JPS6027603A - 超純水の比抵抗調整法 - Google Patents
超純水の比抵抗調整法Info
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- JPS6027603A JPS6027603A JP58134480A JP13448083A JPS6027603A JP S6027603 A JPS6027603 A JP S6027603A JP 58134480 A JP58134480 A JP 58134480A JP 13448083 A JP13448083 A JP 13448083A JP S6027603 A JPS6027603 A JP S6027603A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えば半導体の製造工程等において用いら
れる超純水の比抵抗調整器に関するものである。
れる超純水の比抵抗調整器に関するものである。
普通、半導体の製造工程において、超純水（比抵抗／
ｆＭΩ程度）を使用して基板を洗浄する場合、超純水の
比抵抗が高いだめに静電気が発生し、そのだめの絶縁破
壊を起したシ、或いは微粒子の吸着等が生じ得る不都合
があった。そこでこのような間’ｉＭを＞ＰＦ決するた
めに、一般には超純水の派路にマグネシウムのメツシュ
を挿置して比４１（抗を低下させる方法がとられている
。しかしながらこのような方法では、マグネシウムが揮
発性でないことやコロイド物質の発生等のため、半導体
製造プロセスにおける後の工程に影響を及１ユし得る欠
点がある。
ｆＭΩ程度）を使用して基板を洗浄する場合、超純水の
比抵抗が高いだめに静電気が発生し、そのだめの絶縁破
壊を起したシ、或いは微粒子の吸着等が生じ得る不都合
があった。そこでこのような間’ｉＭを＞ＰＦ決するた
めに、一般には超純水の派路にマグネシウムのメツシュ
を挿置して比４１（抗を低下させる方法がとられている
。しかしながらこのような方法では、マグネシウムが揮
発性でないことやコロイド物質の発生等のため、半導体
製造プロセスにおける後の工程に影響を及１ユし得る欠
点がある。
そこで、この発明は、上述のようなマグネシウムを利用
した従来の方法に代えて、炭Ｉ゛１表ガスを超純水中に
溶解させてその比抵抗を１１、４整できるようにした超
純水の比ｊ「（抗ｔｆ１４ ｋ、器を４ＪＡ供すること
を目的とする。
した従来の方法に代えて、炭Ｉ゛１表ガスを超純水中に
溶解させてその比抵抗を１１、４整できるようにした超
純水の比ｊ「（抗ｔｆ１４ ｋ、器を４ＪＡ供すること
を目的とする。
この目的を達成するために、とのづｂ ＋ｙ］＆、！、
処理“１！すべき超純水に炭１波ガスを供給する４４１
ｉ’１． ％有し、この装置が、処理すべき超純水と接
触しかっＪ、ｉｊ ｎ’ｙガスを処理すべき超純水中に
透過さぜる１１・１！水性１ｉｆｉ過性膜を備えている
ことを特徴としている。
処理“１！すべき超純水に炭１波ガスを供給する４４１
ｉ’１． ％有し、この装置が、処理すべき超純水と接
触しかっＪ、ｉｊ ｎ’ｙガスを処理すべき超純水中に
透過さぜる１１・１！水性１ｉｆｉ過性膜を備えている
ことを特徴としている。
以下この発明の一実〃１１１例を、添１イ（図１而を参
照ｊ〜で説明する。
照ｊ〜で説明する。
図面にはこの発明の一実施例による超λｈｌｉ水の］Ｌ
抵抗調整器を概略的に示し、この比抵抗６周１．器は、
超純水の処理室ｌとこの処理室ｌを横切って伸びる炭酸
ガスの供給管λとから成っている。処理室ｌ内を通る供
給管部分は、イ表粒子の混入や気泡の発生を防止ししか
も管内の炭酸ガスを処理室ｌ内へ透過させる疎水性透過
性膜３で構成されている。
抵抗調整器を概略的に示し、この比抵抗６周１．器は、
超純水の処理室ｌとこの処理室ｌを横切って伸びる炭酸
ガスの供給管λとから成っている。処理室ｌ内を通る供
給管部分は、イ表粒子の混入や気泡の発生を防止ししか
も管内の炭酸ガスを処理室ｌ内へ透過させる疎水性透過
性膜３で構成されている。
この膜３は上述の特性を潤すものであればいかなる材料
から成ってもよいが、−例としてポリプロピレンを挙げ
ることができる。
から成ってもよいが、−例としてポリプロピレンを挙げ
ることができる。
このようにボ４成した図示装置において、処理すべき超
純水は、矢印で示すように入口ｌから処理室ｌ内へ供給
され、そして出口ｊへ向って流れて行く際に供給管λか
ら疎水性透過性膜３を介して浸透してきた炭酸ガスが溶
解し、その結果超純水の比抵抗は低下される。この場合
−炭酸ガスの流量および（または）処理すべき超純水の
流量または流速を適当に制御することによって、超純水
の比抵抗を所望の値に各局に調整することができる。
純水は、矢印で示すように入口ｌから処理室ｌ内へ供給
され、そして出口ｊへ向って流れて行く際に供給管λか
ら疎水性透過性膜３を介して浸透してきた炭酸ガスが溶
解し、その結果超純水の比抵抗は低下される。この場合
−炭酸ガスの流量および（または）処理すべき超純水の
流量または流速を適当に制御することによって、超純水
の比抵抗を所望の値に各局に調整することができる。
下表には炭酸ガス流量および超純水流量による比抵抗の
変化の一例を示す。
変化の一例を示す。
なお、上記表においては、透過膜としてポリプロピレン
製を使用し、その面積は！ ００ ｃｄとし、また原水
としてはｉｔ、２ＭΩの比抵抗をもつ超９１１水を用い
て測定した。
製を使用し、その面積は！ ００ ｃｄとし、また原水
としてはｉｔ、２ＭΩの比抵抗をもつ超９１１水を用い
て測定した。
図示実施例では、炭酸ガス供給手段は管状に形成されて
いるが、例えば処理室を上述のような呻水性透過性膜で
仕切シ、炭酸ガス供給室として（１・７成してもよい。
いるが、例えば処理室を上述のような呻水性透過性膜で
仕切シ、炭酸ガス供給室として（１・７成してもよい。
以上説明してきたように、この発明ＶＣよれＩＪｌ、疎
水性透過性膜を介して炭酸ガスを超純水中にｆｙ−辺溶
解させて、その比抵抗をｇｉｒｌ 整するように（１・
γ成しているので、超純水に異物が混入することがなく
、また炭酸ガスおよび（または）処理すべき超純水の流
量を制御した場合には比抵抗を自由に調整することがで
きる。そしてこのようにして処理した超純水は例えば半
導体の製造プ四セスに使用した場合に後の工程に影響を
及ぼすことがない。
水性透過性膜を介して炭酸ガスを超純水中にｆｙ−辺溶
解させて、その比抵抗をｇｉｒｌ 整するように（１・
γ成しているので、超純水に異物が混入することがなく
、また炭酸ガスおよび（または）処理すべき超純水の流
量を制御した場合には比抵抗を自由に調整することがで
きる。そしてこのようにして処理した超純水は例えば半
導体の製造プ四セスに使用した場合に後の工程に影響を
及ぼすことがない。
図面はこの発明の一実施例による超純水の比抵抗調整器
を示す概略断面図である。 図中、ｌ：処理室、２：炭酸ガスの供給管、３：疎水性
透過性膜。
を示す概略断面図である。 図中、ｌ：処理室、２：炭酸ガスの供給管、３：疎水性
透過性膜。
Claims (1)
- 処理すべき超純水に炭酸ガスを供給する装置を有し、こ
の装置が、処理すべき超純水と接触しかつ炭酸ガスを処
理すべき超純水中に透過させる疎水性透過性ｊｙ＋を備
え、炭１政ガスの溶解によシ超純水の比抵抗を調整する
ようにしたことを特徴とする超純水の比抵抗調整器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58134480A JPS6027603A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 超純水の比抵抗調整法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58134480A JPS6027603A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 超純水の比抵抗調整法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6027603A true JPS6027603A (ja) | 1985-02-12 |
| JPH0521841B2 JPH0521841B2 (ja) | 1993-03-25 |
Family
ID=15129309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58134480A Granted JPS6027603A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 超純水の比抵抗調整法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6027603A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6265809A (ja) * | 1985-09-14 | 1987-03-25 | Koyo Kikai Sangyo Kk | 二重ベルトコンベア |
| JPS62198127A (ja) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体ウエハの洗浄方法 |
| JPH10212105A (ja) * | 1997-01-29 | 1998-08-11 | Ngk Insulators Ltd | 超純水の比抵抗調整方法および比抵抗調整装置 |
| US6884359B2 (en) | 2000-09-27 | 2005-04-26 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Apparatus and method for controlling resistivity of ultra pure water |
| WO2018116987A1 (ja) | 2016-12-20 | 2018-06-28 | Dic株式会社 | 比抵抗値調整装置及び比抵抗値調整方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4654526B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2011-03-23 | 栗田工業株式会社 | 比抵抗調整水製造装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5631432A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-30 | Ebara Infilco Co Ltd | Process for dissolving gas into liquid |
| JPS5786623U (ja) * | 1980-11-17 | 1982-05-28 | ||
| JPS587831A (ja) * | 1981-07-07 | 1983-01-17 | Sumitomo Shoji Kk | 高圧水によるウェハの洗浄方法及び装置 |
-
1983
- 1983-07-25 JP JP58134480A patent/JPS6027603A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5631432A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-30 | Ebara Infilco Co Ltd | Process for dissolving gas into liquid |
| JPS5786623U (ja) * | 1980-11-17 | 1982-05-28 | ||
| JPS587831A (ja) * | 1981-07-07 | 1983-01-17 | Sumitomo Shoji Kk | 高圧水によるウェハの洗浄方法及び装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6265809A (ja) * | 1985-09-14 | 1987-03-25 | Koyo Kikai Sangyo Kk | 二重ベルトコンベア |
| JPS62198127A (ja) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体ウエハの洗浄方法 |
| JPH10212105A (ja) * | 1997-01-29 | 1998-08-11 | Ngk Insulators Ltd | 超純水の比抵抗調整方法および比抵抗調整装置 |
| US6884359B2 (en) | 2000-09-27 | 2005-04-26 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Apparatus and method for controlling resistivity of ultra pure water |
| WO2018116987A1 (ja) | 2016-12-20 | 2018-06-28 | Dic株式会社 | 比抵抗値調整装置及び比抵抗値調整方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0521841B2 (ja) | 1993-03-25 |
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