DK152737B - Anvendelse af substituerede hydroxyalkylphenoner som fotosensibilisatorer - Google Patents

Anvendelse af substituerede hydroxyalkylphenoner som fotosensibilisatorer Download PDF

Info

Publication number
DK152737B
DK152737B DK214978AA DK214978A DK152737B DK 152737 B DK152737 B DK 152737B DK 214978A A DK214978A A DK 214978AA DK 214978 A DK214978 A DK 214978A DK 152737 B DK152737 B DK 152737B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
methyl
carbon atoms
hydroxy
propanone
alkyl
Prior art date
Application number
DK214978AA
Other languages
English (en)
Other versions
DK214978A (da
DK152737C (da
Inventor
Juergen Gehlhaus
Manfred Kieser
Original Assignee
Merck Patent Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent Gmbh filed Critical Merck Patent Gmbh
Publication of DK214978A publication Critical patent/DK214978A/da
Publication of DK152737B publication Critical patent/DK152737B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK152737C publication Critical patent/DK152737C/da

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/004—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with organometalhalides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
    • C07C45/46—Friedel-Crafts reactions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/63—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/64—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of functional groups containing oxygen only in singly bound form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/673—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by change of size of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C07C45/70—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form
    • C07C45/71—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form being hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/80—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C07C49/83—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups polycyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
    • C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
    • C08F299/04—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyesters
    • C08F299/0407—Processes of polymerisation
    • C08F299/0421—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F299/0428—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F299/0435—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/07—Aldehydes; Ketones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10—Esters; Ether-esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/124—Carbonyl compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)

Description

DK 1S2737B
Mange reaktioner i den organiske kemi fremmes eller gøres overhovedet først mulige ved bestråling med synligt lys eller ultraviolet stråling (UV). Til disse reaktioner hører f.eks. spaltningsreaktioner, f.eks. i vitamin D-rækken, omlejringsreaktioner, f.eks. cis-trans-isomeriseringer, og additionsreaktioner, f.eks. addition af maleinsyreanhydrid til benzen. De teknisk vigtigste af disse additionsreaktioner er imidlertid de fotokemisk initierede polymerisationsreaktioner .
Ved alle disse reaktioner er det nødvendigt, at i det mindste en bestanddel af reaktionsblandingen er i stand til at absorbere det indstrålede lys eller UV. Når denne bestanddel er én af reaktionsdeltagerne, kan reaktionerne uden yderligere tilsætninger simpelt hen udføres ved bestråling af reaktionsblandingen med lys
2 DK 152737 B
eller UV. Ofte er imidlertid ikke nogen af reaktionsdeltagerne i stand til at absorbere den fotokemisk virksomme stråling i tilstrækkeligt omfang. I disse tilfælde tilsættes der ofte stoffer, som kaldes fotosensibilisatorer, hvilke stoffer ganske vist ikke tager del i den ønskede reaktion, men er i stand til at absorbere indstrålet lys eller UV og overføre den herved optagne energi til en af reaktionsdeltagerne. Væsentlige kriterier for udvælgelsen af sådanne sensibilisatorer er bl.a. arten af den reaktion, der skal udføres, forholdet mellem sensibilisatorens absorptionsspektrum og den spektrale energifordeling for den til rådighed stående strålekilde, sensibilisatorens opløselighed i reaktionsblandingen samt den påvirkning af slutproduktet, der skyldes de i slutproduktet tilbageblivende rester af sensibilisatoren og/eller de ud fra sen-sibilisatoren under den fotokemiske reaktion dannede produkt.
Som sensibilisatorer til fotopolymerisationen af umættede forbindelser er hidtil hovedsagelig blevet anvendt benzophenonderivater, benzoinethere, benzilmonoacetaler og α-halogenacetophenonderivater. Disse stoffer har imidlertid forskellige ulemper, som i betydelig grad begrænser deres tekniske anvendelighed. Til disse ulemper hører især den egenskab, at de monomere eller præpolymere, som er tilsat forbindelser af disse klasser, allerede uden bestråling -i mørke - polymeriserer, dvs. at mange reaktionsblandinger med sådanne sensibilisatorer kun har en ringe mørkestabilitet. Andre forbindelser af disse klasser har kun en ringe kemisk stabilitet; således spaltes f.eks. mange benzilmonoacetaler allerede af meget små vandmængder, f.eks. ved luftens fugtighed, til benzil og alkohol. Andre af disse kendte sensibilisatorer bevirker endelig en gulfarvning af de med disse fremstillede polymerisater, hvilken gulfarvning især er højst uønsket ved sædvanligvis farveløse formstoffer eller især ved UV-hærdede trykfarver. Til det sidstnævnte anvendelsesområde spiller også den ofte ringe opløselighed af de kendte sensibilisatorer i de monomere eller præpolymere en vigtig rolle. Da trykfarver i reglen indeholder betragtelige mængder af farvede pigmenter, som absorberer en stor del af den inds-t^å'le'Se energi, uden at den bliver fotokemisk virksom, må der her tilsættes en større mængde sensibilisator. Denne mængde er her hyppigt 5 -10 vægtprocent, beregnet på reaktionsblandingen, dvs. trykfarven,
3 DK 152737 B
medens 1-2 vægtprocent ofte er fuldstændigt tilstrækkeligt i formstofindustrien i fravær af farvende tilsætninger. Denne koncentration kan for det meste også stadig opnås med de lidet opløselige kendte sensibilisatorer. Ved de i trykfarver nødvendige koncentrationer sker der hyppigt delvis udkrystallisation af de kendte sensibilisatorer? bortset fra, at de udkrystalliserede andele ikke mere bliver virksomme til sensibilisering, beskadiger de dannede krystaller også efter nogen tid de af relativt bløde materialer bestående trykplader.
Med den foreliggende opfindelse tilvejebringes fotosensibilisatorer, især til fotopolymerisationen af umættede forbindelser, som i blanding med de andre reaktionsdeltagere er mørkeoplagringsstabile, og som hverken selv eller på grund af deres følgeprodukter forårsager nogen gulfarvning af reaktionsprodukterne, og som har en så høj opløselighed som muligt i de monomere eller præpolymere, som sædvanligvis underkastes en fotopolymerisation. Desuden skal de i bølgelængdeområdet 250 - 500 nm, fortrinsvis mellem 300 og 400 nm, have en så kraftig fotosensibiliserende virkning som muligt.
Opfindelsen angår anvendelse som fotosensibilisatorer af mindst én substitueret hydroxyalkylphenon med den almene formel I
R6\ 3
V- R
R1-^ -CO-C-R4 j R2 OR5 hvor R^ betegner hydrogen, phenyl, dialkylamino med 2-4 carbonato- 2
mer eller alkyl eller alkoxy med hver højst 18 carbonatomer, R
betegner hydrogen, chlor, brom, alkyl eller alkoxy med hver højst 3 4 4 carbonatomer, R og R , som kan være ens eller forskellige, hver betegner alkyl med højst 6 carbonatomer og tilsammen 2-10 5 carbonatomer, R betegner hydrogen, alkyl eller alkanoyl med hver 6 1 højst 4 carbonatoftier, og R betegner hydrogen eller, når R beteg- 2 ner hydrogen, og R betegner 2-methyl, tillige methyl.
4 DK 152737 B
Det har vist sig, at forbindelserne med den almene formel I har en god fotosensibiliserende virkning for stråling i bølgelængdeområdet 250 - 500 nm og er tydelig bedre opløselige end de fleste hidtil anvendte sensibilisatorer i de fleste til fotopolymerisation anvendte monomere eller præpolymere, f.eks. sådanne på basis af umættede estere såsom acrylsyreestere, methacrylsyreestere eller maleinsyreestere, eller styren. Opløsningerne af fotosensibili-satorerne med den almene formel I i disse monomere og præpolymere har desuden i reglen en bedre mørkeopbevaringsstabilitet end f.eks. analoge opløsninger af benzoinethere. Endvidere iagttages der ved fotopolymerisationer med sensibilisatorerne med den almene formel I ikke nogen gulfarvning af polymerisaterne eller kun en gulfarvning, som er væsentlig mindre end ved de hidtil sædvanlige sensibilisatorer.
Opfindelsen angår således anvendelsen af forbindelser med den almene formel I som fotosensibilisatorer, især til fotopolymerisation af umættede forbindelser samt til UV-hærdning af trykfarver.
Hidtil ukendte forbindelser er sådanne, som har den almene formel II
r1 “Cp*—co’fE4 11 2 OR5 ir hvor R1 betegner hydrogen, phenyl, dialkylamino med 2-4 carbon- atomer eller alkyl eller alkoxy med hver højst 18 carbonatomer, 2 R betegner hydrogen, chlor, brom, alkyl eller alkoxy med hver 3 4 højst 4 carbonatomer, R og R, som kan have samme eller forskellig betydning, betegner hver alkyl med højst 6 carbonatomer og 5 tilsammen 2-10 carbonatomer, og R betegner hydrogen, alkyl eller alkanoyl med hver højst 4 carbonatomer, med det forbehold, 12 3 4 at ikke R og R samt R og R samtidig er hydrogenatomer, at 1 2 ikke R er methyl, methoxy eller phenyl, når R er hydrogen samt 3 4 2 1 R og R methyl, og at ikke R er methyl, når R er hydrogen 3 4 samt R og R methyl.
DK 152737 B
Med hensyn til de fælles strukturkarakteristika hos de hidtil sædvanligt anvendte fotosensibilisatorer, som i reglen indeholder 2 eventuelt substituerede phenylkerner, hvis aromatiske systemer er krydskonjugerede over et eller to carbonatomer, er det overraskende, at de hydroxyalkylketoner, som anvendes ifølge opfindelsen, med kun én aromatisk ring har en så god fotosensibilisator-virkning. Ganske vist er også acetophenon og derivater af aceto-phenon allerede blevet foreslået og anvendt som fotosensibilisatorer, især til fotokemiske cycloadditioner, men de med forbindelser af denne klasse opnåede resultater, især de kvantitative udbytter af de dermed sensibiliserede fotokemiske reaktioner, var imidlertid for det meste tydeligt dårligere end de f.eks. med benzophenon opnåede resultater.
I den almene formel I betegner R1 fortrinsvis alkyl eller alkoxy med højst 18 carbonatomer, dialkylamino med 2-4 carbonatomer eller phenyl. Særlig foretrukne grupper er alkylgrupper med højst 12 carbonatomer eller dimethylaminogruppen. R2 er fortrinsvis hydrogen, men kan også f.eks. være et chlor- eller bromatom eller en methyl- eller methoxygruppe, som befinder sig i 2-stilling, fortrinsvis imidlertid i 3-stilling, i phenylkernen.
3 4
Især foretrækkes forbindelser, i hvilke begge symboler R og R betegner alkylgrupper, som tilsammen indeholder 2-10, fortrinsv-vis 2-8, carbonatomer.
5 5 R er fortrinsvis hydrogen. Når R er en alkyl- eller alkanoyl- gruppe, foretrækkes blandt disse methyl, ethyl og acetyl. R er fortrinsvis hydrogen og er kun en methylgruppe i det tilfælde, 1 2 hvor R er hydrogen, og R er en 2-methylgruppe.
I overensstemmelse hermed anvendes ifølge opfindelsen især sådanne forbindelser med den almene formel I som fotosensibilisatorer, i 1 fi hvilke mindst ét af symbolerne R - R har én af de ovenfor nævnte foretrukne betydninger. Nogle ifølge opfindelsen fortrinsvis anvendte klasser af forbindelser kan udtrykkes ved følgende delformler la - lp, som svarer til den almene formel I, og hvorhos de ikke nærmere betegnede symboler har samme betydning som i den almene formel I, men hvor imidlertid la R1 betegner alkyl med 1-12 carbonatomer, 6
DK 152737 B
i Ic R^ betegner dimethylamino, 2 i Id R betegner hydrogen, 2 i le R betegner 3-chlor, 3-brom, 3-methyl eller 3-methoxy, 1 2 i If R betegner alkyl med 1-4 carbonatomer, og R har en af de i sammenhæng med le angivne betydninger, 3 4 i Ig R og R betegner methylgrupper, i Ih R3 betegner ethyl og R4 n-butyl, 3 4 i li R betegner methyl og R ethyl, 5 i Ij R betegner hydrogen, 5 i Ik R betegner methyl, ethyl eller acetyl, 1 2 5
i II R betegner alkyl med 3-12 carbonatomer, og R og R
betegner hydrogen, 1 2 i Im R betegner alkyl med 3-12 carbonatomer, R betegner 3 4 hydrogen, og R og R betegner methyl, 1 2 i In R betegner alkyl med 1-12 carbonatomer, R betegner 3 4 hydrogen, R betegner ethyl, og R betegner n-butyl, g i lo R betegner hydrogen, og 12 6 i lp Rx betegner hydrogen, R betegner 2-methyl, og R° betegner methyl.
Fremstillingen af nogle af de ifølge opfindelsen anvendte forbindelser med den almene formel I er kendt fra Bull.Soc.Chim.France 1967, 1047 - 1052, J.Arner.Chem.Soc. T5_ (1953) , 5975 - 5978 og Zh.Obshch. Khim (1964), 24 - 28. Deres fremragende fotosensibiliserende virkning er imidlertid ikke beskrevet i disse litteratursteder og gøres ikke nærliggende af disse. De hidtil ukendte forbindelser med den almene formel I kan i analogi med de i de nævnte litteratursteder beskrevne forbindelser fremstilles efter standardmetoder i den organiske kemi.
Ved en foretrukken fremstillingsfremgangsmåde omsættes et benzenderivat med den almene formel III
R6 R1-/ y—h R2 111
7 DK 152737 B
12 6
hvor R , R og R har den ovenfor anførte betydning, i nærværelse af en Lewis-syre, f.eks. aluminiumchlorid, med et a-halogencar-boxylsyrechlorid med den almene formel IV
R3 I 4
Hal-CO-C-R IV
Hal 3 4
hvor R og R har den ovenfor anførte betydning, og Hal betegner et halogenatom, fortrinsvis chlor eller brom, og den således vundne α-halogenketon med den almene formel V
R1 2
Ri_y^_co-L4 v
Hal 1 2 3 4 6 hvor R"1, R , R , R , R° og Hal har den ovenfor anførte betydning, hydrolyseres på i og for sig sædvanlig måde til dannelse af hy- 5 droxyalkylphenonen med den almene formel I, hvor R er hydrogen.
3 4 Når R og R er alkylgrupper, kan denne hydrolyse udføres ved simpel opvarmning af α-halogenketonen V med en koncentreret opløsning af et alkalimetalhydroxid i et med vand blandbart opløsningsmiddel, f.eks. methanol, ethanol, isopropanol, acetone eller dimethylsulfoxid.
5
Alkanoyloxyalkylphenoner med den almene formel I (R = alka- noyl) kan fremstilles ved acylering af hydroxyalkylphenonerne (I, 5 R = H) med egnede carboxylsyrederivater, f.eks. carboxylsyrean-hydrider eller -halogenider.
2
Alkoxyalkylphenonerne med den almene formel I (R = alkyl) kan f.eks. fremstilles ved omsætning af α-halogenketonerne V med et alkoholat, f.eks. natriumethylat, i et vandfrit organisk opløsningsmiddel, f.eks. ethanol.
8 DK 152737 B
Foruden ved Friedel-Crafts-omsætningen af forbindelsen III med forbindelsen IV kan α-halogenketonerne V også fremstilles ved halogener ing, f.eks. chlorering eller bromering, af en phenon med den almene formel VI
R6 \ ^E3
R1-({ y-CO-CH VI
XK4 k2 hvor R^", R3, R3 , R^ og R^ har den ovenfor anførte betydning, på i og for sig sædvanlig måde.
Denne fremgangsmåde anvendes fortrinsvis i de tilfælde, hvor phenonen VI er lettilgængelig, og der ved halogeneringen ikke optræder nogen sidereaktioner, f.eks. halogenering af benzylposi- X 2 6 tionerede carbonatomer i R , R og/eller R .
Endvidere kan hydroxyalkylphenonerne med den almene formel I fremstilles ved, at en Grignard-forbindelse med den almene formel VII
R6
r1-^~\-Mg-Hal VII
:i2 X 2 6
hvor Rx, R , R° og Hal har den ovenfor anførte betydning, omsættes med en på oxygenatomet beskyttet cyanhydrin med den almene formel VIII
NC yR3 \/
C VIII
/\4
Sch-0 R
hvor Sch-O- betegner en over for Grignard-forbindelser bestandig, beskyttet hydroxylgruppe, f.eks. en tetrahydropyranylethergruppe,
9 DK 152737 B
*3 A
og RJ og R4 har den ovenfor anførte betydning, hvorefter reaktions-blandingen på i og for sig kendt måde hydrolyseres i nærværelse af en syre. Denne fremstillingsfremgangsmåde foretrækkes til syntese af forbindelserne med den almene formel I, hvor R^ er en dialkyl-aminogruppe.
Anvendelsen af fotosensibilisatorerne ifølge opfindelsen sker på for sådanne produkter sædvanlig måde. F.eks. opløser man til fotopolymerisation af umættede forbindelser i disse materialer, deres præpolymere eller præ-copolymere 0,05 - 15 vægtprocent, fortrinsvis 0,1 - 12 vægtprocent, af én eller flere forbindelser med den almene formel I, eventuelt sammen med andre, allerede kendte fotosensibilisatorer og bestråler disse opløsninger med lys eller UV-stråling af bølgelængdeområdet 250 - 500 nm, fortrinsvis 300 - 400 nm. Som umættede forbindelser, der kan fotopolymerise-res med sensibilisatorerne ifølge opfindelsen, kommer alle sådanne forbindelser i betragtning, hvis C=C-dobbeltbindinger er aktiveret af f.eks. halogenatomer, carbonyl-, cyano-, carboxy-, ester-, amid-, ether- eller arylgrupper eller af konjugerede andre dobbelt- eller tredobbeltbindinger. Eksempler på sådanne forbindelser er vinylchlorid, vinylidenchlorid, acrylsyremethylester, acrylonitril, hydroxyethylacrylat, cyclohexylacrylat, hydroxypro-pylacrylat, hydroxyethylmethacrylat, benzylacrylat, 2-ethylhexyl-acrylat, phenyloxyethylacrylat, lavere alkoxyethoxyacrylat, tetra-hydrofurfurylacrylat, N-vinylpyrrolidon, N-vinylcarbazol, vinylacetat, styren, divinylbenzen og substituerede styrener. Også flere gange umættede forbindelser såsom trimethylolpropandiacry-lat, propoxyleret bisphenol-A-diacrylat og -dimethacrylat og 1,6--hexandiol-diacrylat og pentaerythritoltriacrylat kan fotopolyme-riseres med sensibilisatorerne ifølge opfindelsen. Som præpolymere og præ-copolymere kommer i betragtning f.eks. umættede polyestere, acrylmaterialer, epoxymaterialer, urethaner, siliconer, amin-polyamid-harpikser og især acrylerede harpikser såsom acryleret siliconolie, acryleret polyester, acrylerede urethaner, acrylerede polyamider, acryleret sojaolie, acryleret epoxyharpiks og acryleret acrylharpiks.
De fotopolymeriserbare forbindelser eller blandinger kan være stabiliseret ved tilsætning af kendte inhibitorer i de sædvanlige
10 DK 152737 B
mængder, uden at der derved sker nogen nævneværdig skadelig indvirkning på de ifølge opfindelsen anvendte fotosensibilisatorers sensibilisatorvirkning. Endvidere kan de indeholde de i de fotokemisk hærdnende trykfarver sædvanlige pigmenter eller farvestoffer.
I dette tilfælde vælges sensibilisatormængden højere, f.eks. 6 -12 vægtprocent, medens 0,1-3 vægtprocent i de fleste tilfælde er fuldt tilstrækkeligt til farveløse fotopolymeriserbare produkter. Som kendte fotosensibilisatorer, der eventuelt kan anvendes sammen med sensibilisatorerne ifølge opfindelsen, kan f.eks. nævnes Michler's keton (4,4'-bis[dimethylamino]benzophenon), 4,4'-bis(diethylamino)benzophenon, p-dimethylaminobenzaldehyd, 4,4'-bis(dimethylamino)benzil, p-dimethylaminobenzophenon, p-di-methylaminobenzoin, p-dimethylaminobenzil, N-substituerede 9-acrida-noner, de i USA patentskrift nr. 36 61 588 beskrevne amino-(eller phenyl-)carbonylforbindelser, de i USA patentskrift nr. 35 52 973 beskrevne p-aminophenylcarbonylforbindelser, acetophenon, propio-phenon, xanthon, benzaldehyd, benzophenon, p-chlorbenzophenon, biacetyl, benzil, fluorenon, 3-nitro-4-chlorbenzophenon-2-carboxyl-syre, phenanthrenquinon, benzoin og alkylethere af benzoin, 2-chlor-thioxanthon, 10-thioxanthenon, 1-phenyl-l,2-propandionoxim og esterne og etherne deraf, isatin, anthron, hydroxypropylbenzoat, benzoylbenzoatacrylat, 2,4-dimethylbenzophenon, benzoylbiphenyl, acenaphthenoquinon eller dibenzosuberon. Som strålekilder til udførelse af fotopolymerisationen kan anvendes sollys eller kunstige stråleapparater. Fordelagtige er kviksølvdamp-højtrykseller -lavtrykslamper, xenon- og wolframlamper, men laserlyskilder kan ligeledes anvendes.
Opfindelsen belyses nærmere ved følgende eksempler. I disse eksempler er temperaturerne angivet i °C, og koncentrations- og procentangivelser er, når intet andet er angivet, beregnet på vægtbasis. Trykangivelser ved kogepunkter er i Pa.
Eksempel 1-6 angår fremstillingen af de ifølge opfindelsen anvendte forbindelser med den almene formel I:
11 DK 152737 B
Eksempel 1.
Til en suspension af 665 g aluminiumchlorid i 2000 ml 1,2-dichlor-ethan sættes ved 0°C 740 g α-chlorisobutyrylchlorid (fremstillet ved chlorering af isobutyrylchlorid i nærværelse af katalytiske mængder chlorsulfonsyre og chloranil). Til denne blanding dryppes under kraftig omrøring ved 0 - 5°C 1230 g kommercielt teknisk dodecylbenzen (Marlican® fra Chemische Werke Huls AG, Mari) .
Når tilsætningen er tilendebragt, omrøres reaktionsblandingen i yderligere 45 minutter ved nævnte temperatur, hvorpå den røres ud i en blanding af 1000 g is og 400 ml koncentreret saltsyre. Den organiske fase fraskilles, vaskes to gange med hver gang 300 ml fortyndet saltsyre, tørres over calciumchlorid og inddampes. Det som remanens vundne 1-(41-dodecylphenyl)-2-chlor-2-methyl-propa-non-(l) opløses under omrøring og let opvarmning i 2000 ml iso-propylalkohol. Denne opløsning opvarmes i 1 1/2 time til kogning sammen med 550 ml 32%'s vandig natriumhydroxidopløsning under omrøring, hvorefter blandingen hældes ud i 2000 ml vand. Den vandige reaktionsblanding ekstraheres med 1000 ml toluen, og ekstrakten vaskes med 1000 ml 10%'s vandig natriumchloridopløsning, tørres over natriumsulfat og inddampes. Det som remanens vundne 1-(4'-dodecylphenyl)--2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1) destilleres under reduceret tryk, kogepunkt 180 - 183°C/1,33 Pa.
På analog måde fremstilles følgende forbindelser: 1-(4'-Hexylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1— (41-octylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-nonylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-hexadecylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-octadecylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-hexyloxyphenyl)-2-hydroxy~2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-octyloxyphenyl)-2~hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1—(4 *-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-ethyl-hexanon-(1), 1-(4'-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1) og
12 DK 152737 B
l-phenyl-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), kogepunkt 86 - 88°C/39,9 Pa.
Eksempel 2.
I analogi med eksempel 1 fremstilles med 133 g aluminiumchlorid i 500 ml dichlorethan ud fra 141 g α-chlorisobutyrylchlorid og 92 g toluen forbindelsen 1-(4'-methylphenyl)-2-chlor-2-methylpropanon--(1), og råproduktet opløses i 500 ml vandfrit methanol. Under omrøringen tildryppes en opløsning af 54 g natriummethylat i 1500 ml methanol/ og reaktionsblandingen opvarmes til 60°C og henstår derefter i 16 timer. Derefter frafiltreres det udfældede natrium-chlorid, og filtratet inddampes. Det som remanens vundne 1-(4'-methylphenyl )-2-methoxy-2-methyl-propanon destilleres under reduceret tryk. Der fås 98/4 g produkt med kogepunkt 75 - 77°C/3/99 Pa.
På analog måde fremstilles følgende forbindelser: 1-(4'-Methylphenyl)-2-ethoxy-2-methy1-propanon-(1), 1-(4'-methylphenyl)-2-butoxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-isopropylphenyl)-2-ethoxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-pentylphenyl)-2-methoxy-2-methyl-propanon-(1), 1—(4'-methylphenyl)-2-methoxy-2-ethyl-hexanon-(1) og 1-(4'-dodecylphenyl)-2-ethoxy-2-methyl-propanon-(1).
Eksempel 3.
I analogi med eksempel 1 fremstilles med 335 g aluminiumchlorid i 1000 ml dichlorethan ud fra 300 g toluen og 455 g a-chlorpropio-nylchlorid 550 g af forbindelsen 1-(4'-methylphenyl)-2-chlorpropa-non-(l). Råmaterialet opløses i 3000 ml ethanol og opvarmes i 15 timer til kogning sammen med 392 g vandfrit kaliumacetat. Derefter inddampes reaktionsblandingen under reduceret tryk, og remanensen optages i 2500 ml diethylether og filtreres. Filtratet inddampes, og det som remanens vundne 1-(4'-methylphenyl)-2-acetoxy-propanon--(1) destilleres under reduceret tryk. Udbyttet er 364 g, kogepunkt 115 - 122°C/39/9 Pa.
13 DK 152737 B
På analog måde fremstilles følgende forbindelser: 4-tert.butyl-a~acetoxy-acetophenon, kogepunkt 140 - 143°C/39,9 Pa, og 1- (4 '-tert.butylphenyl) -2-acetoxy-2'-methyl-propanon- (1), kogepunkt 144 - 148°C/39,9 Pa.
Eksempel 4.
Til en opløsning af 371 g 1-(4'-methylphenyl)-2-acetoxypropanon--(1) i 3000 ml isopropylalkohol sættes en opløsning af 151 g natri-umhydrogencarbonat i 1200 ml vand, og blandingen opvarmes i 15 timer til kogning under omrøring. Derefter afdestilleres opløsningsmidlet under reduceret tryk, og remanensen optages i 500 ml vand og ekstraheres tre gange med hver gang 300 ml diethylether.
De forenede etherekstrakter tørres over natriumsulfat og inddampes. Det som remanens vundne 1-(4’-methylphenyl)-2-hydroxypropa-non-(l) destilleres under reduceret tryk. Udbyttet er 224 g, kogepunkt 85 - 90°C/39,9 Pa.
På analog måde fremstilles følgende forbindelser: 1-(31,4'-dimethylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), kogepunkt 88 - 90°C/79,8 Pa, 1- (4'-methoxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), kogepunkt 125 - 129°C/13,3 Pa, 1-(41-biphenylyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), smeltepunkt 85°C, 1- (4'-isopropylphenyl)-2-hydroxy-butanon-(1) og 1-(41-nonylphenyl)-2-hydroxy-hexanon-(1).
Eksempel 5.
Til en opløsning af 0,1 mol acetonecyanhydrin-tetrahydropyranyl-ether i 50 ml vandfrit tetrahydrofuran dryppes i løbet af 40 minutter under omrøring en opløsning af 0,075 mol 4-dimethyl-aminophe-nyl-magnesiumbromid i 100 ml vandfrit tetrahydrofuran, og reak-
DK 152737 B
tionsblandingen opvarmes derefter i yderligere 1,5 timer til kogning. Derefter tilsættes 100 ml lOS's vandig svovlsyre, og blandingen opvarmes endnu engang kort tid til kogning, hvorefter den med 10%'s vandig natriumhydroxidopløsning indstilles på en pH--værdi på ca. 10. Den svagt alkaliske reaktionsblanding ekstrahe-res tre gange med hver gang 150 ml diethylether, og de forenede etherekstrakter udvaskes med 100 ml vand, filtreres og tørres over natriumsulfat. Efter afdestillation af etheren fås som remanens 12 g 1-(4'-dimethylaminophenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), som omkrystalliseres af ethanol. Smeltepunkt 115°C.
På analog måde fremstilles følgende forbindelser: 1-(41-Diethylaminophenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-ethoxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(41-butyloxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1—(41-dimethylaminophenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1) og 1-(41-dimethylaminophenyl)-2-hydroxy-2-ethyl-butanon-(1).
Eksempel 6.
a) Til en suspension af 1038 g vandfrit aluminiumchlorid i 3000 ml dichlorethan dryppes ved 6 - 10°C under isafkøling først 750 g isobutyrylchlorid og derefter 900 g tert.butylbenzen. Reaktionsblandingen henstår i yderligere 1 time ved 6°C og derefter i 15 timer ved stuetemperatur. Derefter indrøres den langsomt i en opløsning af 600 ml koncentreret saltsyre i 2400 ml isvand, den organiske fase fraskilles, og den vandige opløsning udvaskes én gang med 600 ml dichlorethan. De forenede organiske faser vaskes hver én gang med 500 ml 5%'s saltsyre og 500 ml vand, tørres over calciumchlorid og inddampes. Det som remanens vundne l-(4'-tert.- butylphenyl)-2-methyl-propanon-(1) destilleres under reduceret tryk. Udbytte 1085 g, kogepunkt 98 - 102°C/13,3 Pa.
b) Til en opløsning af 1007 g 1-(41-tert.butylpheny1)-2-methyl--propanon-(1) i 3000 ml methanol ledes i nærværelse af 2 ml koncentreret saltsyre og 2 g iod ved 50°C under omrøring 550 g chlor i løbet af 1,5 timer. Derefter omrøres reaktionsblandingen i yder-
15 DK 152737B
ligere 30 minutter ved 50°C, hvorpå opløsningsmidlet afdestille- res. Remanensen optages i 1000 ml toluen og vaskes neutral og chlorfri med vandig natriumhydrogencarbonatopløsning og vandig na-triumthiosulfatopløsning. Derefter afdestilleres toluenet, og det som remanens vundne rå 1-(4'-tert.butylphenyl)-2-chlor-2-methyl--propanon-(1) opløses i 2000 ml isopropylalkohol. Til denne opløsning sættes 420 ml 32%'s vandig natriumhydroxidopløsning, og reaktionsblandingen opvarmes til kogning i 1,5 timer. Efter afkøling udrystes reaktionsblandingen med 1000 ml toluen, og toluenekstrakten vaskes med 1000 ml 10%'s vandig natriumchloridopløsning, tørres over calciumchlorid og inddampes. Det som remanens vundne 1- (4'-tert.butylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropanon-(1) destilleres under reduceret tryk. Udbyttet er 839 g, kogepunkt 132 - 135°C/ 13,3 Pa.
På analog måde fremstilles: 1-(41-Methylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), kogepunkt 120 - 122°C/66,5 Pa, 1-(41-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), kogepunkt 104 - 109°C/39,9 Pa, 1-(4'-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), kogepunkt 108 - 109°C/53,2 Pa, 1-(31-chlor-41-methoxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), smeltepunkt 92 - 93°C, 1-(3'-brom-41-methoxyphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), smeltepunkt 104 - 106°C, 1-(3'-chlor-4'-methylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), kogepunkt 130 - 135°C/93,1 Pa, 1-(2',5'-dimethylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1—(2',4'-dimethylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-methylphenyl)-2-hydroxy-2-ethyl-hexanon-(1), kogepunkt 155 - 158°C/39,9 Pa, 1-(4'-tert.butylphenyl)-2-hydroxy-2-ethyl-hexanon-(1), kogepunkt 162 - 166°C/26,6 Pa, 1-(4'-isopentylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1), 1-(4'-methylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1), 1-(4'-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1), 1-(4'-tert.butylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-butanon-(1) og 1 — i 'λ ' . 4 ' -ή i mp.-hhvl nhprtvl 1 — 2-hvr3rnw-9.-Tnp-f-hv1 -hnf.annn- Π \ .
16 DK 152737 B
De nedenstående eksempler 7-14 angår anvendelsen af fotosensibi-lisatorerne ifølge opfindelsen ved fotopolymerisation af umættede forbindelser.
Eksempel 7.
Til portioner på 20 g af en kommerciel støbeharpiks på basis af delvis polymeriseret methylmethacrylat og allylmethacrylat (Piexit® MU 51 fra firmaet Rohm GmbH, Darmstadt) sættes 0,4 g af en sen-sibilisator ifølge opfindelsen eller et kommercielt sammenligningsprodukt. Efter fuldstændig opløsning af sensibilisatoren og ensartet gennemblanding oplagres prøverne i lukkede glasflasker i mørke ved 60°C„ Med regelmæssige tidsintervaller konstateres det, om prøverne er begyndt at gelere. De i nedenstående tabel sammenfattede resultater er et mål for mørkelagerstabiliteten af foto-polymeriserbare blandinger under anvendelse af de forskellige sensibilisatorer :
Tabel B VII
Forsøg nr. Sensibilisator Mørkelagerstabilitet (dage) 1 1,2-diphenyl-2,2-dimethoxy- 4 -ethanon-(1) 2 benzoinbutylether 0,5 3 1-(41-dodecylphenyl)-2-hydro- 5 xy-2-methy1-propanon-(1)
Resultaterne viser, at fotopolymeriserbare blandinger med sensibilisatoren ifølge opfindelsen (forsøg 3) har en tydelig bedre mørkelagerstabilitet end blandinger med de kendte sensibilisato- / „ s*„ 1 O \
17 DK 152737 B
Eksempel 8.
I analogi med eksempel 7 bestemmes mørkelagerstabiliteten af foto-polymeriserbare blandinger, der hver består af 20 g af en kommerciel støbeharpiks på basis af umættede polyestere og styren (Palatal P 70 fra firmaet BASF AG, Ludwigshafen) og henholdsvis 0,4 g af en sensibilisator ifølge opfindelsen og to kendte sensi-bilisatorer. Resultaterne er sammenfattet i tabel B VIII:
Tabel B VIII
Forsøg nr. Sensibilisator tførkelagerstabilitet (dage) 1 1,2-diphenyl-2,2-dimethoxy- 7 -ethanon-(1) 2 benzoinbutylether 8 3 1-(4'-dodecylphenyl)-2-hydro- 12 xy-2-methyl-propanon-(1)
Også disse resultater beviser de overlegne egenskaber, der udvises af den ifølge opfindelsen anvendte sensibilisator.
Eksempel 9.
Til portioner på 50 g af en kommerciel støbeharpiks på basis af delvis polymeriseret methylmethacrylat og allylmethacrylat (Piexit® MU 51 fra firmaet Rohm GmbH, Darmstadt) sættes 1,25 g l-(4'-tert.-butylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1) henholdsvis benzoin-
18 DK 152737 B
butylether som sensibilisator, og blandingerne udstryges på glasplader til lag med tykkelse 25Qyum. Straks efter udstrygningen bestråles lagene 30 sekunder fra en afstand på 11 cm med en kviksølvdamplampe. Af begge materialer dannes et hårdt lag med ikke-klæbrig overflade, hvilket lag ved anvendelse af den ifølge opfindelsen benyttede sensibilisator er farveløst og klart, medens det ved anvendelse af den kendte benzoinether derimod har en tydelig gullig farvning.
Eksempel 10.
En opløsning af 0,2 g 1-(4'-methylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-pro-panon-(1) i 10 g trimethylolpropantriacrylat udstryges på en glasplade til et 50^um tykt lag og bestråles som beskrevet i eksempel 9. Der fås et hårdt, farveløst, glasklart overtræk med højglans.
Eksempel 11.
En opløsning af 0,1 g 1-(21,5'-dimethylphenyl)-2-methoxy-2-methyl-propanon-(l) og 0,1 g benzoinbutylether i 10 g trimethylolpropantriacrylat påføres med en gummivalse i et lag på ca. lOO^um på hvidt tegnepapir. Efter bestråling som beskrevet i eksempel 9 fås et farveløst, skinnende lag.
Eksempel 12.
I en opløsning af 0,8 g 1-(41-tert.butylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(l) og 0,8 g 1-(4'-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(l) i 16,4 g pentaerythritoltriacrylat dispergeres 2,0 g blåt kobber-phthalocyanin-pigment ensartet. Med denne dispersion indfarves en rasterkliché, og hvidt papir påtrykkes dermed. Den efter trykningen klæbrige trykoverflade bestråles derefter i 20 sekunder fra en afstand på 11 cm med en kviksølvdamplampe. Der fås et klæbefrit, gnidefast tryk.

Claims (2)

19 DK 152737 B Eksempel 13. En opløsning af 0,2 g l-phenyl-2-hydroxy-2-methyl-propanon-(1) i trimethylolpropantriacrylat påføres med 25 ^um-spiralskraber på hvidt, glittet papir, og laget bestråles på samme måde som beskrevet i eksempel 9. Der fås et skinnende, farveløst, klæbefrit lag. Eksempel 14. En opløsning af 0,75 g 1-(4'-chlorphenyl)-2-hydroxy-2-methyl-pro-panon-(l) i en blanding af 20 g trimethylolpropantriacrylat og 10 g butandioldiacrylat påføres med en 25 yum-spiralskraber på hvidt, glittet papir, og der bestråles som beskrevet i eksempel 9. Der fås et farveløst lag med højglans.
1. Anvendelse af mindst én substitueret hydroxyalkylphenon med den almene formel I R6 \_ R3 R1-/ VcO-i-R4 I
2 OR5 R hvor R^ betegner hydrogen, phenyl, dialkylamino med 2-4 carbon- atomer eller alkyl eller alkoxy med hver højst 18 carbonatomer, 2 R betegner hydrogen, chlor, brom, alkyl eller alkoxy med hver 3 4 hø-jst 4 carbonatomer, S og R- , som kan vær-e-eij-s -eller forskellige,"Ever betegner aTkyl med højst 6 carbonatomer og tilsammen 5 2-10 carbonatomer, R betegner hydrogen, alkyl eller alkanoyl med hver højst 4 carbonatomer, og R^ betegner hydrogen eller, når R betegner hydrogen, og R betegner 2-methyl, tillige methyl, som fotosensibilisator ved fotopolymerisation af umættede forbindelser.
20 DK 152737 B
2. Anvendelse af en substitueret hydroxyalkylphenon som fotosen-sibilisator ifølge krav 1 ved UV-hærdning af trykfarver.
DK214978A 1977-05-17 1978-05-16 Anvendelse af substituerede hydroxyalkylphenoner som fotosensibilisatorer DK152737C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2722264A DE2722264C2 (de) 1977-05-17 1977-05-17 Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
DE2722264 1977-05-17

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK214978A DK214978A (da) 1978-11-18
DK152737B true DK152737B (da) 1988-05-02
DK152737C DK152737C (da) 1988-10-03

Family

ID=6009210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK214978A DK152737C (da) 1977-05-17 1978-05-16 Anvendelse af substituerede hydroxyalkylphenoner som fotosensibilisatorer

Country Status (15)

Country Link
US (3) US4347111A (da)
JP (1) JPS6026403B2 (da)
AT (1) AT368170B (da)
BE (1) BE867137A (da)
BR (1) BR7803068A (da)
CA (1) CA1233931A (da)
CH (1) CH644772A5 (da)
DE (1) DE2722264C2 (da)
DK (1) DK152737C (da)
ES (1) ES469892A1 (da)
FR (1) FR2391183A1 (da)
GB (2) GB1598593A (da)
IT (1) IT1102750B (da)
NL (1) NL187684C (da)
SE (1) SE443788B (da)

Families Citing this family (238)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
EP0107198B1 (de) * 1977-12-22 1987-07-08 Ciba-Geigy Ag Verwendung von 2-Hydroxy-2-methyl(p-chlorpropiophenon) als Photoinitiator
EP0003002B1 (de) 1977-12-22 1984-06-13 Ciba-Geigy Ag Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone
US4351708A (en) 1980-02-29 1982-09-28 Ciba-Geigy Corporation Photochemically or thermally polymerizable mixtures
DE3010148A1 (de) 1980-03-15 1981-09-24 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Neue gemische auf basis von aromatisch-aliphatischen ketonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische
JPS5810525A (ja) * 1981-06-15 1983-01-21 Sagami Chem Res Center 光学活性な１−芳香族基置換−１−アルカノン類の製造方法
DE3203096A1 (de) * 1982-01-30 1983-08-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen
EP0094347B1 (de) * 1982-05-07 1985-07-10 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von 1-Hydroxyketonen
DE3367033D1 (en) * 1982-06-15 1986-11-20 Ciba Geigy Ag Process for the photopolymerisation of unsaturated compounds
DE3471486D1 (de) * 1983-08-15 1988-06-30 Ciba Geigy Ag Photocurable compositions
US4946874A (en) * 1983-10-26 1990-08-07 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers
US5169879A (en) * 1983-10-26 1992-12-08 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5124212A (en) * 1983-10-26 1992-06-23 Dow Corning Corporation Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5162389A (en) * 1983-10-26 1992-11-10 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index
US4780486A (en) * 1983-10-26 1988-10-25 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
IT1176018B (it) * 1984-04-12 1987-08-12 Lamberti Flli Spa Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione
DE3512179A1 (de) * 1985-04-03 1986-12-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen
US4906675A (en) * 1986-02-12 1990-03-06 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Active energy ray-curable composition
FI863015A7 (fi) * 1986-07-22 1988-01-23 Petri Porras Akrylaatti/uretaani UV-kuivatusjärjestelm
DE3768919D1 (en) * 1986-11-26 1991-05-02 Ciba Geigy Ag Fluessige photoinitiatorgemische.
US4902724A (en) * 1986-12-22 1990-02-20 General Electric Company Photocurable acrylic coating composition
US4902725A (en) * 1986-12-22 1990-02-20 General Electric Company Photocurable acrylic coating composition
MX169697B (es) * 1987-12-28 1993-07-19 Ppg Industries Inc Mejoras a composiciones fraguables por radiacion basadas sobre poliesteres insaturados y compuestos teniendo por lo menos dos grupos de vinil eter
DE3826947A1 (de) * 1988-08-09 1990-02-22 Merck Patent Gmbh Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung
US5340653A (en) * 1988-08-12 1994-08-23 Stamicarbon B.V. Free-radical curable compositions comprising vinyl ether and urethane malenate compounds
AU4191089A (en) * 1988-08-12 1990-03-05 Desoto Inc. Photo-curable vinyl ether compositions
US5334455A (en) * 1988-08-12 1994-08-02 Stamicarbon B.V. Free-radical curable compositions
US5334456A (en) * 1988-08-12 1994-08-02 Stamicarbon B.V. Free-radical curable compositions
JPH0281805A (ja) * 1988-09-19 1990-03-22 Nisshin Kogyo Kk 貯溜排出装置の排出口開閉装置
WO1990010661A1 (en) * 1989-03-07 1990-09-20 Desoto, Inc. Free-radical curable compositions
JPH04505027A (ja) * 1989-03-07 1992-09-03 デーエスエム ナムローゼ フェンノートシャップ 遊離基硬化性組成物
AU646221B2 (en) * 1989-03-07 1994-02-17 Dsm N.V. Free-radical curable compositions
US4943600A (en) * 1989-03-10 1990-07-24 Desoto, Inc. Photocurable polyamine-ene compositions having improved cure speed
US4987159A (en) * 1990-04-11 1991-01-22 Fratelli Lamberti S.P.A. Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use
US5202359A (en) * 1990-05-17 1993-04-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoinitiators that are soluble in highly fluorinated monomers
DE4022234A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-16 Herberts Gmbh Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen
US6376569B1 (en) * 1990-12-13 2002-04-23 3M Innovative Properties Company Hydrosilation reaction utilizing a (cyclopentadiene)(sigma-aliphatic) platinum complex and a free radical photoinitiator
US6046250A (en) * 1990-12-13 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Hydrosilation reaction utilizing a free radical photoinitiator
US5559163A (en) * 1991-01-28 1996-09-24 The Sherwin-Williams Company UV curable coatings having improved weatherability
US5773487A (en) * 1991-05-15 1998-06-30 Uv Coatings, Inc. Finishing composition which is curable by UV light and method of using same
WO1992020719A1 (en) * 1991-05-15 1992-11-26 Sokol Andrew A Finishing composition which is curable by uv light and method of using same
US5667227A (en) * 1992-04-13 1997-09-16 Dana Corporation Ultraviolet radiation cured gasket coating
CA2089996C (en) * 1992-04-13 2004-04-27 Brent R. Boldt Ultraviolet radiation curable gasket coating
EP0662991A1 (en) * 1992-09-30 1995-07-19 Ppg Industries, Inc. Pigmented compositions and methods for producing radiation curable coatings of very low gloss
DE4302123A1 (de) * 1993-01-27 1994-07-28 Herberts Gmbh Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern
US5631049A (en) * 1993-07-27 1997-05-20 Boldt; Brent R. Process of curing a gasket coating
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US5700850A (en) 1993-08-05 1997-12-23 Kimberly-Clark Worldwide Colorant compositions and colorant stabilizers
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US5685754A (en) * 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
MX9709250A (es) 1995-06-05 1998-03-31 Kimberly Clark Co Pre-tintes novedosos.
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
US5849411A (en) 1995-06-05 1998-12-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
MX9710016A (es) 1995-06-28 1998-07-31 Kimberly Clark Co Colorantes novedosos y modificadores de colorante.
WO1997045458A1 (en) * 1995-09-26 1997-12-04 Uv Coatings Limited Finishing composition which is curable by uv light and method of using same
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
EP0854896B1 (en) 1995-11-28 2002-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Light-stabilized dyestuff compositions
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
DE19546899C1 (de) * 1995-12-15 1997-01-09 Herberts Gmbh Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
DE19635447C1 (de) * 1996-08-31 1997-11-20 Herberts Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung
AU720650B2 (en) * 1997-02-19 2000-06-08 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. (Co)polymers by Photopolymerization
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
PL338379A1 (en) 1998-06-03 2000-10-23 Kimberly Clark Co Novel photoinitiators and their application
EP1062285A2 (en) 1998-06-03 2000-12-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Neonanoplasts and microemulsion technology for inks and ink jet printing
JP2002520470A (ja) 1998-07-20 2002-07-09 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 改良されたインクジェットインク組成物
CA2353685A1 (en) 1998-09-28 2000-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Chelates comprising chinoid groups as photoinitiators
ES2207485T3 (es) * 1999-01-12 2004-06-01 Clariant Finance (Bvi) Limited Benzofenonas y su uso como fotoiniciadores.
AU2853000A (en) 1999-01-19 2000-08-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods ofmaking the same
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
SE9903748D0 (sv) * 1999-10-19 1999-10-19 Amersham Pharm Biotech Ab Method and kit for the manufacture of separation gels
KR100772772B1 (ko) 2000-06-19 2007-11-01 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. 신규한 광개시제 및 그의 용도
US6350792B1 (en) 2000-07-13 2002-02-26 Suncolor Corporation Radiation-curable compositions and cured articles
AU2002234551A1 (en) 2000-12-13 2002-06-24 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Surface-active photoinitiators
ITVA20010011A1 (it) * 2001-04-24 2002-10-24 Lamberti Spa Miscele solide di derivati alfa-idrossicarbonilici di oligomeri dell'alfa-metilstirene e loro uso.
TWI312786B (en) * 2001-11-08 2009-08-01 Ciba Sc Holding Ag Novel difunctional photoinitiators
CA2418294A1 (en) * 2002-03-08 2003-09-08 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Imaging method for printing forms
DE10248111A1 (de) * 2002-10-15 2004-04-29 Goldschmidt Ag Verwendung von Photoinitiatoren vom Typ Hydroxyalkylphenon in strahlenhärtbaren Organopolysiloxanen für die Herstellung von abhäsiven Beschichtungen
MXPA05010951A (es) * 2003-04-16 2005-11-25 Ciba Sc Holding Ag Tinta para la impresion de inyeccion de tinta, curable por radiacion, que contiene un alfa-hidroxi-cetona como fotoiniciador.
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
ITVA20030028A1 (it) * 2003-08-07 2005-02-08 Lamberti Spa Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore.
DE10359764A1 (de) * 2003-12-19 2005-07-14 Goldschmidt Ag Polysiloxane mit über SiOC-Gruppen gebundenen (Meth)acrylsäureestergruppen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung als strahlenhärtbare abhäsive Beschichtung
US7151123B2 (en) * 2004-02-04 2006-12-19 Ecology Coating, Inc. Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof
US7192992B2 (en) * 2004-02-04 2007-03-20 Ecology Coating, Inc. Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating thermally sensitive surfaces and/or rusted surfaces and methods, processes and assemblages for coating thereof
US20050170101A1 (en) * 2004-02-04 2005-08-04 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly assemblages, facilities, and processes for applying an opaque,100% solids, actinic radiation curable coating to objects
US20050170100A1 (en) * 2004-02-04 2005-08-04 Weine Ramsey Sally J. Process for applying an opaque, corrosion resistant, 100% solids, UV curable finish to parts for underhood use in motor vehicles
US7425586B2 (en) * 2004-02-04 2008-09-16 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions and coated surfaces and coated articles thereof
US7498362B2 (en) * 2004-03-08 2009-03-03 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom and methods, processes and assemblages for coating thereof
CA2558425A1 (en) * 2004-03-08 2005-09-22 Ecology Coating, Inc. Environmentally friendly coating compositions for coating metal objects, coated objects therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof
US7323248B2 (en) * 2004-03-13 2008-01-29 Ecology Coatings, Inc. Environmentally friendly coating compositions for coating composites, coated composites therefrom, and methods, processes and assemblages for coating thereof
US20050203205A1 (en) * 2004-03-13 2005-09-15 Weine Ramsey Sally J. Composition of matter comprising UV curable materials incorporating nanotechnology for the coating of fiberglass
JP4544913B2 (ja) * 2004-03-24 2010-09-15 富士フイルム株式会社 表面グラフト形成方法、導電性膜の形成方法、金属パターン形成方法、多層配線板の形成方法、表面グラフト材料、及び導電性材料
US20050234152A1 (en) * 2004-04-16 2005-10-20 Ecology Coatings, Inc. Enviromentally friendly, 100% solids, actinic radiation curable coating compositions for coating surfaces of wooden objects and methods, processes and assemblages for coating thereof
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP4967378B2 (ja) * 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
EP1927633A1 (en) 2006-11-30 2008-06-04 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
DE102007005508A1 (de) 2007-02-03 2008-08-07 Evonik Goldschmidt Gmbh Verfahren zur Reduktion des Trennwert-Anstiegs bei der Herstellung von No-Label-Look-Etiketten
US8541063B2 (en) 2007-02-06 2013-09-24 Fujifilm Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
DE602008006279D1 (de) 2007-02-07 2011-06-01 Fujifilm Corp Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
US9199934B2 (en) * 2007-04-04 2015-12-01 Basf Se Alpha-hydroxyketones
JP4816976B2 (ja) * 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
EP2028241A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-25 Seiko Epson Corporation Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
JP4766281B2 (ja) * 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009269397A (ja) 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
JP5623416B2 (ja) 2008-11-03 2014-11-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ 光開始剤混合物
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5374403B2 (ja) 2009-02-13 2013-12-25 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP2011152747A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5692490B2 (ja) * 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5554114B2 (ja) 2010-03-29 2014-07-23 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
US8573765B2 (en) 2010-03-31 2013-11-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
CN102336081A (zh) 2010-05-19 2012-02-01 富士胶片株式会社 印刷方法、套印物的制作方法、层压加工方法、发光二极管固化性涂布组合物及墨液组合物
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
EP2423277A3 (en) 2010-08-27 2012-05-09 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
EP2682438B1 (en) 2011-02-28 2017-04-05 FUJIFILM Corporation Ink composition and image forming method
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
JP5300904B2 (ja) 2011-03-31 2013-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
DE102011106816B9 (de) * 2011-05-30 2018-05-30 Kulzer Gmbh Nach Härtung bruchresistentes Prothesenbasismaterial, erhalten aus autopolymerisierenden oder kaltpolymerisierenden Zusammensetzungen
JP5764416B2 (ja) 2011-07-08 2015-08-19 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
CN103842449B (zh) 2011-09-29 2015-12-23 富士胶片株式会社 喷墨油墨组合物及喷墨记录方法
EP2824149B1 (en) 2012-03-09 2016-07-06 Fujifilm Corporation Radiation-curable ink-jet ink set and ink-jet recording method
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP5606567B2 (ja) 2012-04-19 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
CN104603168B (zh) 2012-09-14 2016-07-06 富士胶片株式会社 固化性组合物及图像形成方法
SG11201502471UA (en) 2012-09-28 2015-05-28 Fujifilm Corp Functional polymer membrane and method of producing the same
WO2014050993A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
JP6126498B2 (ja) 2013-02-15 2017-05-10 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
EP2965803B1 (en) 2013-03-07 2019-05-15 FUJIFILM Corporation Functional polymer membrane and manufacturing method therefor
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP6004971B2 (ja) 2013-03-12 2016-10-12 富士フイルム株式会社 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法
US9650357B2 (en) 2013-06-24 2017-05-16 Toyo Gosei Co., Ltd. Reagent for enhancing generation of chemical species
CN104250207A (zh) * 2013-06-30 2014-12-31 江苏英力科技发展有限公司 一种制备2-甲基-1-[4-(叔丁基)苯基]-1-丙酮的方法
CN105517990B (zh) * 2013-08-12 2018-10-02 太阳化学公司 低聚氨基酮及其作为光敏引发剂的用途
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
EP3053908B1 (en) * 2013-09-30 2018-12-19 FUJIFILM Corporation Method for producing alpha-halogenoacetophenon compound, and alpha-bromoacetophenon compound
JP6066960B2 (ja) 2014-05-30 2017-01-25 富士フイルム株式会社 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法
CN105152898B (zh) * 2015-06-23 2017-04-26 杭华油墨股份有限公司 苯基丁酮衍生物与其作为光引发剂的应用
EP3686225B1 (en) 2015-08-27 2021-09-22 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
WO2017135084A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
JP6537637B2 (ja) 2016-02-05 2019-07-03 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
JP6510681B2 (ja) 2016-02-05 2019-05-08 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
JP6505875B2 (ja) 2016-02-10 2019-04-24 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
EP3575372B1 (en) 2017-01-30 2022-12-28 FUJIFILM Corporation Active-ray-curable ink composition and inkjet recording method
CN110366585B (zh) 2017-02-24 2022-04-29 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
EP3587513B1 (en) 2017-02-24 2023-12-06 FUJIFILM Corporation Photo-curable ink composition and method for forming image
WO2018179947A1 (ja) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2018186224A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
EP3608376B1 (en) 2017-04-03 2024-09-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, production method therefor, and image formation method
EP3395793B9 (en) * 2017-04-24 2021-09-29 IGM Group B.V. Process for the preparation of alpha-functionalized ketones
EP3395806B1 (en) 2017-04-24 2020-04-08 IGM Group B.V. Simple oxidative functionalization of alkyl aryl ketones
EP3617283B1 (en) 2017-04-26 2023-12-13 FUJIFILM Corporation Photo-curable ink composition and image forming method
CN110753731B (zh) 2017-06-20 2022-10-28 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
EP3660111B1 (en) 2017-07-26 2026-02-18 FUJIFILM Corporation Ink composition, method for producing same, and image formation method
EP3677650B1 (en) 2017-08-29 2022-09-28 FUJIFILM Corporation Ink composition, method for producing same, and image forming method
EP3689981B1 (en) 2017-09-27 2024-07-10 FUJIFILM Corporation Actinic-ray-curable ink-jet ink, light-shielding film, and production method for light-shielding film
JP6942243B2 (ja) 2018-03-27 2021-09-29 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2019188482A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
GB201815407D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
GB201815405D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
WO2020179155A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物
CN113557271B (zh) 2019-03-29 2023-06-02 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像记录方法
GB201904581D0 (en) 2019-04-02 2019-05-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes and processes for their preparation
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
JPWO2022014292A1 (da) 2020-07-15 2022-01-20
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202015379D0 (en) 2020-09-29 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015546D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015440D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202015436D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compositions and polymer films
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202101153D0 (en) 2021-01-28 2021-03-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer films
GB202104408D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Cationically charged membranes
GB202104403D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer Film
GB202113997D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113996D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Films and their uses
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202201759D0 (en) 2022-02-11 2022-03-30 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204633D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204625D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204631D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202207568D0 (en) 2022-05-24 2022-07-06 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
JP2024033515A (ja) * 2022-08-30 2024-03-13 株式会社村田製作所 感光性ペースト、配線パターンの形成方法、電子部品の製造方法および電子部品
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
KR20250088519A (ko) 2022-09-29 2025-06-17 후지필름 매뉴팩츄어링 유럽 비.브이. 멤브레인
WO2024132502A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
KR20250124854A (ko) 2022-12-22 2025-08-20 후지필름 매뉴팩츄어링 유럽 비.브이. 막

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2647080A (en) * 1950-06-30 1953-07-28 Du Pont Light-stabilized photopolymerization of acrylic esters
US2892865A (en) * 1957-09-20 1959-06-30 Erba Carlo Spa Process for the preparation of tertiary esters of benzoylcarbinol
DE1769854U (de) 1958-05-03 1958-07-10 Schloemann Ag Blockvorstoss an oefen mit stirnseitiger ausstossoeffnung.
NL125868C (da) * 1964-01-29
DE1668734A1 (de) * 1967-10-17 1971-10-07 Takeda Chemical Industries Ltd Alkylbenzoylcarbinolester und Verfahren zu ihrer Herstellung
US3660542A (en) * 1969-12-11 1972-05-02 Takeda Chemical Industries Ltd Alkylbenzoylcarbinol phosphate esters
GB1408265A (en) * 1971-10-18 1975-10-01 Ici Ltd Photopolymerisable composition
FR2156486A1 (en) 1971-10-22 1973-06-01 Roussel Uclaf Oxazolyl oxy or thio acetic acids - analgesics antipyretics and anti-inflammatories
US3715293A (en) 1971-12-17 1973-02-06 Union Carbide Corp Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings
US3801329A (en) * 1971-12-17 1974-04-02 Union Carbide Corp Radiation curable coating compositions
US3933682A (en) * 1973-01-31 1976-01-20 Sun Chemical Corporation Photopolymerization co-initiator systems
FR2235907A1 (en) * 1973-07-06 1975-01-31 Union Carbide Corp Aryl diakoxy methyl ketone prepn. - from alkyl nitrite, aryl methyl ketone and alkanol, used as photo-sensitisers in polymer hardening
DE2343362A1 (de) 1973-08-28 1975-03-13 Merck & Co Inc Verfahren zum fotolyitschen abbau von propylketon oder aethylesterverbindungen unter ergaenzung von aethylen zur verwendung als bioregelung oder herbizid
GB1494191A (en) * 1973-12-17 1977-12-07 Lilly Industries Ltd Preparation of alpha-acyloxy aldehydes and ketones
JPS5831433B2 (ja) * 1974-06-27 1983-07-06 東洋紡績株式会社 ポリエステルセンイセイヒンノ ナツセンホウホウ
US4017652A (en) * 1974-10-23 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same
US4054719A (en) * 1976-11-23 1977-10-18 American Cyanamid Company Phenacyl ester photosensitizers for radiation-curable coatings
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
US4142054A (en) * 1977-06-16 1979-02-27 The Upjohn Company Process for preparing arylalkanoic acid derivatives
EP0003002B1 (de) * 1977-12-22 1984-06-13 Ciba-Geigy Ag Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone
DE2962442D1 (de) * 1978-07-13 1982-05-19 Ciba Geigy Ag Compositions photodurcissables

Also Published As

Publication number Publication date
DK214978A (da) 1978-11-18
US4477681A (en) 1984-10-16
DE2722264C2 (de) 1984-06-28
ES469892A1 (es) 1979-10-01
CA1233931A (en) 1988-03-08
AT368170B (de) 1982-09-27
ATA353078A (de) 1982-01-15
GB1598593A (en) 1981-09-23
US4721734A (en) 1988-01-26
BR7803068A (pt) 1979-01-02
DK152737C (da) 1988-10-03
JPS6026403B2 (ja) 1985-06-24
NL7805346A (nl) 1978-11-21
IT1102750B (it) 1985-10-07
DE2722264A1 (de) 1978-11-23
IT7849364A0 (it) 1978-05-15
SE7805579L (sv) 1978-11-18
US4347111A (en) 1982-08-31
BE867137A (nl) 1978-11-17
GB1598592A (en) 1981-09-23
FR2391183A1 (fr) 1978-12-15
FR2391183B1 (da) 1983-11-18
SE443788B (sv) 1986-03-10
CH644772A5 (de) 1984-08-31
NL187684C (nl) 1991-12-16
JPS53144539A (en) 1978-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK152737B (da) Anvendelse af substituerede hydroxyalkylphenoner som fotosensibilisatorer
TW460450B (en) Specific non-volatile dimeric phenylglyoxalic ester compounds and photopolymerizable compositions comprising said compounds
EP0079119B1 (en) Water soluble thioxanthone photoinitiators
FI89162C (fi) Kopolymeriserbara fotoinitiatorer
JP2582792B2 (ja) チタノセン、それらの製造法およびそれらを含有する組成物
JP6279592B2 (ja) Ｌｅｄ光硬化用３−ケトクマリン
JPS63264560A (ja) α−アミノアセトフェノン誘導体
TW200403260A (en) New difunctional photoinitiators
TW200406426A (en) Novel difunctional photoinitiators
JP2012051927A (ja) 粉末の形態での白色固体光開始剤およびその製造
WO2018149370A1 (zh) 芴氨基酮类光引发剂、其制备方法及含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
TW200406425A (en) Improvement in the storage stability of photoinitiators
TW200538470A (en) New photoinitiators
KR101327711B1 (ko) 저추출성 및 저휘발성 공개시제를 함유하는 광중합성시스템
JP4638869B2 (ja) 高厚コーティングの製造のための透明な光重合可能なシステム
JP2000510868A (ja) 狭い波長帯の紫外線（ｕｖ）キュアシステムに使用する光活性化合物
DE2808459A1 (de) Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren
JPH0228130A (ja) 置換ナフタセン―５，１２―ジオン類及びその用途
DE2759766C2 (da)
JPS6259691B2 (da)
WO2024074945A1 (en) Polymeric (meth)acrylate photoinitiators

Legal Events

Date Code Title Description
PUP Patent expired