロキシァルキルケトン類が、良好な光増感作用を有
することは驚くべきことである。
されていることもあるフェニル核を含有し、この芳香族
系は1または2の炭素原子を介して交叉共役している)
の共通の構造特性を考慮すれば、本発明で使用される、
ヒドロキシァルキルケトン類が、良好な光増感作用を有
することは驚くべきことである。
確かに、アセトフェノンおよびアセトフェノン誘導体が
すでに光増感剤、特に光化学的サィクロアディション用
増感剤として提案され、使用されている。しかし、この
種の化合物によつと得られる効果、特にそれらによって
糟感されたこの光イヒ学反応の収量は、例えばペンゾフ
ェノンを用いた時の効果よりもほとんど著しく低い。一
般式(1)において、基R,は好ましくは炭素原子数が
18を超えないアルキルもしくはアルコキシ、塩素原子
、炭素原子数が2〜4のジアルキシアミ/またはフェニ
ルである。
すでに光増感剤、特に光化学的サィクロアディション用
増感剤として提案され、使用されている。しかし、この
種の化合物によつと得られる効果、特にそれらによって
糟感されたこの光イヒ学反応の収量は、例えばペンゾフ
ェノンを用いた時の効果よりもほとんど著しく低い。一
般式(1)において、基R,は好ましくは炭素原子数が
18を超えないアルキルもしくはアルコキシ、塩素原子
、炭素原子数が2〜4のジアルキシアミ/またはフェニ
ルである。
特に好ましくは、基R,は炭素原子数12までのァルキ
ル基またはジメチルアミノ基である。基R2は好ましく
は水素である。しかしながら基R2は、フェニル核の2
位、好ましくは3位に存在する塩素あるいは臭素原子、
メチル基またはメトキシ基であってもよい。基R5は好
ましくは水素であるが、それがアルキルまたはアルカノ
イル基の場合、これらの中ではメチル、エチルおよびア
セチルが好ましい。
ル基またはジメチルアミノ基である。基R2は好ましく
は水素である。しかしながら基R2は、フェニル核の2
位、好ましくは3位に存在する塩素あるいは臭素原子、
メチル基またはメトキシ基であってもよい。基R5は好
ましくは水素であるが、それがアルキルまたはアルカノ
イル基の場合、これらの中ではメチル、エチルおよびア
セチルが好ましい。
最後に基次6は好ましくは水素であり、R,が水素であ
り、R2が2−メチル基である時のみR6はメチル基で
ある。従って、本発明によれば、基R,〜R6の少なく
とも1個が上記にあげた好ましい意義の1つを有する一
般式1で示される化合物を光増感剤として使用すること
が特に好ましい。
り、R2が2−メチル基である時のみR6はメチル基で
ある。従って、本発明によれば、基R,〜R6の少なく
とも1個が上記にあげた好ましい意義の1つを有する一
般式1で示される化合物を光増感剤として使用すること
が特に好ましい。
これらの好ましい化合物群のいくつかは一般式(1)中
において相当する部分が以下の部分式(la)〜(lp
)で表わすことができる。この部分式においてより詳細
に定義されていない基は一般式(1)において示した意
義を有する。(la)R,が炭素原子数1〜12のアル
キルであるもの(lb) R,が炭素原子数3〜12の
アルキルであるもの(lc) R,がジメチルアミノで
あるもの(ld) R2が水素であるもの(le) R
2が3−クロロー、3ーブロモー、3ーメチルまたは3
−メトキシであるもの(lf) R.が炭素原子数1〜
4のアルキルでR2が(le)に記載した意義の1つを
有するもの (1g) R3およびR4がメチル基であるもの(m)
R3がエチル、R4がnーブチルであるもの(li)
R3がメチル、R4がエチルであるもの(li) R
5が水素であるもの(lk) R5がメチル、エチルま
たはアセチルであるもの(1そ) R,が炭素原子数3
〜12のアルキル、R2およびR5が水素であるもの(
lm) R,が炭素原子数3〜12のアルキル、R2が
水素、R3およびR4がメチルであるもの(ln) R
,が炭素原子数1〜12のアルキル、R2が水素、R3
がエチル、R4がnーブチルであるもの (lo) R6が水素であるもの (lp)R,が水素、R2が2−メチル、鴇がメチルで
あるもの本発明に係る一般式(1)で示される化合物の
あるものの製造法は、Bull.Soc.Chim.F
ranceI967,1047〜1052,J,Ame
r,Chem,S比,75(1953)、5975〜5
978およびZh.○bshch.Khim.私(19
64)24〜28により既知である。
において相当する部分が以下の部分式(la)〜(lp
)で表わすことができる。この部分式においてより詳細
に定義されていない基は一般式(1)において示した意
義を有する。(la)R,が炭素原子数1〜12のアル
キルであるもの(lb) R,が炭素原子数3〜12の
アルキルであるもの(lc) R,がジメチルアミノで
あるもの(ld) R2が水素であるもの(le) R
2が3−クロロー、3ーブロモー、3ーメチルまたは3
−メトキシであるもの(lf) R.が炭素原子数1〜
4のアルキルでR2が(le)に記載した意義の1つを
有するもの (1g) R3およびR4がメチル基であるもの(m)
R3がエチル、R4がnーブチルであるもの(li)
R3がメチル、R4がエチルであるもの(li) R
5が水素であるもの(lk) R5がメチル、エチルま
たはアセチルであるもの(1そ) R,が炭素原子数3
〜12のアルキル、R2およびR5が水素であるもの(
lm) R,が炭素原子数3〜12のアルキル、R2が
水素、R3およびR4がメチルであるもの(ln) R
,が炭素原子数1〜12のアルキル、R2が水素、R3
がエチル、R4がnーブチルであるもの (lo) R6が水素であるもの (lp)R,が水素、R2が2−メチル、鴇がメチルで
あるもの本発明に係る一般式(1)で示される化合物の
あるものの製造法は、Bull.Soc.Chim.F
ranceI967,1047〜1052,J,Ame
r,Chem,S比,75(1953)、5975〜5
978およびZh.○bshch.Khim.私(19
64)24〜28により既知である。
しかしながら、前述の顕著な光増感剤効果は、これらの
参照文献には記載されてもいないし、記載から明らかで
もない。一般式(0)で示される新規化合物は上記の参
照文献に記載されている有機化学の標準的方法と同様の
方法で製造し得る。好ましい製造法は以下の通りである
。
参照文献には記載されてもいないし、記載から明らかで
もない。一般式(0)で示される新規化合物は上記の参
照文献に記載されている有機化学の標準的方法と同様の
方法で製造し得る。好ましい製造法は以下の通りである
。
一般式(m)
〔式中、R,,R2および馬は前記と同意義である〕で
示されるベンゼン誘導体を、例えば塩化アルミニウムの
如きルイス酸の存在下、一般式(W)〔式中、R3,お
よびR4は上記と同意義であり、Ha夕はハロゲン原子
、好ましくは塩素あるいは臭素を表わす〕で示されるQ
−ハロカルボン酸クロリドと反応させ、この様にして得
られた一般式(V)〔式中、R,,R2,R3,R4,
R6およびHaのま前記と同意義である〕で示されるQ
−ハロケトンを自体通常の方法でケン化して一般式(1
)(R5=H)で示されるヒドロキシアルキルフエノン
にする。
示されるベンゼン誘導体を、例えば塩化アルミニウムの
如きルイス酸の存在下、一般式(W)〔式中、R3,お
よびR4は上記と同意義であり、Ha夕はハロゲン原子
、好ましくは塩素あるいは臭素を表わす〕で示されるQ
−ハロカルボン酸クロリドと反応させ、この様にして得
られた一般式(V)〔式中、R,,R2,R3,R4,
R6およびHaのま前記と同意義である〕で示されるQ
−ハロケトンを自体通常の方法でケン化して一般式(1
)(R5=H)で示されるヒドロキシアルキルフエノン
にする。
このケン化は、メタノール、エタノール、イソプロ/ぐ
ノール、アセトンあるいはジメチルスルホキシドの如き
水と混和し得る溶媒に水酸化アルカリ金属を溶かした濃
厚溶液と共にQーハロケトン(V)を単に加熱すること
によって行われる。一般式(1)(R5=アルカノィル
)で示されるアルカノィルオキシアルキルフェノン類は
また、ヒドロキシアルキルフェノン類(1,R5=H)
を無水力ルボン酸またはカルボン酸ハラィドの如き適当
なカルボン酸誘導体を用いてアシル化することによって
も得られる。
ノール、アセトンあるいはジメチルスルホキシドの如き
水と混和し得る溶媒に水酸化アルカリ金属を溶かした濃
厚溶液と共にQーハロケトン(V)を単に加熱すること
によって行われる。一般式(1)(R5=アルカノィル
)で示されるアルカノィルオキシアルキルフェノン類は
また、ヒドロキシアルキルフェノン類(1,R5=H)
を無水力ルボン酸またはカルボン酸ハラィドの如き適当
なカルボン酸誘導体を用いてアシル化することによって
も得られる。
一般式(1)(R5=アルキル)で示されるこのアルコ
キシアルキルフェノン類は、例えばQーハロケトン類(
V)をナトリウムェチラートの如きアルコラートと、ェ
タ/ールの如き無水の有機溶媒中で反応させることによ
って得られる。
キシアルキルフェノン類は、例えばQーハロケトン類(
V)をナトリウムェチラートの如きアルコラートと、ェ
タ/ールの如き無水の有機溶媒中で反応させることによ
って得られる。
一般式(m)で示される化合物と一般式(W)で示され
る化合物とのフリーデルクラフト反応とは別に、Q−ハ
ロケトン類(V)は、一般式(W)〔式中、R,,R2
,R3,R4,および馬は前記と同意義である〕で示さ
れるフェノンを自体通常の方法でハロゲン化、好ましく
はクロル化あるいはブロム化することによって得ること
もできる。
る化合物とのフリーデルクラフト反応とは別に、Q−ハ
ロケトン類(V)は、一般式(W)〔式中、R,,R2
,R3,R4,および馬は前記と同意義である〕で示さ
れるフェノンを自体通常の方法でハロゲン化、好ましく
はクロル化あるいはブロム化することによって得ること
もできる。
このフェノン(M)が得やすく、ハロゲン化の際に、例
えばR,,R2および/または鴇のペンジル位の炭素原
子がハロゲン化される様な副反応が起らない場合には、
この方法を用いるのが好都合である。
えばR,,R2および/または鴇のペンジル位の炭素原
子がハロゲン化される様な副反応が起らない場合には、
この方法を用いるのが好都合である。
さらに、一般式(1)で示されるヒドロキシアルキルフ
ェノン類は、次の如くして製造することができる。
ェノン類は、次の如くして製造することができる。
一般式(VO)〔式中、R,,R2,R6および舷そは
記と同意義である〕で示されるグリニヤ化合物を一般式
(Vm)〔式中、Sch−○一はテトラヒドロピラニル
ェーテル基の如きグリニャ化合物に対して保護された水
酸基であり、R3およびR4は前記と同意義である〕で
示される酸素位が保護されているアンヒドリンと反応さ
せ、次いで酸の存在下、この反応混合物を自体通常の方
法で加水分解する。
記と同意義である〕で示されるグリニヤ化合物を一般式
(Vm)〔式中、Sch−○一はテトラヒドロピラニル
ェーテル基の如きグリニャ化合物に対して保護された水
酸基であり、R3およびR4は前記と同意義である〕で
示される酸素位が保護されているアンヒドリンと反応さ
せ、次いで酸の存在下、この反応混合物を自体通常の方
法で加水分解する。
この製造方法は、R,がジアルキルアミ/基である一般
式(1)で示される化合物を合成する場合に好都合であ
る。本発明に係る光増感剤の使用はこの様な化合物にと
って通常の方法で使用される。
式(1)で示される化合物を合成する場合に好都合であ
る。本発明に係る光増感剤の使用はこの様な化合物にと
って通常の方法で使用される。
例えば、不飽和化合物の光重合の場合には、これらの原
料であるプレポリマーまたはプレコポリマー中に、一般
式(1)で示される化合物の1つまたはそれ以上を0.
05〜15重量%好ましくは0.1〜la重量%の割合
で溶解し(この場合、他の既知の光増感剤と共に溶解し
ていてもよい)、この溶液を、波長範囲250〜50仇
皿、好ましくは300〜40肌■の可視光ま地肌織欄射
する。本発明に係る光増感剤で光重合し得る不飽和化合
物としては、C=C二重結合や例えばハロゲン原子、カ
ルポニル、シアノ、カルボキシ、ェステル、アミド、エ
ーテルまたはアリール基あるいは共役している他の二重
結合もしくは三重結合によって活性化されている全ての
ものを挙げることができる。
料であるプレポリマーまたはプレコポリマー中に、一般
式(1)で示される化合物の1つまたはそれ以上を0.
05〜15重量%好ましくは0.1〜la重量%の割合
で溶解し(この場合、他の既知の光増感剤と共に溶解し
ていてもよい)、この溶液を、波長範囲250〜50仇
皿、好ましくは300〜40肌■の可視光ま地肌織欄射
する。本発明に係る光増感剤で光重合し得る不飽和化合
物としては、C=C二重結合や例えばハロゲン原子、カ
ルポニル、シアノ、カルボキシ、ェステル、アミド、エ
ーテルまたはアリール基あるいは共役している他の二重
結合もしくは三重結合によって活性化されている全ての
ものを挙げることができる。
その様な化合物は例えば、ピニルクロリド、ビニルデン
クロリド、アクリル酸メチルェステル、アクリロニトリ
ル、ヒドロキシエチルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロ
キシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、2
ーエチルヘキシルアクリレート、フエニルオキシエチル
アクリレ−ト、低級アルコキシェトキシアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、N−ビニルピロ
リドン、Nービニルカルバゾール、ビニルアセテート、
スチレン、ジピニルベンゼンおよび置換スチレン類など
である。トリメチロ−ルプロパン、ジアクリレート、プ
ロポキシ化ビスフエニルーA、ジアクリレートおよびジ
メタクリレート、1,6ーヘキサンジオールアクリレー
トおよびペンタェリスリットトリアクリレ−トの如きポ
リ不飽和化合物類もまた、本発明に係る光増感剤を用い
て光重合し得る。プレポリマー類およびプレーコポリマ
ー類として、例えば、不飽和ポリエステル類、アクリル
材料、ヱポキシ材料、ウレタン類、シリコン類、アミン
ポリアミド樹脂および特にアクリル化シリコン油、アク
リル化ポリエステル類、アクリル化ウレタン類、アクリ
ル化ポリアミド類、アクリル化大豆油、アクリル化ェポ
キシ樹脂およびアクリル化アクリル樹脂の如きアクリル
イり樹脂などが重要である。光重合し得る化合物あるい
は混合物は、本発明の光増感剤の増感作用を感知し得る
程に損うことなく、既知の阻害剤を通常の量だけ添加す
ることによって安定化することができる。
クロリド、アクリル酸メチルェステル、アクリロニトリ
ル、ヒドロキシエチルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロ
キシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、2
ーエチルヘキシルアクリレート、フエニルオキシエチル
アクリレ−ト、低級アルコキシェトキシアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、N−ビニルピロ
リドン、Nービニルカルバゾール、ビニルアセテート、
スチレン、ジピニルベンゼンおよび置換スチレン類など
である。トリメチロ−ルプロパン、ジアクリレート、プ
ロポキシ化ビスフエニルーA、ジアクリレートおよびジ
メタクリレート、1,6ーヘキサンジオールアクリレー
トおよびペンタェリスリットトリアクリレ−トの如きポ
リ不飽和化合物類もまた、本発明に係る光増感剤を用い
て光重合し得る。プレポリマー類およびプレーコポリマ
ー類として、例えば、不飽和ポリエステル類、アクリル
材料、ヱポキシ材料、ウレタン類、シリコン類、アミン
ポリアミド樹脂および特にアクリル化シリコン油、アク
リル化ポリエステル類、アクリル化ウレタン類、アクリ
ル化ポリアミド類、アクリル化大豆油、アクリル化ェポ
キシ樹脂およびアクリル化アクリル樹脂の如きアクリル
イり樹脂などが重要である。光重合し得る化合物あるい
は混合物は、本発明の光増感剤の増感作用を感知し得る
程に損うことなく、既知の阻害剤を通常の量だけ添加す
ることによって安定化することができる。
さらにこれらは、通常の光化学的に硬化したプリント染
料におけるような顔料あるいは染料を含有することもで
きる。この場合の増感剤の量は高めで、例えば6〜la
重量%が適当であるが、無色の光重合生成物においては
、ほとんどの場合0.1〜3重量%で完全に充分である
。本発明に係る糟感剤と共に使用し得る既知の光増感剤
としては、例えば、ミヒラーのケトン(4,4′ービス
ー〔ジメチルアミノ〕ーベンゾフヱノン)、4,4′ー
ビスー(ジメチルアミノ)−ペンゾフエノン、pージメ
チルアミノベンズアルデヒド、4,4′ービス−(ジメ
チルアミノ)ーベンジル、p−ジメチルアミノベンゾフ
エノン、pージメチルアミノベンゾイン、p−ジメチル
アミノベンジル、N置換一9ーアクリダノン、米国特許
第3661技絹号に記載のアミノー(もしくはフェニル
−)カルボニル化合物、米国特許3,552973号に
記載のp−アミノフェニルカルボニル化合物、アセトフ
ェノン、プロピオフェノン、キサントン、ベンズアルデ
十ヒド、ベンゾフエノン、p−クロロベンゾフエノン、
ビアセチル、ベンジル、フルオレノン、3−ニトロ一4
ークロロベンベンゾフェノン−2ーカルボン酸、フェナ
ントレンキノン、ベンゾインおよびペンゾインのアルキ
ルエーテル類、2−クロロチオキサントン、10−チオ
キサンテノン、1ーフエニルー1,2−プロパンジオン
オキシムおよびそれらのェステル類またはエーテル類、
イサチン、アントロン、ヒドロキシプロピルベンゾエー
ト、ベンゾイルベンゾエートアクリレート、2,4ージ
メチルベンゾフエノン、ペンゾイルービフエニル、アセ
ナフテノキ/ンまたはジベンゾスベロンなどが挙げられ
る。
料におけるような顔料あるいは染料を含有することもで
きる。この場合の増感剤の量は高めで、例えば6〜la
重量%が適当であるが、無色の光重合生成物においては
、ほとんどの場合0.1〜3重量%で完全に充分である
。本発明に係る糟感剤と共に使用し得る既知の光増感剤
としては、例えば、ミヒラーのケトン(4,4′ービス
ー〔ジメチルアミノ〕ーベンゾフヱノン)、4,4′ー
ビスー(ジメチルアミノ)−ペンゾフエノン、pージメ
チルアミノベンズアルデヒド、4,4′ービス−(ジメ
チルアミノ)ーベンジル、p−ジメチルアミノベンゾフ
エノン、pージメチルアミノベンゾイン、p−ジメチル
アミノベンジル、N置換一9ーアクリダノン、米国特許
第3661技絹号に記載のアミノー(もしくはフェニル
−)カルボニル化合物、米国特許3,552973号に
記載のp−アミノフェニルカルボニル化合物、アセトフ
ェノン、プロピオフェノン、キサントン、ベンズアルデ
十ヒド、ベンゾフエノン、p−クロロベンゾフエノン、
ビアセチル、ベンジル、フルオレノン、3−ニトロ一4
ークロロベンベンゾフェノン−2ーカルボン酸、フェナ
ントレンキノン、ベンゾインおよびペンゾインのアルキ
ルエーテル類、2−クロロチオキサントン、10−チオ
キサンテノン、1ーフエニルー1,2−プロパンジオン
オキシムおよびそれらのェステル類またはエーテル類、
イサチン、アントロン、ヒドロキシプロピルベンゾエー
ト、ベンゾイルベンゾエートアクリレート、2,4ージ
メチルベンゾフエノン、ペンゾイルービフエニル、アセ
ナフテノキ/ンまたはジベンゾスベロンなどが挙げられ
る。
光重合を行うための照射源としては、太陽光、人工光が
用いられ得る。しかしながら、水銀蒸気高圧ランプまた
は低圧ランプ、キセノンランプ、タングステンランプあ
るいはレーザー光線源もまた使用し得る。以下に挙げる
実施例は本発明を説明するものであるが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
用いられ得る。しかしながら、水銀蒸気高圧ランプまた
は低圧ランプ、キセノンランプ、タングステンランプあ
るいはレーザー光線源もまた使用し得る。以下に挙げる
実施例は本発明を説明するものであるが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
実施例および参考例中、温度は℃で、濃度およびパーセ
ンテージは特別の指示がない限り、重量で示されており
、沸点における圧力は風日夕で表わしてある。参考例1
〜6は本発明に使用される一般式(1)で示される化合
物の製造法に関する。
ンテージは特別の指示がない限り、重量で示されており
、沸点における圧力は風日夕で表わしてある。参考例1
〜6は本発明に使用される一般式(1)で示される化合
物の製造法に関する。
参考例 11,2ージクロロエタン2000叫に塩化ア
ルミニウム665夕を懸濁させた懸濁液に、0℃で、Q
−クロ。ィソブチルクロリド(これは、触媒量のクロロ
スルホン酸およびクロルアニルの存在下、イソブチリル
クロリドをクロル化することによって得られる)740
夕を入れる。この混合物を激しく燈拝しながら、0℃〜
5℃の間で、市販の工業用ドデシルベンゼン(商品名:
Mamcan;ChemischeWerke日山sA
G社製、Nねrl)1230夕を滴加する。この滴加が
完全に終了したら、この反応混合物を同じ温度でさらに
45分間縄拝し、次いでこれを氷1000夕および濃塩
酸400Mの混合物に縄拝しながら入れる。有機相を分
離し、希塩酸300の‘を用いて2回洗浄し、塩化カル
シウムで乾燥し、蒸発させる。残留した1一(4′−ド
デシルフエニル)−2−クoo−2ーメチループロパノ
ン‘1}を、蝿梓下、やや加溢しながらインプロピルア
ルコール2000叫に溶解する。この溶液を1時間30
分燈梓下に32%水性水酸化ナトリウム溶液550の‘
と共に加熱沸騰させ、次いで水2000の‘に注ぐ。こ
の水性反応混合物をトルェン1000の【で抽出し、抽
出物を10%水性水酸化ナトリウム溶液loo0の【で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発させる。残留する
1−(4−ドデシルフェニル)−2ーヒドロキシー2ー
メチループロパノン−{1ーを減圧下に蒸留する。沸点
o.の:180〜18守0同様にして以下の化合物を得
ることができる。1−(4′ークロロフエニル)一2−
ヒドロキシ−2−メチル−ブロパノン−‘1}、沸点M
:117〜118qO1ーフエニルー2ーヒドロキシー
2ーメチル−プ。
ルミニウム665夕を懸濁させた懸濁液に、0℃で、Q
−クロ。ィソブチルクロリド(これは、触媒量のクロロ
スルホン酸およびクロルアニルの存在下、イソブチリル
クロリドをクロル化することによって得られる)740
夕を入れる。この混合物を激しく燈拝しながら、0℃〜
5℃の間で、市販の工業用ドデシルベンゼン(商品名:
Mamcan;ChemischeWerke日山sA
G社製、Nねrl)1230夕を滴加する。この滴加が
完全に終了したら、この反応混合物を同じ温度でさらに
45分間縄拝し、次いでこれを氷1000夕および濃塩
酸400Mの混合物に縄拝しながら入れる。有機相を分
離し、希塩酸300の‘を用いて2回洗浄し、塩化カル
シウムで乾燥し、蒸発させる。残留した1一(4′−ド
デシルフエニル)−2−クoo−2ーメチループロパノ
ン‘1}を、蝿梓下、やや加溢しながらインプロピルア
ルコール2000叫に溶解する。この溶液を1時間30
分燈梓下に32%水性水酸化ナトリウム溶液550の‘
と共に加熱沸騰させ、次いで水2000の‘に注ぐ。こ
の水性反応混合物をトルェン1000の【で抽出し、抽
出物を10%水性水酸化ナトリウム溶液loo0の【で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し蒸発させる。残留する
1−(4−ドデシルフェニル)−2ーヒドロキシー2ー
メチループロパノン−{1ーを減圧下に蒸留する。沸点
o.の:180〜18守0同様にして以下の化合物を得
ることができる。1−(4′ークロロフエニル)一2−
ヒドロキシ−2−メチル−ブロパノン−‘1}、沸点M
:117〜118qO1ーフエニルー2ーヒドロキシー
2ーメチル−プ。
パノンー‘1’、沸点船:86〜磯。○参考例 2参考
例1と同様にして、ジクロロェタン500必中の塩化ア
ルミニウム1$夕を用いて、Qークロロイソブチリルク
ロリド141夕およびトルエン92夕から、1−(4′
ーメチルフエニル)一2−クロロ−2−メチルプロバノ
ン−{1)を製造し、この粗生成物を無水メタノール5
00凧‘に溶解する。
例1と同様にして、ジクロロェタン500必中の塩化ア
ルミニウム1$夕を用いて、Qークロロイソブチリルク
ロリド141夕およびトルエン92夕から、1−(4′
ーメチルフエニル)一2−クロロ−2−メチルプロバノ
ン−{1)を製造し、この粗生成物を無水メタノール5
00凧‘に溶解する。
メタノール1500の‘にナトリウムメチラート54夕
をとかした溶液を濃梓下に滴加し、この反応混合物を6
0℃に加温し、次いで1錨時間放置する。次いで沈澱し
た塩化ナトリウムを炉去し淀液を蒸発させる。残留する
1−(4′ーメチルフェニル)−2ーメトキシ−2−メ
チルーブロパノンを減圧下に蒸留する。収量:聡.4夕
、沸点。心3:75〜770参考例 3参考例1を同様
にして、ジク・ロロェタン1000肌中の塩化アルミニ
ウム斑5夕を用いて、トルヱン300夕およびQークロ
ロプロピオニルクロリド455夕から1一(4ーメチル
フエニル)−2ークロロプロパノンー‘1}550夕を
製造する。
をとかした溶液を濃梓下に滴加し、この反応混合物を6
0℃に加温し、次いで1錨時間放置する。次いで沈澱し
た塩化ナトリウムを炉去し淀液を蒸発させる。残留する
1−(4′ーメチルフェニル)−2ーメトキシ−2−メ
チルーブロパノンを減圧下に蒸留する。収量:聡.4夕
、沸点。心3:75〜770参考例 3参考例1を同様
にして、ジク・ロロェタン1000肌中の塩化アルミニ
ウム斑5夕を用いて、トルヱン300夕およびQークロ
ロプロピオニルクロリド455夕から1一(4ーメチル
フエニル)−2ークロロプロパノンー‘1}550夕を
製造する。
この粗物質をェタノ−ル3000の上に溶解し、無水酢
酸カリウム392夕と共に1虫時間煮沸する。次いでこ
の反応混合物を減圧下に蒸発させ、残留物をジェチルェ
−テル2500叫にとり炉過する。炉液を蒸発させ、残
留する1−(4′ーメチルフェニル)−2−アセトキシ
ープ。パノンーmを減圧下で蒸留する。収量:364夕
、沸点。.3:115〜IZ〆0同様にして以下の化合
物を得ることができる。4−第3−ブチル−Q−アセト
キシーアセトフェノン、沸点側:140〜143午01
−(4−第3−ブチルフェニル)−2ーアセトキシー2
ーメチループロパノン−【1}、沸点び3:144〜1
4び○参考例 4 ・ インプロピルアルコール3000の【に1一(4′ーメ
チルフエニル)一2ーアセトキシープロパノンー‘1}
371夕を溶かした溶液を、水1200泌に炭酸水素ナ
トリウム151夕をとかした溶液と混合し、縄投下に1
即時間煮沸する。
酸カリウム392夕と共に1虫時間煮沸する。次いでこ
の反応混合物を減圧下に蒸発させ、残留物をジェチルェ
−テル2500叫にとり炉過する。炉液を蒸発させ、残
留する1−(4′ーメチルフェニル)−2−アセトキシ
ープ。パノンーmを減圧下で蒸留する。収量:364夕
、沸点。.3:115〜IZ〆0同様にして以下の化合
物を得ることができる。4−第3−ブチル−Q−アセト
キシーアセトフェノン、沸点側:140〜143午01
−(4−第3−ブチルフェニル)−2ーアセトキシー2
ーメチループロパノン−【1}、沸点び3:144〜1
4び○参考例 4 ・ インプロピルアルコール3000の【に1一(4′ーメ
チルフエニル)一2ーアセトキシープロパノンー‘1}
371夕を溶かした溶液を、水1200泌に炭酸水素ナ
トリウム151夕をとかした溶液と混合し、縄投下に1
即時間煮沸する。
次いで、溶媒を減圧下に蒸留し、残留物を水500の‘
にとりジェチルェーテル300m‘を用いて3回抽出す
る。このエーテル抽出物を合わせ、硫酸ナトリウムで乾
燥し蒸発させる。残留する1一(4−メチルフェニル)
−2一ヒドロキシプロパノン−‘1}を減圧下に蒸留す
る。収量:224夕、沸点側:85〜90qo同様にし
て以下の化合物を得ることができる。
にとりジェチルェーテル300m‘を用いて3回抽出す
る。このエーテル抽出物を合わせ、硫酸ナトリウムで乾
燥し蒸発させる。残留する1一(4−メチルフェニル)
−2一ヒドロキシプロパノン−‘1}を減圧下に蒸留す
る。収量:224夕、沸点側:85〜90qo同様にし
て以下の化合物を得ることができる。
1一(3′,4′−ジメチルフエニル)一2ーヒドロキ
シー2−メチループロパノンー‘1}、沸点岬:88〜
900○1一(4′ーメトキシフエニル)一2ーヒドロ
キシ−2−メチループロパノン−{1’、沸点M:12
5〜12ぱ○1一(4′ービフエニリル)−2ーヒドロ
キシ−2ーメチループロパノン−【11、融点:890
参考例 5無水テトラヒドロフラン50Mに0.1モル
のアセトンシアノヒドリンテトラヒドロピラニルエー7
ルをとかした溶液に、40分を要して蝿梓下に無水テト
ラヒドロフラン100の【に0.075モルの4−ジメ
チルアミノフエニルマグネシウムプロミドをとかした溶
液を滴加し、この反応混合物をさらに1時間半煮沸する
。
シー2−メチループロパノンー‘1}、沸点岬:88〜
900○1一(4′ーメトキシフエニル)一2ーヒドロ
キシ−2−メチループロパノン−{1’、沸点M:12
5〜12ぱ○1一(4′ービフエニリル)−2ーヒドロ
キシ−2ーメチループロパノン−【11、融点:890
参考例 5無水テトラヒドロフラン50Mに0.1モル
のアセトンシアノヒドリンテトラヒドロピラニルエー7
ルをとかした溶液に、40分を要して蝿梓下に無水テト
ラヒドロフラン100の【に0.075モルの4−ジメ
チルアミノフエニルマグネシウムプロミドをとかした溶
液を滴加し、この反応混合物をさらに1時間半煮沸する
。
次いで、10%硫酸100の‘をこれに加え、この混合
物を再び短時間煮沸し、10%水酸化ナトリウム水溶液
を用いてpHをおよそ10に調節する。この弱アルカリ
反応混合物をジェチルェーテル150の‘を用いて3回
抽出し、エーテル抽出物を合せ、これを水100の‘で
洗浄し、炉過し、硫酸ナトリウムで乾燥する。エーテル
を留去すると1一(4′−ジメチルアミノフエニル)−
2ーヒドロキシ−2ーメチループロパノン−m12夕が
得られ、これはエタノールで再結晶する。融点:115
0〇参考例 6 a ジクロロェタン3000の【に無水塩化アルミニウ
ム10斑夕を懸濁した懸濁液に、まず始めに、6〜10
qoに氷冷しながらィソブチリルクロリド750夕を滴
加し、次いで第3ーブチルベンゼン900夕を入れる。
物を再び短時間煮沸し、10%水酸化ナトリウム水溶液
を用いてpHをおよそ10に調節する。この弱アルカリ
反応混合物をジェチルェーテル150の‘を用いて3回
抽出し、エーテル抽出物を合せ、これを水100の‘で
洗浄し、炉過し、硫酸ナトリウムで乾燥する。エーテル
を留去すると1一(4′−ジメチルアミノフエニル)−
2ーヒドロキシ−2ーメチループロパノン−m12夕が
得られ、これはエタノールで再結晶する。融点:115
0〇参考例 6 a ジクロロェタン3000の【に無水塩化アルミニウ
ム10斑夕を懸濁した懸濁液に、まず始めに、6〜10
qoに氷冷しながらィソブチリルクロリド750夕を滴
加し、次いで第3ーブチルベンゼン900夕を入れる。
この反応混合物を6℃でさらに1時間放置し、次いで室
温で1虫時間放置する。次いでこれをゆっくり燈拝しな
がら、氷水2400の上に濃塩酸600の‘をとかした
溶液に入れ、有機相を分離し、水性溶液をジクロロェタ
ン600の‘を用いて1回洗浄する。有機相を合わせ、
これを5%塩酸500w‘および水500泌を用いて1
回ずつ洗浄し、塩化カルシウムで乾燥し、蒸発させる。
残留する1−(4′−第3ーブチルフェニル)−2−メ
チループロパノン−【1}を減圧下に蒸留する。収率:
1085夕、沸点o.,:擬〜10か○b 塩酸2の‘
および沃素2夕の存在下、メタノール3000の【に1
一(4′一第3ープチルフェニル)一2ーメチループロ
パノン一‘1’1007夕をとかした溶液を50℃で縄
拝しながら、塩素550夕を1時間半を要して通じる。
温で1虫時間放置する。次いでこれをゆっくり燈拝しな
がら、氷水2400の上に濃塩酸600の‘をとかした
溶液に入れ、有機相を分離し、水性溶液をジクロロェタ
ン600の‘を用いて1回洗浄する。有機相を合わせ、
これを5%塩酸500w‘および水500泌を用いて1
回ずつ洗浄し、塩化カルシウムで乾燥し、蒸発させる。
残留する1−(4′−第3ーブチルフェニル)−2−メ
チループロパノン−【1}を減圧下に蒸留する。収率:
1085夕、沸点o.,:擬〜10か○b 塩酸2の‘
および沃素2夕の存在下、メタノール3000の【に1
一(4′一第3ープチルフェニル)一2ーメチループロ
パノン一‘1’1007夕をとかした溶液を50℃で縄
拝しながら、塩素550夕を1時間半を要して通じる。
次いで、この反応混合物をさらに3ひげ間5ぴ0に燭拝
し、溶媒を蟹去する。残留物をトルェン1000の‘に
とり、これを炭酸水素ナトリウム水溶液およびチオ硫酸
ナトリウム水溶液で洗浄して中性にし、塩素を除く。次
いで、トルェンを蟹去し、残留する粗1一(4′ー第3
ーブチルフェニル)−2ークロロー2−メチループロパ
ノンー01をイソプロピルアルコール200肌に溶解す
る。この溶液に32%水酸化ナトリウム水溶液420の
‘を加え、この反応混合物を1時間半煮沸する。冷後、
この反応混合物をトルェン1000の‘で抽出し、この
トルェン抽出物を10%塩化ナトリウム水溶液1000
羽で洗浄し、塩化カルシウムで乾燥し、蒸発させる。残
留する1−(4′ー第3−ブチルフェニル)−2ーヒド
ロキシー2ーメチループロ/ぐノンー(1)を減圧下に
蒸留する。収量:839夕、沸点o.,:132〜13
5q〇同様にして以下の化合物を得ることができる。
し、溶媒を蟹去する。残留物をトルェン1000の‘に
とり、これを炭酸水素ナトリウム水溶液およびチオ硫酸
ナトリウム水溶液で洗浄して中性にし、塩素を除く。次
いで、トルェンを蟹去し、残留する粗1一(4′ー第3
ーブチルフェニル)−2ークロロー2−メチループロパ
ノンー01をイソプロピルアルコール200肌に溶解す
る。この溶液に32%水酸化ナトリウム水溶液420の
‘を加え、この反応混合物を1時間半煮沸する。冷後、
この反応混合物をトルェン1000の‘で抽出し、この
トルェン抽出物を10%塩化ナトリウム水溶液1000
羽で洗浄し、塩化カルシウムで乾燥し、蒸発させる。残
留する1−(4′ー第3−ブチルフェニル)−2ーヒド
ロキシー2ーメチループロ/ぐノンー(1)を減圧下に
蒸留する。収量:839夕、沸点o.,:132〜13
5q〇同様にして以下の化合物を得ることができる。
1−(4′−メチルフエニル)一2ーヒドロキシ−2−
メチループロパノンー【1)、沸点o.5:120〜1
2が○1−(4′ーエチルフエニル)一2−ヒドロキシ
−2ーメチループロパノン−‘1’、沸点M:104〜
109001−(4′一イソプロピルフエニル)一2−
ヒドロキシ−2ーメチループロパノン−‘1’、糠点ぃ
4:108〜109001一(3−クロロ−4′ーメト
キシフニル)一2−ヒドロキシ−2−メチループロパノ
ン−‘1’、融点:舵〜9チ○1一(3′ーブロモー4
′−メトキシフヱニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル
ープロパノンー‘1)、融点:104〜10げ01一(
3′−クロローイーメチルフエニル)−2ーヒドロキシ
−2−メチループロパノン−‘1}、沸点。
メチループロパノンー【1)、沸点o.5:120〜1
2が○1−(4′ーエチルフエニル)一2−ヒドロキシ
−2ーメチループロパノン−‘1’、沸点M:104〜
109001−(4′一イソプロピルフエニル)一2−
ヒドロキシ−2ーメチループロパノン−‘1’、糠点ぃ
4:108〜109001一(3−クロロ−4′ーメト
キシフニル)一2−ヒドロキシ−2−メチループロパノ
ン−‘1’、融点:舵〜9チ○1一(3′ーブロモー4
′−メトキシフヱニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル
ープロパノンー‘1)、融点:104〜10げ01一(
3′−クロローイーメチルフエニル)−2ーヒドロキシ
−2−メチループロパノン−‘1}、沸点。
.7:130〜135℃1一(4′−メチルフヱニル)
−2−ヒドロキシ−2−エチル−へキサノン−(1}、
沸点M:155〜1球。
−2−ヒドロキシ−2−エチル−へキサノン−(1}、
沸点M:155〜1球。
01一(4′ー第3−ブチルフェニル)一2ーヒドロキ
シ−2ーェチルーヘキサノン−‘1’、孫点び2:16
2〜1660以下に挙げる実施例1〜8は、不飽和化合
物の光重合における本発明に係る光増感剤の使用に関す
る。
シ−2ーェチルーヘキサノン−‘1’、孫点び2:16
2〜1660以下に挙げる実施例1〜8は、不飽和化合
物の光重合における本発明に係る光増感剤の使用に関す
る。
実施例 1
部分的に重合したメチルメタクリレートおよびアリルメ
タクリレートを基礎とする市販の注型用樹脂(商品名:
PledtMU51,firmR6hmGmbH社製、
Darmstadt)20夕を、本発明に係る増感剤あ
るいは市販の増感剤0.4夕とそれぞれ鷹合する。
タクリレートを基礎とする市販の注型用樹脂(商品名:
PledtMU51,firmR6hmGmbH社製、
Darmstadt)20夕を、本発明に係る増感剤あ
るいは市販の増感剤0.4夕とそれぞれ鷹合する。
増感剤を完全に溶解して、均一に混合した後、このサン
プルを密閉ガラス容器に入れる60℃の暗所に放置する
。サンプルがゲル化し始める時を一定の時間間隔をおい
て調べた。以下の表に挙げる結果は、さまざまな増感剤
を用いた場合の光重合し得る化合物の階所貯蔵安定性の
めやすを示している。表7 以上の結果は、本発明に係る増感剤を用いた場合、光重
合し得る混合物(実験3)は、既知の感光剤を用いた場
合の混合物(実験1および2)よりも、著しく6音所貯
蔵安定性に優れていることを示している。
プルを密閉ガラス容器に入れる60℃の暗所に放置する
。サンプルがゲル化し始める時を一定の時間間隔をおい
て調べた。以下の表に挙げる結果は、さまざまな増感剤
を用いた場合の光重合し得る化合物の階所貯蔵安定性の
めやすを示している。表7 以上の結果は、本発明に係る増感剤を用いた場合、光重
合し得る混合物(実験3)は、既知の感光剤を用いた場
合の混合物(実験1および2)よりも、著しく6音所貯
蔵安定性に優れていることを示している。
実施例 2
実施例1と同様にして、不飽和ポリエステルおよびスチ
レン(PalatalP.70,fi皿 BASFAG
社製、Ludwigs舷fem)を基礎とする市販の洋
型用樹脂それぞれ20夕と、本発明に係る増感剤および
2種類の既知の増感剤それぞれ0.4夕とからなる光重
合し得る混合物の階所貯蔵安定性を測定した。
レン(PalatalP.70,fi皿 BASFAG
社製、Ludwigs舷fem)を基礎とする市販の洋
型用樹脂それぞれ20夕と、本発明に係る増感剤および
2種類の既知の増感剤それぞれ0.4夕とからなる光重
合し得る混合物の階所貯蔵安定性を測定した。
結果を表既に示す。表8
以上の結果もまた、本発明に係る増感剤の優れた特性を
示している。
示している。
実施例 3
部分的に重合したメチルメタクリレートおよびアリルメ
タクリレートを基礎とする市販の注型用樹脂(商品名:
Piexit MU51,firm R6hmGmbH
社製、Darmstadt)50夕を、増惑剤としての
1一(4′ー第3ーブチルーフェニル)一2ーヒドロキ
シー2ーメチループロバノン一‘11あるいはペンゾイ
ンブチルェーテルそれぞれ1.25夕と混合し、ガラス
板に250ムmの厚さに塗る。
タクリレートを基礎とする市販の注型用樹脂(商品名:
Piexit MU51,firm R6hmGmbH
社製、Darmstadt)50夕を、増惑剤としての
1一(4′ー第3ーブチルーフェニル)一2ーヒドロキ
シー2ーメチループロバノン一‘11あるいはペンゾイ
ンブチルェーテルそれぞれ1.25夕と混合し、ガラス
板に250ムmの厚さに塗る。
塗装直後に、この層を11仇の距離から水銀蒸気ランプ
で30秒間照射する。両方の材料から、粘着性のない表
面を有する固い層が形成される。この層は、本発明に係
る増感剤を使用した場合は無色澄明であるが既知のペン
ゾインェーテルを使用した場合は著しく黄色を示す。実
施例 4 トリメチロールプロパントリアクリレート10夕に1一
(4′ーメチルフエニル)一2−ヒドロキシ−2ーメチ
ループロパノン−‘110.2夕を溶かした溶液をガラ
ス板に50ムmの厚さに塗り、実施例3と同様にして光
照射する。
で30秒間照射する。両方の材料から、粘着性のない表
面を有する固い層が形成される。この層は、本発明に係
る増感剤を使用した場合は無色澄明であるが既知のペン
ゾインェーテルを使用した場合は著しく黄色を示す。実
施例 4 トリメチロールプロパントリアクリレート10夕に1一
(4′ーメチルフエニル)一2−ヒドロキシ−2ーメチ
ループロパノン−‘110.2夕を溶かした溶液をガラ
ス板に50ムmの厚さに塗り、実施例3と同様にして光
照射する。
固い無色のガラスのように透明の非常に光沢のある塗装
が得られる。実施例 5トリメチローループロパントリ
アクリレート10のこ1−(2′,5′ージメチルフヱ
ニル)一2−メトキシー2ーメチルプロパノンー【1ー
0.1夕およびペンゾィンブチルヱーテル0.1夕を溶
かした溶液を、ゴムローラーを用いて白色画用紙に10
0仏mの厚さに塗る。
が得られる。実施例 5トリメチローループロパントリ
アクリレート10のこ1−(2′,5′ージメチルフヱ
ニル)一2−メトキシー2ーメチルプロパノンー【1ー
0.1夕およびペンゾィンブチルヱーテル0.1夕を溶
かした溶液を、ゴムローラーを用いて白色画用紙に10
0仏mの厚さに塗る。
実施例3と同様に光照射すると無色の光沢のある塗装が
得られる。実施例 6 ペンタエリスリツトトリアクリレート16.4夕に1−
(4′一第3−ブチルフェニル)−2ーヒドロキシー2
ーメチルプロバノンー【110.8夕および1一(4′
一イソプロピルフエニル)一2ーヒドロキシ−2ーメチ
ループロパノン一【1}0.8夕をとかした溶液に青銅
フタロシアニン色素2.0夕を分散させる。
得られる。実施例 6 ペンタエリスリツトトリアクリレート16.4夕に1−
(4′一第3−ブチルフェニル)−2ーヒドロキシー2
ーメチルプロバノンー【110.8夕および1一(4′
一イソプロピルフエニル)一2ーヒドロキシ−2ーメチ
ループロパノン一【1}0.8夕をとかした溶液に青銅
フタロシアニン色素2.0夕を分散させる。
縞模様のステロ板をこの分散液で着色し、これを用いて
白紙に印刷した。次いで印刷が施された後の粘着性の印
刷表面を、11肌の距離から、水銀蒸気ランプで2の@
間光照射すると、粘着性のない、消去しない印刷(Mp
e−proofprint)が得られる。実施例 7 トリメチローループロパントリアクリレート10夕に1
−フエニルー2ーヒドロキシ−2ーメチループロパノン
一‘1)0.2夕を溶かした溶液を、白色のつや出し紙
に25ムm用らせんドクターロールを用いて塗布し、こ
の塗装に実施例3と同様にして光照射する。
白紙に印刷した。次いで印刷が施された後の粘着性の印
刷表面を、11肌の距離から、水銀蒸気ランプで2の@
間光照射すると、粘着性のない、消去しない印刷(Mp
e−proofprint)が得られる。実施例 7 トリメチローループロパントリアクリレート10夕に1
−フエニルー2ーヒドロキシ−2ーメチループロパノン
一‘1)0.2夕を溶かした溶液を、白色のつや出し紙
に25ムm用らせんドクターロールを用いて塗布し、こ
の塗装に実施例3と同様にして光照射する。
光沢のある寒色の粘着性のない塗装が得られる。実施例
8 トリメチロールプロパントリアクリレート20夕および
ブタンジオールジアクリレート10夕の混合物に1一(
4′ークロロフェニル)−2ーヒドロキシー2ーメチル
ープロパノン−【1)0.75夕を溶かした溶液を、白
色つや出し紙に、25Am用らせんドクターロールで塗
布し、実施例3と同様に光照射すると、凝色の非常に光
沢にある塗装が得られる。
8 トリメチロールプロパントリアクリレート20夕および
ブタンジオールジアクリレート10夕の混合物に1一(
4′ークロロフェニル)−2ーヒドロキシー2ーメチル
ープロパノン−【1)0.75夕を溶かした溶液を、白
色つや出し紙に、25Am用らせんドクターロールで塗
布し、実施例3と同様に光照射すると、凝色の非常に光
沢にある塗装が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式(I) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は水素、塩素、フエニル、炭素原子数
2〜4のジアルキルアミノあるいはそれぞれ炭素原子数
が18を超えないアルキルまたはアルコキシ、R_2は
水素、塩素、臭素、または、それぞれ炭素原子数が4を
超えないアルキルまたはアルコキシ、R_3およびR_
4は同一または異なつた炭素原子数が6を超えないアル
キル、R_5は水素、またはそれぞれ炭素原子数が4を
超えないアルキルまたはアルカノイル、R_6は水素ま
たはメチルを表わす。 ただし基R_1〜R_6が同時に水素であることはない
〕で示される置換ヒドロキシアルキルフエノンの少なく
とも1種を使用する不飽和化合物の光重合用光増感剤。 2 前記置換ヒドロキシアルキルフエノンの少なくとも
1種を6〜12重量%で使用する色プリント用紫外線硬
化剤である特許請求の範囲第1項記載の光増感剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2722264A DE2722264C2 (de) | 1977-05-17 | 1977-05-17 | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
| DE2722264.6 | 1977-05-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53144539A JPS53144539A (en) | 1978-12-15 |
| JPS6026403B2 true JPS6026403B2 (ja) | 1985-06-24 |
Family
ID=6009210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53057725A Expired JPS6026403B2 (ja) | 1977-05-17 | 1978-05-17 | 不飽和化合物の光重合用光増感剤 |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US4347111A (ja) |
| JP (1) | JPS6026403B2 (ja) |
| AT (1) | AT368170B (ja) |
| BE (1) | BE867137A (ja) |
| BR (1) | BR7803068A (ja) |
| CA (1) | CA1233931A (ja) |
| CH (1) | CH644772A5 (ja) |
| DE (1) | DE2722264C2 (ja) |
| DK (1) | DK152737C (ja) |
| ES (1) | ES469892A1 (ja) |
| FR (1) | FR2391183A1 (ja) |
| GB (2) | GB1598593A (ja) |
| IT (1) | IT1102750B (ja) |
| NL (1) | NL187684C (ja) |
| SE (1) | SE443788B (ja) |
Cited By (104)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0281805A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-22 | Nisshin Kogyo Kk | 貯溜排出装置の排出口開閉装置 |
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
| EP1728838A1 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same |
| EP1955850A2 (en) | 2007-02-07 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
| EP1955858A1 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
| EP1964893A1 (en) | 2007-02-26 | 2008-09-03 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set |
| EP1975213A1 (en) | 2006-07-03 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate |
| EP1975160A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method |
| EP1975211A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and image recording method and image recorded matter using same |
| EP1988136A1 (en) | 2007-03-01 | 2008-11-05 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
| EP2042243A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Coater and ink-jet recording device using the same |
| EP2042572A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2042335A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method |
| EP2088176A1 (en) | 2008-02-07 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material |
| EP2093265A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-26 | FUJIFILM Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
| EP2100925A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative |
| EP2105478A1 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method and inkjet recording system |
| EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
| EP2130881A1 (en) | 2008-06-02 | 2009-12-09 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion and ink composition using the same |
| EP2166049A1 (en) | 2008-09-19 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article |
| EP2169021A1 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
| EP2216378A1 (en) | 2009-02-05 | 2010-08-11 | Fujifilm Corporation | Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article |
| EP2216377A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2228417A1 (en) | 2009-03-09 | 2010-09-15 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
| EP2230284A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
| EP2230285A1 (en) | 2009-03-19 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2236570A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method |
| EP2298841A1 (en) | 2009-09-18 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2311918A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2371912A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-05 | Fujifilm Corporation | Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter |
| EP2371911A1 (en) | 2010-03-29 | 2011-10-05 | Fujifilm Corporation | Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter |
| EP2388146A2 (en) | 2010-05-19 | 2011-11-23 | Fujifilm Corporation | Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition |
| EP2412769A1 (en) | 2010-07-27 | 2012-02-01 | Fujifilm Corporation | Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method |
| EP2423277A2 (en) | 2010-08-27 | 2012-02-29 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article |
| DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
| WO2012117944A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| EP2505622A1 (en) | 2011-03-31 | 2012-10-03 | Fujifilm Corporation | Ink composition and image forming method |
| WO2012133335A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
| WO2013008626A1 (ja) | 2011-07-08 | 2013-01-17 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
| WO2013046679A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition and inkjet recording method |
| WO2013133123A1 (ja) | 2012-03-09 | 2013-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法 |
| EP2644664A1 (en) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| EP2653511A1 (en) | 2012-04-19 | 2013-10-23 | Fujifilm Corporation | Active energy ray-curable ink composition, inkjet recording method, and method for producing in-molded product |
| WO2014041940A1 (ja) | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物および画像形成方法 |
| WO2014050992A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
| WO2014050993A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
| WO2014125942A1 (ja) | 2013-02-15 | 2014-08-21 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
| WO2014136697A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置 |
| WO2014136923A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法 |
| WO2014142101A1 (ja) | 2013-03-12 | 2014-09-18 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、インクセット、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品 |
| US8894197B2 (en) | 2007-03-01 | 2014-11-25 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
| EP2842763A2 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set |
| US9169410B2 (en) | 2006-11-30 | 2015-10-27 | Seiko Epson Corporation | Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these |
| EP2949710A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-02 | Fujifilm Corporation | Radiation-curable ink composition, ink set, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
| WO2017135085A1 (ja) | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2017135088A1 (ja) | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2017135084A1 (ja) | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2017138434A1 (ja) | 2016-02-10 | 2017-08-17 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
| WO2018139658A1 (ja) | 2017-01-30 | 2018-08-02 | 富士フイルム株式会社 | 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| WO2018155174A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
| WO2018155515A1 (ja) | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法 |
| WO2018179947A1 (ja) | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
| WO2018186224A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2018186225A1 (ja) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2018198993A1 (ja) | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
| WO2018235534A1 (ja) | 2017-06-20 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法 |
| WO2019021639A1 (ja) | 2017-07-26 | 2019-01-31 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2019044511A1 (ja) | 2017-08-29 | 2019-03-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法 |
| WO2019064979A1 (ja) | 2017-09-27 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法 |
| WO2019188481A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
| WO2019188482A1 (ja) | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像形成方法 |
| GB201917711D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
| GB201917710D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
| WO2020058665A1 (en) | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes formed from cationic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules |
| WO2020058666A1 (en) | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes made from anionic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions |
| EP3686225A1 (en) | 2015-08-27 | 2020-07-29 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film |
| WO2020179155A1 (ja) | 2019-03-06 | 2020-09-10 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物 |
| WO2020202628A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性インク組成物及び画像記録方法 |
| WO2020201714A1 (en) | 2019-04-02 | 2020-10-08 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes and processes for their preparation and use |
| GB202013838D0 (en) | 2020-09-03 | 2020-10-21 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Composite membrane |
| GB202019478D0 (en) | 2020-12-10 | 2021-01-27 | Fujifilm Corp | Purifying polar liquids |
| GB202113999D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| GB202114000D0 (en) | 2021-09-30 | 2021-11-17 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Membranes |
| WO2022014292A1 (ja) | 2020-07-15 | 2022-01-20 | 富士フイルム株式会社 | セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物 |
| WO2022069383A1 (en) | 2020-09-29 | 2022-04-07 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
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Families Citing this family (134)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
| EP0107198B1 (de) * | 1977-12-22 | 1987-07-08 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von 2-Hydroxy-2-methyl(p-chlorpropiophenon) als Photoinitiator |
| EP0003002B1 (de) | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
| US4351708A (en) | 1980-02-29 | 1982-09-28 | Ciba-Geigy Corporation | Photochemically or thermally polymerizable mixtures |
| DE3010148A1 (de) | 1980-03-15 | 1981-09-24 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Neue gemische auf basis von aromatisch-aliphatischen ketonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische |
| JPS5810525A (ja) * | 1981-06-15 | 1983-01-21 | Sagami Chem Res Center | 光学活性な1−芳香族基置換−1−アルカノン類の製造方法 |
| DE3203096A1 (de) * | 1982-01-30 | 1983-08-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen |
| EP0094347B1 (de) * | 1982-05-07 | 1985-07-10 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von 1-Hydroxyketonen |
| DE3367033D1 (en) * | 1982-06-15 | 1986-11-20 | Ciba Geigy Ag | Process for the photopolymerisation of unsaturated compounds |
| DE3471486D1 (de) * | 1983-08-15 | 1988-06-30 | Ciba Geigy Ag | Photocurable compositions |
| US4946874A (en) * | 1983-10-26 | 1990-08-07 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers |
| US5169879A (en) * | 1983-10-26 | 1992-12-08 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
| US5124212A (en) * | 1983-10-26 | 1992-06-23 | Dow Corning Corporation | Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
| US5162389A (en) * | 1983-10-26 | 1992-11-10 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index |
| US4780486A (en) * | 1983-10-26 | 1988-10-25 | Dow Corning Corporation | Fast ultraviolet radiation curing silicone composition |
| IT1176018B (it) * | 1984-04-12 | 1987-08-12 | Lamberti Flli Spa | Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione |
| DE3512179A1 (de) * | 1985-04-03 | 1986-12-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen |
| US4906675A (en) * | 1986-02-12 | 1990-03-06 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Active energy ray-curable composition |
| FI863015A7 (fi) * | 1986-07-22 | 1988-01-23 | Petri Porras | Akrylaatti/uretaani UV-kuivatusjärjestelm |
| DE3768919D1 (en) * | 1986-11-26 | 1991-05-02 | Ciba Geigy Ag | Fluessige photoinitiatorgemische. |
| US4902724A (en) * | 1986-12-22 | 1990-02-20 | General Electric Company | Photocurable acrylic coating composition |
| US4902725A (en) * | 1986-12-22 | 1990-02-20 | General Electric Company | Photocurable acrylic coating composition |
| MX169697B (es) * | 1987-12-28 | 1993-07-19 | Ppg Industries Inc | Mejoras a composiciones fraguables por radiacion basadas sobre poliesteres insaturados y compuestos teniendo por lo menos dos grupos de vinil eter |
| DE3826947A1 (de) * | 1988-08-09 | 1990-02-22 | Merck Patent Gmbh | Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung |
| US5340653A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-23 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions comprising vinyl ether and urethane malenate compounds |
| AU4191089A (en) * | 1988-08-12 | 1990-03-05 | Desoto Inc. | Photo-curable vinyl ether compositions |
| US5334455A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
| US5334456A (en) * | 1988-08-12 | 1994-08-02 | Stamicarbon B.V. | Free-radical curable compositions |
| WO1990010661A1 (en) * | 1989-03-07 | 1990-09-20 | Desoto, Inc. | Free-radical curable compositions |
| JPH04505027A (ja) * | 1989-03-07 | 1992-09-03 | デーエスエム ナムローゼ フェンノートシャップ | 遊離基硬化性組成物 |
| AU646221B2 (en) * | 1989-03-07 | 1994-02-17 | Dsm N.V. | Free-radical curable compositions |
| US4943600A (en) * | 1989-03-10 | 1990-07-24 | Desoto, Inc. | Photocurable polyamine-ene compositions having improved cure speed |
| US4987159A (en) * | 1990-04-11 | 1991-01-22 | Fratelli Lamberti S.P.A. | Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use |
| US5202359A (en) * | 1990-05-17 | 1993-04-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoinitiators that are soluble in highly fluorinated monomers |
| DE4022234A1 (de) * | 1990-07-12 | 1992-01-16 | Herberts Gmbh | Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen |
| US6376569B1 (en) * | 1990-12-13 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Hydrosilation reaction utilizing a (cyclopentadiene)(sigma-aliphatic) platinum complex and a free radical photoinitiator |
| US6046250A (en) * | 1990-12-13 | 2000-04-04 | 3M Innovative Properties Company | Hydrosilation reaction utilizing a free radical photoinitiator |
| US5559163A (en) * | 1991-01-28 | 1996-09-24 | The Sherwin-Williams Company | UV curable coatings having improved weatherability |
| US5773487A (en) * | 1991-05-15 | 1998-06-30 | Uv Coatings, Inc. | Finishing composition which is curable by UV light and method of using same |
| WO1992020719A1 (en) * | 1991-05-15 | 1992-11-26 | Sokol Andrew A | Finishing composition which is curable by uv light and method of using same |
| US5667227A (en) * | 1992-04-13 | 1997-09-16 | Dana Corporation | Ultraviolet radiation cured gasket coating |
| CA2089996C (en) * | 1992-04-13 | 2004-04-27 | Brent R. Boldt | Ultraviolet radiation curable gasket coating |
| EP0662991A1 (en) * | 1992-09-30 | 1995-07-19 | Ppg Industries, Inc. | Pigmented compositions and methods for producing radiation curable coatings of very low gloss |
| DE4302123A1 (de) * | 1993-01-27 | 1994-07-28 | Herberts Gmbh | Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern |
| US5631049A (en) * | 1993-07-27 | 1997-05-20 | Boldt; Brent R. | Process of curing a gasket coating |
| US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
| US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
| US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
| US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
| US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
| US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
| CA2120838A1 (en) | 1993-08-05 | 1995-02-06 | Ronald Sinclair Nohr | Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation |
| US5700850A (en) | 1993-08-05 | 1997-12-23 | Kimberly-Clark Worldwide | Colorant compositions and colorant stabilizers |
| US5643356A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-01 | Kimberly-Clark Corporation | Ink for ink jet printers |
| US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
| US6211383B1 (en) | 1993-08-05 | 2001-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Nohr-McDonald elimination reaction |
| US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
| US5685754A (en) * | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
| US6242057B1 (en) | 1994-06-30 | 2001-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition and applications therefor |
| US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
| US5739175A (en) | 1995-06-05 | 1998-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer |
| US6008268A (en) | 1994-10-21 | 1999-12-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor |
| US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
| US5811199A (en) | 1995-06-05 | 1998-09-22 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Adhesive compositions containing a photoreactor composition |
| MX9709250A (es) | 1995-06-05 | 1998-03-31 | Kimberly Clark Co | Pre-tintes novedosos. |
| US5747550A (en) | 1995-06-05 | 1998-05-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material |
| US5849411A (en) | 1995-06-05 | 1998-12-15 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition |
| US5798015A (en) | 1995-06-05 | 1998-08-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition |
| MX9710016A (es) | 1995-06-28 | 1998-07-31 | Kimberly Clark Co | Colorantes novedosos y modificadores de colorante. |
| WO1997045458A1 (en) * | 1995-09-26 | 1997-12-04 | Uv Coatings Limited | Finishing composition which is curable by uv light and method of using same |
| US6099628A (en) | 1996-03-29 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| EP0854896B1 (en) | 1995-11-28 | 2002-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Light-stabilized dyestuff compositions |
| US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| DE19546899C1 (de) * | 1995-12-15 | 1997-01-09 | Herberts Gmbh | Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels |
| US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
| SG53043A1 (en) * | 1996-08-28 | 1998-09-28 | Ciba Geigy Ag | Molecular complex compounds as photoinitiators |
| DE19635447C1 (de) * | 1996-08-31 | 1997-11-20 | Herberts Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung |
| AU720650B2 (en) * | 1997-02-19 | 2000-06-08 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | (Co)polymers by Photopolymerization |
| US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| PL338379A1 (en) | 1998-06-03 | 2000-10-23 | Kimberly Clark Co | Novel photoinitiators and their application |
| EP1062285A2 (en) | 1998-06-03 | 2000-12-27 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts and microemulsion technology for inks and ink jet printing |
| JP2002520470A (ja) | 1998-07-20 | 2002-07-09 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良されたインクジェットインク組成物 |
| CA2353685A1 (en) | 1998-09-28 | 2000-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Chelates comprising chinoid groups as photoinitiators |
| ES2207485T3 (es) * | 1999-01-12 | 2004-06-01 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Benzofenonas y su uso como fotoiniciadores. |
| AU2853000A (en) | 1999-01-19 | 2000-08-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods ofmaking the same |
| US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
| US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
| US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
| SE9903748D0 (sv) * | 1999-10-19 | 1999-10-19 | Amersham Pharm Biotech Ab | Method and kit for the manufacture of separation gels |
| KR100772772B1 (ko) | 2000-06-19 | 2007-11-01 | 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. | 신규한 광개시제 및 그의 용도 |
| US6350792B1 (en) | 2000-07-13 | 2002-02-26 | Suncolor Corporation | Radiation-curable compositions and cured articles |
| AU2002234551A1 (en) | 2000-12-13 | 2002-06-24 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Surface-active photoinitiators |
| ITVA20010011A1 (it) * | 2001-04-24 | 2002-10-24 | Lamberti Spa | Miscele solide di derivati alfa-idrossicarbonilici di oligomeri dell'alfa-metilstirene e loro uso. |
| TWI312786B (en) * | 2001-11-08 | 2009-08-01 | Ciba Sc Holding Ag | Novel difunctional photoinitiators |
| CA2418294A1 (en) * | 2002-03-08 | 2003-09-08 | Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft | Imaging method for printing forms |
| DE10248111A1 (de) * | 2002-10-15 | 2004-04-29 | Goldschmidt Ag | Verwendung von Photoinitiatoren vom Typ Hydroxyalkylphenon in strahlenhärtbaren Organopolysiloxanen für die Herstellung von abhäsiven Beschichtungen |
| MXPA05010951A (es) * | 2003-04-16 | 2005-11-25 | Ciba Sc Holding Ag | Tinta para la impresion de inyeccion de tinta, curable por radiacion, que contiene un alfa-hidroxi-cetona como fotoiniciador. |
| ITVA20030028A1 (it) * | 2003-08-07 | 2005-02-08 | Lamberti Spa | Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore. |
| DE10359764A1 (de) * | 2003-12-19 | 2005-07-14 | Goldschmidt Ag | Polysiloxane mit über SiOC-Gruppen gebundenen (Meth)acrylsäureestergruppen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung als strahlenhärtbare abhäsive Beschichtung |
| US7151123B2 (en) * | 2004-02-04 | 2006-12-19 | Ecology Coating, Inc. | Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof |
| US7192992B2 (en) * | 2004-02-04 | 2007-03-20 | Ecology Coating, Inc. | Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating thermally sensitive surfaces and/or rusted surfaces and methods, processes and assemblages for coating thereof |
| US20050170101A1 (en) * | 2004-02-04 | 2005-08-04 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly assemblages, facilities, and processes for applying an opaque,100% solids, actinic radiation curable coating to objects |
| US20050170100A1 (en) * | 2004-02-04 | 2005-08-04 | Weine Ramsey Sally J. | Process for applying an opaque, corrosion resistant, 100% solids, UV curable finish to parts for underhood use in motor vehicles |
| US7425586B2 (en) * | 2004-02-04 | 2008-09-16 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof |
| US7498362B2 (en) * | 2004-03-08 | 2009-03-03 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom and methods, processes and assemblages for coating thereof |
| CA2558425A1 (en) * | 2004-03-08 | 2005-09-22 | Ecology Coating, Inc. | Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof |
| US7323248B2 (en) * | 2004-03-13 | 2008-01-29 | Ecology Coatings, Inc. | Environmentally friendly coating compositions for coating composites, coated composites therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof |
| US20050203205A1 (en) * | 2004-03-13 | 2005-09-15 | Weine Ramsey Sally J. | Composition of matter comprising UV curable materials incorporating nanotechnology for the coating of fiberglass |
| JP4544913B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2010-09-15 | 富士フイルム株式会社 | 表面グラフト形成方法、導電性膜の形成方法、金属パターン形成方法、多層配線板の形成方法、表面グラフト材料、及び導電性材料 |
| US20050234152A1 (en) * | 2004-04-16 | 2005-10-20 | Ecology Coatings, Inc. | Enviromentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating surfaces of wooden objects and methods, processes and assemblages for coating thereof |
| JP4967378B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2012-07-04 | セイコーエプソン株式会社 | インク組成物 |
| JP5472670B2 (ja) | 2007-01-29 | 2014-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法及び記録物 |
| DE102007005508A1 (de) | 2007-02-03 | 2008-08-07 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Reduktion des Trennwert-Anstiegs bei der Herstellung von No-Label-Look-Etiketten |
| US9199934B2 (en) * | 2007-04-04 | 2015-12-01 | Basf Se | Alpha-hydroxyketones |
| JP4816976B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2011-11-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光硬化型インク組成物 |
| EP2028241A1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-25 | Seiko Epson Corporation | Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter |
| JP4766281B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2011-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物 |
| JP2009269397A (ja) | 2008-02-29 | 2009-11-19 | Seiko Epson Corp | 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置 |
| JP5623416B2 (ja) | 2008-11-03 | 2014-11-12 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 光開始剤混合物 |
| JP2011152747A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Seiko Epson Corp | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
| JP5692490B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2015-04-01 | セイコーエプソン株式会社 | 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物 |
| US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
| US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
| US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
| DE102011106816B9 (de) * | 2011-05-30 | 2018-05-30 | Kulzer Gmbh | Nach Härtung bruchresistentes Prothesenbasismaterial, erhalten aus autopolymerisierenden oder kaltpolymerisierenden Zusammensetzungen |
| US9650357B2 (en) | 2013-06-24 | 2017-05-16 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Reagent for enhancing generation of chemical species |
| CN104250207A (zh) * | 2013-06-30 | 2014-12-31 | 江苏英力科技发展有限公司 | 一种制备2-甲基-1-[4-(叔丁基)苯基]-1-丙酮的方法 |
| CN105517990B (zh) * | 2013-08-12 | 2018-10-02 | 太阳化学公司 | 低聚氨基酮及其作为光敏引发剂的用途 |
| EP3053908B1 (en) * | 2013-09-30 | 2018-12-19 | FUJIFILM Corporation | Method for producing alpha-halogenoacetophenon compound, and alpha-bromoacetophenon compound |
| CN105152898B (zh) * | 2015-06-23 | 2017-04-26 | 杭华油墨股份有限公司 | 苯基丁酮衍生物与其作为光引发剂的应用 |
| EP3395793B9 (en) * | 2017-04-24 | 2021-09-29 | IGM Group B.V. | Process for the preparation of alpha-functionalized ketones |
| EP3395806B1 (en) | 2017-04-24 | 2020-04-08 | IGM Group B.V. | Simple oxidative functionalization of alkyl aryl ketones |
| JP2024033515A (ja) * | 2022-08-30 | 2024-03-13 | 株式会社村田製作所 | 感光性ペースト、配線パターンの形成方法、電子部品の製造方法および電子部品 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2647080A (en) * | 1950-06-30 | 1953-07-28 | Du Pont | Light-stabilized photopolymerization of acrylic esters |
| US2892865A (en) * | 1957-09-20 | 1959-06-30 | Erba Carlo Spa | Process for the preparation of tertiary esters of benzoylcarbinol |
| DE1769854U (de) | 1958-05-03 | 1958-07-10 | Schloemann Ag | Blockvorstoss an oefen mit stirnseitiger ausstossoeffnung. |
| NL125868C (ja) * | 1964-01-29 | |||
| DE1668734A1 (de) * | 1967-10-17 | 1971-10-07 | Takeda Chemical Industries Ltd | Alkylbenzoylcarbinolester und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US3660542A (en) * | 1969-12-11 | 1972-05-02 | Takeda Chemical Industries Ltd | Alkylbenzoylcarbinol phosphate esters |
| GB1408265A (en) * | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
| FR2156486A1 (en) | 1971-10-22 | 1973-06-01 | Roussel Uclaf | Oxazolyl oxy or thio acetic acids - analgesics antipyretics and anti-inflammatories |
| US3715293A (en) | 1971-12-17 | 1973-02-06 | Union Carbide Corp | Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings |
| US3801329A (en) * | 1971-12-17 | 1974-04-02 | Union Carbide Corp | Radiation curable coating compositions |
| US3933682A (en) * | 1973-01-31 | 1976-01-20 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerization co-initiator systems |
| FR2235907A1 (en) * | 1973-07-06 | 1975-01-31 | Union Carbide Corp | Aryl diakoxy methyl ketone prepn. - from alkyl nitrite, aryl methyl ketone and alkanol, used as photo-sensitisers in polymer hardening |
| DE2343362A1 (de) | 1973-08-28 | 1975-03-13 | Merck & Co Inc | Verfahren zum fotolyitschen abbau von propylketon oder aethylesterverbindungen unter ergaenzung von aethylen zur verwendung als bioregelung oder herbizid |
| GB1494191A (en) * | 1973-12-17 | 1977-12-07 | Lilly Industries Ltd | Preparation of alpha-acyloxy aldehydes and ketones |
| JPS5831433B2 (ja) * | 1974-06-27 | 1983-07-06 | 東洋紡績株式会社 | ポリエステルセンイセイヒンノ ナツセンホウホウ |
| US4017652A (en) * | 1974-10-23 | 1977-04-12 | Ppg Industries, Inc. | Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same |
| US4054719A (en) * | 1976-11-23 | 1977-10-18 | American Cyanamid Company | Phenacyl ester photosensitizers for radiation-curable coatings |
| DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
| US4142054A (en) * | 1977-06-16 | 1979-02-27 | The Upjohn Company | Process for preparing arylalkanoic acid derivatives |
| EP0003002B1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
| DE2962442D1 (de) * | 1978-07-13 | 1982-05-19 | Ciba Geigy Ag | Compositions photodurcissables |
-
1977
- 1977-05-17 DE DE2722264A patent/DE2722264C2/de not_active Expired
-
1978
- 1978-05-11 GB GB3923/80A patent/GB1598593A/en not_active Expired
- 1978-05-11 GB GB18937/78A patent/GB1598592A/en not_active Expired
- 1978-05-12 FR FR7814247A patent/FR2391183A1/fr active Granted
- 1978-05-15 IT IT49364/78A patent/IT1102750B/it active
- 1978-05-16 CH CH531078A patent/CH644772A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 AT AT0353078A patent/AT368170B/de not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 BR BR7803068A patent/BR7803068A/pt unknown
- 1978-05-16 SE SE7805579A patent/SE443788B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 DK DK214978A patent/DK152737C/da not_active IP Right Cessation
- 1978-05-16 ES ES469892A patent/ES469892A1/es not_active Expired
- 1978-05-16 CA CA000303400A patent/CA1233931A/en not_active Expired
- 1978-05-17 NL NLAANVRAGE7805346,A patent/NL187684C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-05-17 BE BE2056979A patent/BE867137A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-05-17 JP JP53057725A patent/JPS6026403B2/ja not_active Expired
-
1979
- 1979-11-26 US US06/099,792 patent/US4347111A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-08-16 US US06/408,576 patent/US4477681A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-08-31 US US06/646,285 patent/US4721734A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (114)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0281805A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-22 | Nisshin Kogyo Kk | 貯溜排出装置の排出口開閉装置 |
| EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
| EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
| EP3182204A1 (en) | 2004-09-10 | 2017-06-21 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition |
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
| EP1728838A1 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same |
| EP1975213A1 (en) | 2006-07-03 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate |
| US9169410B2 (en) | 2006-11-30 | 2015-10-27 | Seiko Epson Corporation | Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these |
| US9790386B2 (en) | 2006-11-30 | 2017-10-17 | Seiko Epson Corporation | Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these |
| EP1955858A1 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
| EP1955850A2 (en) | 2007-02-07 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
| EP1964893A1 (en) | 2007-02-26 | 2008-09-03 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set |
| EP1988136A1 (en) | 2007-03-01 | 2008-11-05 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
| US9616675B2 (en) | 2007-03-01 | 2017-04-11 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
| US8894197B2 (en) | 2007-03-01 | 2014-11-25 | Seiko Epson Corporation | Ink set, ink-jet recording method, and recorded material |
| EP1975211A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and image recording method and image recorded matter using same |
| EP1975160A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method |
| EP2042243A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Coater and ink-jet recording device using the same |
| EP2042335A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method |
| EP2042572A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2088176A1 (en) | 2008-02-07 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material |
| EP2093265A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-26 | FUJIFILM Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
| EP2100925A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative |
| EP2105478A1 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method and inkjet recording system |
| EP2130881A1 (en) | 2008-06-02 | 2009-12-09 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion and ink composition using the same |
| EP2166049A1 (en) | 2008-09-19 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article |
| EP2169021A1 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
| EP2216378A1 (en) | 2009-02-05 | 2010-08-11 | Fujifilm Corporation | Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article |
| EP2216377A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
| EP2228417A1 (en) | 2009-03-09 | 2010-09-15 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
| EP2230284A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
| EP2230285A1 (en) | 2009-03-19 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
| EP2236570A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method |
| EP2298841A1 (en) | 2009-09-18 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2311918A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
| EP2371911A1 (en) | 2010-03-29 | 2011-10-05 | Fujifilm Corporation | Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter |
| EP2371912A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-05 | Fujifilm Corporation | Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter |
| EP2388146A2 (en) | 2010-05-19 | 2011-11-23 | Fujifilm Corporation | Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition |
| EP2412769A1 (en) | 2010-07-27 | 2012-02-01 | Fujifilm Corporation | Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method |
| EP2423277A2 (en) | 2010-08-27 | 2012-02-29 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article |
| WO2012117944A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
| EP3124557A1 (en) | 2011-02-28 | 2017-02-01 | Fujifilm Corporation | Ink composition, image forming method, and printed matter |
| WO2012133335A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
| EP2505622A1 (en) | 2011-03-31 | 2012-10-03 | Fujifilm Corporation | Ink composition and image forming method |
| WO2013008626A1 (ja) | 2011-07-08 | 2013-01-17 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及び画像形成方法 |
| WO2013046679A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition and inkjet recording method |
| WO2013133123A1 (ja) | 2012-03-09 | 2013-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法 |
| EP2644664A1 (en) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| EP2653511A1 (en) | 2012-04-19 | 2013-10-23 | Fujifilm Corporation | Active energy ray-curable ink composition, inkjet recording method, and method for producing in-molded product |
| WO2014041940A1 (ja) | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物および画像形成方法 |
| WO2014050993A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
| WO2014050992A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
| WO2014125942A1 (ja) | 2013-02-15 | 2014-08-21 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜及びその製造方法 |
| WO2014136923A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法 |
| WO2014136697A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置 |
| WO2014142101A1 (ja) | 2013-03-12 | 2014-09-18 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、インクセット、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品 |
| EP2842763A2 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set |
| EP2949710A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-02 | Fujifilm Corporation | Radiation-curable ink composition, ink set, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| EP3686225A1 (en) | 2015-08-27 | 2020-07-29 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film |
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| WO2020201714A1 (en) | 2019-04-02 | 2020-10-08 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes and processes for their preparation and use |
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| GB201917711D0 (en) | 2019-12-04 | 2020-01-15 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
| WO2021110467A1 (en) | 2019-12-04 | 2021-06-10 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use |
| WO2022014292A1 (ja) | 2020-07-15 | 2022-01-20 | 富士フイルム株式会社 | セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物 |
| GB202013838D0 (en) | 2020-09-03 | 2020-10-21 | Fujifilm Mfg Europe Bv | Composite membrane |
| WO2022049193A1 (en) | 2020-09-03 | 2022-03-10 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Composite membrane |
| WO2022069383A1 (en) | 2020-09-29 | 2022-04-07 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
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| WO2022069386A1 (en) | 2020-09-30 | 2022-04-07 | Fujifilm Manufacturing Europe Bv | Membranes |
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| GB202019478D0 (en) | 2020-12-10 | 2021-01-27 | Fujifilm Corp | Purifying polar liquids |
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