JPS60264085A - 加熱装置 - Google Patents
加熱装置Info
- Publication number
- JPS60264085A JPS60264085A JP59119309A JP11930984A JPS60264085A JP S60264085 A JPS60264085 A JP S60264085A JP 59119309 A JP59119309 A JP 59119309A JP 11930984 A JP11930984 A JP 11930984A JP S60264085 A JPS60264085 A JP S60264085A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- sensor
- indirect heater
- heated
- time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はセンサを備えた加熱装置に係り、とりわけ傍熱
ヒータの立上り時の誤動作を防止するための構成に関す
る。
ヒータの立上り時の誤動作を防止するための構成に関す
る。
従来例の構成とその問題点
センサを用いて加熱を自動的に終了させる加熱装置は、
近年広く実用に供されるようになった。
近年広く実用に供されるようになった。
例えば自動電子レンジなどがこれにあたり、センサとし
ては、傍熱ヒータを備えた気体センサが最も汎用されて
いる。松下社製の絶対湿度センサ５ネオ・ヒュミセラム
′やフィガロ社製のガスセンサなどが実用化され、これ
らのセンサは傍熱ヒータによりセンサ・チップを所定温
度に傍熱し、被加熱物から発生する水蒸気や種々のガス
に対して所望の検知特性を現出する。
ては、傍熱ヒータを備えた気体センサが最も汎用されて
いる。松下社製の絶対湿度センサ５ネオ・ヒュミセラム
′やフィガロ社製のガスセンサなどが実用化され、これ
らのセンサは傍熱ヒータによりセンサ・チップを所定温
度に傍熱し、被加熱物から発生する水蒸気や種々のガス
に対して所望の検知特性を現出する。
さてこのような傍熱ヒータを備えた気体センサでは、一
般にプラグインと同時に傍熱ヒータへの通電が始まるが
、その立上りには第３図に示すように数分を要する。こ
のときセンサ・チｙブの抵抗は第４図の如く傍熱ヒータ
の温度上昇と共に低下していき、やがて安定する。
般にプラグインと同時に傍熱ヒータへの通電が始まるが
、その立上りには第３図に示すように数分を要する。こ
のときセンサ・チｙブの抵抗は第４図の如く傍熱ヒータ
の温度上昇と共に低下していき、やがて安定する。
一方、センサ抵抗は蒸気あるいはガスによって低下する
。被加熱物を加熱すると、通常は第５図人のように変化
し、その変化量ΔＲを検出することで、加熱を゛自動的
に終了させることができる。
。被加熱物を加熱すると、通常は第５図人のように変化
し、その変化量ΔＲを検出することで、加熱を゛自動的
に終了させることができる。
このとき加熱時間はＴ１ となる。ところがプラグイン
直後の十分に傍熱ヒータの湿度が立ち上がらないうちに
加熱を開始すると、第５図Ｂのように被加熱物から蒸気
やガスの発生のないうちに、ヒータの温度上昇に起因す
るセンサ抵抗の低下によって２８以上変化してしまう。
直後の十分に傍熱ヒータの湿度が立ち上がらないうちに
加熱を開始すると、第５図Ｂのように被加熱物から蒸気
やガスの発生のないうちに、ヒータの温度上昇に起因す
るセンサ抵抗の低下によって２８以上変化してしまう。
従って見かけ上蒸気やカスの発生があったかの如くふる
まうため、時間Ｔ２ で加熱は誤って終了し、早切れと
なってしまう。
まうため、時間Ｔ２ で加熱は誤って終了し、早切れと
なってしまう。
このように従来の傍熱ヒータを備えた気体センサは、傍
熱ヒータが立ち上がらないうちに加熱を開始されると、
被加熱物が温まる前に誤って加熱が終了してしまうとい
う問題を有していた。
熱ヒータが立ち上がらないうちに加熱を開始されると、
被加熱物が温まる前に誤って加熱が終了してしまうとい
う問題を有していた。
発明の目的
本発明は上記従来の問題を解消するもので、傍熱ヒータ
の立上りに起因する加熱の早切れという誤動作を防止で
きる加熱装置を提供することを目的とする。
の立上りに起因する加熱の早切れという誤動作を防止で
きる加熱装置を提供することを目的とする。
発明の構成
上記目的を達成するため、本発明の加熱装置は傍熱ヒー
タへの通電が開始されると、センサの特性を監視し、そ
の時間変化量が所定値以下になるまでは加熱手段への給
電を保留するよう構成し、傍熱ヒータの立上りによる早
切れを防止することができる。
タへの通電が開始されると、センサの特性を監視し、そ
の時間変化量が所定値以下になるまでは加熱手段への給
電を保留するよう構成し、傍熱ヒータの立上りによる早
切れを防止することができる。
実施例の説明
以下、本発明の実施例について図面に基づいて説明する
。
。
第１図は本発明に係る加熱装置の斜視図である。
本体１の前面には開閉自在に扉体２が軸支され、操作パ
ネル３が具備されている。この操作パネル３上には、セ
ンサを用いた自動加熱を行うオートキー４が配される。
ネル３が具備されている。この操作パネル３上には、セ
ンサを用いた自動加熱を行うオートキー４が配される。
第２図は本発明に係るセンサの一例であり、松下社製の
ネオ・ヒュミセラムを示す。センサ・チップ５は感湿特
性を有し、傍熱ヒータ６により所定の温度に傍熱され、
所望の検知特性を現出する。
ネオ・ヒュミセラムを示す。センサ・チップ５は感湿特
性を有し、傍熱ヒータ６により所定の温度に傍熱され、
所望の検知特性を現出する。
ベース７はセンサ・チップ５と傍熱ヒータ６を支え、防
風ネット８は風の影響を除く。
風ネット８は風の影響を除く。
次にかかる加熱装置の構成を第６図を用いて説明する。
操作パネル３上のオート・キー４から入力された指令は
、制御部９によって解読される。
、制御部９によって解読される。
そして制御部９はドライバ１ｏを介して加熱手段たるマ
グネトロン１１に給電を開始する。
グネトロン１１に給電を開始する。
加熱室１２内には被加熱物１３が載置皿１４上に載置さ
れ、モータ１５により回転駆動されて、加熱ムラの改善
がはかられる。
れ、モータ１５により回転駆動されて、加熱ムラの改善
がはかられる。
加熱が進むにつれてやがて被加熱物１３から水蒸気やガ
スが発生し始める。この水蒸気はファン１６により、排
気ガイド１７から機体外に排出され、ここにセンサ１８
が配設される。そして検知回路１９を経て、制御部９に
接続される。制御部９はマイコンにより実現できる。
スが発生し始める。この水蒸気はファン１６により、排
気ガイド１７から機体外に排出され、ここにセンサ１８
が配設される。そして検知回路１９を経て、制御部９に
接続される。制御部９はマイコンにより実現できる。
さて第７図は本発明における制御のしがたを示すチャー
トである。（Ａ）図はセンサ抵抗の時間変化を示し、（
Ｂ）図はマイクロ波の出力状態を示す。両図において、
制御部はプラグイン後傍熱ヒータへの通電が開始されれ
ば、センサ抵抗を監視し、その時間変化（Δｒ／Δｔ）
が所定値以下となる時点Ｐ１ まで加熱は遅延される。
トである。（Ａ）図はセンサ抵抗の時間変化を示し、（
Ｂ）図はマイクロ波の出力状態を示す。両図において、
制御部はプラグイン後傍熱ヒータへの通電が開始されれ
ば、センサ抵抗を監視し、その時間変化（Δｒ／Δｔ）
が所定値以下となる時点Ｐ１ まで加熱は遅延される。
遅延タイムＴｏがこれにあたり、プラグイン後２１時点
が検出されるより前に加熱が開始されると、これが経過
するまで加熱は遅延される。
が検出されるより前に加熱が開始されると、これが経過
するまで加熱は遅延される。
傍熱ヒータが完全に立ち上がるには１００分程を要し、
これをそのまま遅延タイムとすることは著しく商品性を
低下せしめる。そこで検知レベルΔＲが大きく影響を受
けない程度に遅延タイムは短縮される。通常１分で飽和
温度の９５％以上には達するので、遅延タイムは１分程
度でよい。本実施例ではこれをさらに縮めるため、マス
クタイムＴＭを導入している。これはマイクロ波は出力
するが、センサ抵抗を制御部が処理しない期間である。
これをそのまま遅延タイムとすることは著しく商品性を
低下せしめる。そこで検知レベルΔＲが大きく影響を受
けない程度に遅延タイムは短縮される。通常１分で飽和
温度の９５％以上には達するので、遅延タイムは１分程
度でよい。本実施例ではこれをさらに縮めるため、マス
クタイムＴＭを導入している。これはマイクロ波は出力
するが、センサ抵抗を制御部が処理しない期間である。
いかに小量の被加熱物でも加熱が完了するには、３０〜
４ｏ秒程度を要する。マスクタイムＴＭはこの点に着目
したもので、２ｏ〜３０秒程度ならセンサの処理をマス
クしてマイクロ波を出力しても、加熱が終了することは
ないとの観点に立つものである。センサはＰ２ 時点か
ら処理され、マスクタイムＴＭの間、処理が中断される
。
４ｏ秒程度を要する。マスクタイムＴＭはこの点に着目
したもので、２ｏ〜３０秒程度ならセンサの処理をマス
クしてマイクロ波を出力しても、加熱が終了することは
ないとの観点に立つものである。センサはＰ２ 時点か
ら処理され、マスクタイムＴＭの間、処理が中断される
。
さてＰｌ 時点は通常３ｏ秒〜１分程度であるが、これ
は雰囲気温度や湿度の影響を受けて変動する。
は雰囲気温度や湿度の影響を受けて変動する。
また傍熱ヒータの抵抗値バラつきや電圧変動なども大き
く作用する。（Δｒ／Δｔ）によりＰｌ 点を検出する
本発明は、このようなセンサおよびその周辺条件の変動
に起因する傍熱ヒータの立上り時間のバラつきの影響を
全く受けず、プラグイン直後の早切れを防止できる。
く作用する。（Δｒ／Δｔ）によりＰｌ 点を検出する
本発明は、このようなセンサおよびその周辺条件の変動
に起因する傍熱ヒータの立上り時間のバラつきの影響を
全く受けず、プラグイン直後の早切れを防止できる。
発明の効果
以上のように本発明によれば次の効果を得ることができ
る。
る。
（１） プラグイン直後の傍熱ヒータの立上りに起因す
る加熱の早切れという誤動作を防止できる。
る加熱の早切れという誤動作を防止できる。
（２）雰囲気温度や湿度、傍熱ヒータ抵抗、電圧変動な
どの作用で傍熱ヒータの立上り時間が変動しても、これ
らの影響を全く受けない。
どの作用で傍熱ヒータの立上り時間が変動しても、これ
らの影響を全く受けない。
第１図は本発明の一実施例を示す加熱装置、第２図は傍
熱ヒータを備えたセンサの部分断面図、第３図はかかる
センサの傍熱ヒータの立上り特性図、第４図は同センサ
抵抗の変化を示す図、第５図は従来の加熱中のセンサ抵
抗の時間変化を示す図で、Ａは通常の、Ｂはプラグイン
直後の加熱を示す図、第６図は本発明の一実施例を示す
加熱装置の構成を示すブロック図、第７図（Ａ）図は同
加熱中のセンサ抵抗の変化を示す図、申）図は同マイク
ロ波の出力を示す図である。 ６・・・・・・センサ嗜チップ、６・・・・・・傍熱ヒ
ータ、９・・・・・・制御部、１１・・・・・・加熱手
段、１２・・・・加熱室、１３・・・・・・被加熱物、
１８・・・・・・センサ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第３
図 ９分Ｍ（分） 第４図 −Ｉｔ青加（分） 第５図 第６図
熱ヒータを備えたセンサの部分断面図、第３図はかかる
センサの傍熱ヒータの立上り特性図、第４図は同センサ
抵抗の変化を示す図、第５図は従来の加熱中のセンサ抵
抗の時間変化を示す図で、Ａは通常の、Ｂはプラグイン
直後の加熱を示す図、第６図は本発明の一実施例を示す
加熱装置の構成を示すブロック図、第７図（Ａ）図は同
加熱中のセンサ抵抗の変化を示す図、申）図は同マイク
ロ波の出力を示す図である。 ６・・・・・・センサ嗜チップ、６・・・・・・傍熱ヒ
ータ、９・・・・・・制御部、１１・・・・・・加熱手
段、１２・・・・加熱室、１３・・・・・・被加熱物、
１８・・・・・・センサ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第３
図 ９分Ｍ（分） 第４図 −Ｉｔ青加（分） 第５図 第６図
Claims (1)
- 被加熱物を載置する加熱室と、この加熱室に結合された
加熱手段と、この加熱手段への給電を制御する制御部と
、前記被加熱物の加熱状態を検出する傍熱ヒータを備え
たセンサとより成り、前記制御部は前記傍熱ヒータへの
通電が開始されれば前記センサの特性を監視し、その時
間変化量が所定値以下になるまでは前記加熱手段への給
電を行わないよう構成した加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59119309A JPS60264085A (ja) | 1984-06-11 | 1984-06-11 | 加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59119309A JPS60264085A (ja) | 1984-06-11 | 1984-06-11 | 加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60264085A true JPS60264085A (ja) | 1985-12-27 |
| JPH0119753B2 JPH0119753B2 (ja) | 1989-04-12 |
Family
ID=14758237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59119309A Granted JPS60264085A (ja) | 1984-06-11 | 1984-06-11 | 加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60264085A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55124984A (en) * | 1979-03-19 | 1980-09-26 | Sharp Kk | Cooking device |
| JPS55143984A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Novel xanthine derivative |
-
1984
- 1984-06-11 JP JP59119309A patent/JPS60264085A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55124984A (en) * | 1979-03-19 | 1980-09-26 | Sharp Kk | Cooking device |
| JPS55143984A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Novel xanthine derivative |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0119753B2 (ja) | 1989-04-12 |
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