JPS6028048A - Master stamper manufacturing method - Google Patents
Master stamper manufacturing methodInfo
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- JPS6028048A JPS6028048A JP58136412A JP13641283A JPS6028048A JP S6028048 A JPS6028048 A JP S6028048A JP 58136412 A JP58136412 A JP 58136412A JP 13641283 A JP13641283 A JP 13641283A JP S6028048 A JPS6028048 A JP S6028048A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、映像、音響、もしくは他の情報信号が面上に
凸凹の形で記録される複板体の製造や、トラック溝が形
成される複製体の製造に用いられるマスタースタンパ−
の製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention is applicable to the production of multi-plate bodies in which video, audio or other information signals are recorded in a concave and convex manner on the surface, and to the production of duplicators in which track grooves are formed. Master stamper used for body manufacturing
The present invention relates to a manufacturing method.
従来例の構成とその問題点
通常、マスタースタンパ−を製造する場合は、洗浄され
たガラス原盤上にホトレジスミ塗布し、露光後、現像処
理により面上に凸凹状の信号、もしくはトラック溝を形
成し、さらに、その面上に薄い金属層を銀鏡反応、直流
スパッターなどにより形成し、電解メッキにより同種も
しくは異種の金属層を形成し、ぞの後この金属層を、ガ
ラス原盤から剥離し、表面に付着しているホトレジスト
層をレジスト溶解液で洗い落して製造するようにしてい
る。Conventional Structure and Problems Normally, when manufacturing a master stamper, photoresist is coated on a cleaned glass master, and after exposure, uneven signals or track grooves are formed on the surface through development processing. Furthermore, a thin metal layer is formed on the surface by silver mirror reaction, DC sputtering, etc., and a metal layer of the same or different type is formed by electrolytic plating.After that, this metal layer is peeled off from the glass master disk and coated on the surface. The attached photoresist layer is washed off with a resist solution during manufacture.
以下図面を参照しながら、従来のマスタースタンパ−製
造方法についてより詳しく説明する。第１図は、従来の
マス゛タースタンパー製造方法の製造工程図である。The conventional master stamper manufacturing method will be explained in more detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a conventional master stamper manufacturing method.
まず、用意されたガラス原盤１を洗浄工程できれいにし
、次にレジスト塗布工程で厚み約１０００人のレジスト
層２を形成する。次に、露光工程で信号となる凸凹、も
しくはトラック溝の形成すべきところをレーザ光で露光
し、現像工程で現像し、凸凹状の信号、もしくはトラッ
ク溝を形成する。First, a prepared glass master 1 is cleaned in a cleaning process, and then a resist layer 2 having a thickness of about 1000 layers is formed in a resist coating process. Next, in an exposure step, the portions where the uneven signals or track grooves are to be formed are exposed to laser light, and developed in the developing step to form uneven signals or track grooves.
次に、金属層形成１の工程で銀鏡反応、真空蒸着、直流
スパッターなどの方法により、凸凹１．もしくは溝の形
成されたレジスト層２０表面に厚み６００人程鹿の金属
層３（主に、銀、ニッケル）を、レジストが加熱されて
変質しないようにできるだけ低いエネルギーで形成する
。さらに、金属層形成２の工程でニッケル電解メッキを
行ない、厚み２００〜４００μｍのニッケルによる金属
層４を形成する。次に、上記レジスト層２、金属層３，
４を剥離工程でガラス原盤１から剥がし、最後に、レジ
スト洗浄工程で剥離した層の表面に付着しているレジス
ト層２をレジスト溶解液で洗い落し、マスタースタンパ
−６を製造する。Next, in the step of metal layer formation 1, unevenness 1. Alternatively, a metal layer 3 (mainly silver and nickel) with a thickness of about 600 mm is formed on the surface of the resist layer 20 in which the grooves are formed using as low energy as possible so as not to heat the resist and change its quality. Furthermore, in the step of metal layer formation 2, nickel electrolytic plating is performed to form a metal layer 4 of nickel with a thickness of 200 to 400 μm. Next, the resist layer 2, the metal layer 3,
4 is peeled off from the glass master 1 in a peeling step, and finally, the resist layer 2 adhering to the surface of the layer peeled off in a resist cleaning step is washed off with a resist solution to produce a master stamper 6.
しかしながら、上記のような製造工程には次のような問
題点がある。However, the above manufacturing process has the following problems.
まず第一に、剥離工程において、レジスト層の破壊、溶
剤への溶解などにより凸凹状の信号、もしくはトラック
溝を形成した原盤から、複数枚のマスタースタンバ−を
製造することができない〇第二に、マスタースタンパ−
からマザースタンバ−を製造する途中、汚れたり、キズ
が付いた時、再度ガラス原盤の洗浄工程からやシなおさ
なければならない。第三に、凸凹状の信号、もしくはト
ラック溝を形成した原盤から１枚のマスタースタンバー
ジか製造できないので多くのマザースタンバ−を製造で
きない。第四に、金属層形成１の工程において、銀鏡反
応、抵抗加熱式真空蒸着などにより金属層３として銀層
を形成した場合、銀はやわらかく傷付き易いのでマザー
メタ／バーを多く製造することができない。第五に、金
属層形成１の工程において、直流スパッター、エレクト
ロンビーム真空蒸着などにより全増膜３を形成した場合
、レジスト洗浄工程において、マスタースタンパ−の表
面に厚み１０〜６０へのレジストがレジスト溶解液に溶
けずに残９、凸凹状の信号、もしくはトラック溝の寸法
、及び形状に影響を与え、複製体の特性にも影響を与え
る。第六に、剥離工程後Ｋ、マスタースタンパ−の表面
からレジスト層を洗い落す必要がある。第七に、コスト
が高い。First of all, it is not possible to manufacture multiple master stampers from a master disc that has uneven signals or track grooves formed due to destruction of the resist layer or dissolution in solvent during the peeling process.Secondly, , master stamper
If a mother stand bar gets dirty or scratched while manufacturing a mother stand bar, the glass master must be cleaned again. Thirdly, since only one master stand barge can be manufactured from a master disk on which uneven signals or track grooves are formed, many mother stand barges cannot be manufactured. Fourth, in the process of metal layer formation 1, if a silver layer is formed as metal layer 3 by silver mirror reaction, resistance heating vacuum evaporation, etc., it is not possible to produce a large amount of mother meta/bar because silver is soft and easily scratched. . Fifth, in the process of forming the metal layer 1, if the total film thickness 3 is formed by direct current sputtering, electron beam vacuum evaporation, etc., in the resist cleaning process, the resist to a thickness of 10 to 60 mm is deposited on the surface of the master stamper. The residue 9, which does not dissolve in the solution, affects the uneven signal or the size and shape of the track groove, and also affects the characteristics of the replica. Sixth, after the stripping process, it is necessary to wash off the resist layer from the surface of the master stamper. Seventh, the cost is high.
発明の目的
本発明の目的は、現像工程後の凸凹状の信号、もしくは
トラック溝を形成した原盤から複数枚のマスタースタン
パ−の製造を可能にするとともに、凸凹状の信号もしく
はトラック溝の寸法や形状、複製体の特性に影響を与え
るマスターメタ／パー表面のレジスト残留をなくするこ
と、さらには、上記従来の問題点を一挙に除去するマス
タースタンパ−の製造方法を提供することである０発明
の構成
本発明のマスタースタンパ−の製造方法は、ガラス原盤
上にレジスト層を形成後、その面上に凸凹状の信号もし
くはトラック溝を形成し、その面上に金属層を形成し、
さらにその金属層上に同゛種もしくは異種の金属層を形
成する際に、凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成し
た後から、同種もしくは異種の金属層を形成するまでの
間において、レジスト層を１２０°Ｃ以上の温度で加熱
し、レジスト全体を変換させることにより、レジスト層
を強固にし、さらにレジスト溶解液（有機溶剤も含む）
に対しても不溶解性にし、剥離工程において、ガラス原
盤上にレジスト層を破壊されることなく密着して残し、
また、再度の使用に対する原盤洗浄を可能にしたもので
ある。OBJECTS OF THE INVENTION It is an object of the present invention to make it possible to manufacture a plurality of master stampers from a master disk on which uneven signals or track grooves have been formed after the development process, and to improve the size and shape of uneven signals or track grooves. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a master stamper that eliminates resist residue on the surface of a master stamper that affects the shape and characteristics of a duplicate, and that also eliminates the above-mentioned conventional problems at once. Structure The method for manufacturing a master stamper of the present invention includes forming a resist layer on a glass master, forming uneven signal or track grooves on the surface, and forming a metal layer on the surface.
Furthermore, when forming metal layers of the same type or different types on the metal layer, a resist layer is formed after forming the uneven signal or track grooves and before forming the metal layers of the same type or different types. By heating at a temperature of 120°C or higher and converting the entire resist, the resist layer is strengthened, and the resist solution (including organic solvents) is
In the peeling process, the resist layer remains in close contact with the glass master without being destroyed.
Additionally, it is possible to clean the master disk before using it again.
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する０
第２図は、本発明の一実施例におけるマスタースタンパ
−の製造方法の製造工程図であるＱまず、ガラス原盤洗
浄工程でガラス原盤１をポリッシングマシンにより研磨
洗浄し、後洗剤、純水、有機溶剤中にてそｎぞれ超音波
洗浄を行なう。DESCRIPTION OF EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.0 Figure 2 is a manufacturing process diagram of a method for manufacturing a master stamper in an embodiment of the present invention. In the cleaning process, the glass master 1 is polished and cleaned using a polishing machine, and then subjected to ultrasonic cleaning in a detergent, pure water, and an organic solvent.
次にレジスト塗布工程でＡＺ−１３５０のホトレジスト
（石炭酸ホル÷リン縮金物にてスルホン基を介してキノ
ンジアザイトが結合したポジ型レジスト）ラスビナ−を
用いて１０００への厚みで塗布し、レジスト層２を形成
する。次に露光工程において、ヘリウム−カドミウムレ
ーザを用い、露光を行ない、次に現像工程で現像を行な
う０次にレジスト層変質と金属層形成１の工程において
、ニッケルターゲラトラ取り付けた高周波スパッター装
置を用い、スパンターパワー４００〜５ｏｏＷ、スパッ
タ一時間１６分間のスパッター条件にて、スパッターを
行ないレジスト変質層６、および金属層３として厚み約
３００〜６００人のニッケル金属層を形成する。これに
より温度は１８０〜４６０°Ｃぐらいまで上昇し、Ａｚ
−１３５０のレジストは変質してベークライト系になり
、レジスト溶解液（有機溶剤を含む）に不溶となる。次
に、金属層２の形成の工程でスルフアミノ酸ニッケル浴
を用いてニッケル電解メッキを行ない、厚み約３００μ
ｍのニッケル層を余事、層４として形成する。その後剥
離工程において、レジスト変質層６と金属層３との間を
、レジスト変質層６を破壊、剥離することなく剥離し、
１枚目のマスタースタンパ−６を完成する。さらに、レ
ジスト変質層６が密着して凸凹状の信号もしくはトラッ
ク溝を形成している原盤を純水、有機溶剤などで洗浄後
、レジスト層変質及び金属層形成１以降の工程を繰り返
すことにより、２枚目、３枚目のマスタースタンパ−６
を完成する。Next, in the resist coating process, a photoresist of AZ-1350 (a positive resist in which quinonediazite is bonded via a sulfone group using a carbonic acid phosphorus metal condensate) is applied to a thickness of 1000 using a lathviner to form resist layer 2. Form. Next, in the exposure process, exposure is performed using a helium-cadmium laser, and then in the development process, development is carried out.In the process of resist layer deterioration and metal layer formation 1, a high frequency sputtering device equipped with a nickel target rattle is used. A nickel metal layer having a thickness of about 300 to 600 layers is formed as the resist altered layer 6 and the metal layer 3 by sputtering under the following conditions: sputter power of 400 to 5 ooW and sputtering time of 1 hour and 16 minutes. As a result, the temperature rises to about 180-460°C, and Az
-1350 resist changes in quality and becomes Bakelite-based, and becomes insoluble in resist solution (including organic solvent). Next, in the process of forming metal layer 2, nickel electrolytic plating is performed using a sulfur amino acid nickel bath to a thickness of about 300 μm.
A nickel layer of m is additionally formed as layer 4. Thereafter, in a peeling process, the space between the resist deteriorated layer 6 and the metal layer 3 is peeled off without destroying or peeling off the resist deteriorated layer 6,
Complete the first master stamper 6. Furthermore, after cleaning the master disk on which the resist deteriorated layer 6 is in close contact to form uneven signals or track grooves with pure water, organic solvent, etc., the steps from resist layer deterioration and metal layer formation 1 onward are repeated. 2nd and 3rd master stamper 6
complete.
次に、本発明の他の実施例について図面を参照しながら
説明する。Next, other embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第３図は、本発明の他の実施例のマスタースタンパ−の
製造方法の製造工程図である。ガラス原盤洗浄工程から
現像工程までは上記第２図の実施例と同様に行ない、レ
ジスト層変質化工程において、０．６μｍのフィルター
で濾過した窒素ガスを６００°Ｃに加熱し、レジスト層
２に３０分間吹き付け、レジスト層２を変質させ、レジ
スト変質層６を形成後、金属層形成１の工程で、抵抗加
熱式蒸着機を用いて厚み６００人の銀層を金属層３とし
て形成する。それ以降の工程も上記第２図の実施例と同
様に行な−、１枚目のマスタースタンパ−６を完成する
。さらに、レジスト変質層６が密着して凸凹状の信号も
しくはトラック溝を形成している原盤を純水、有機溶剤
などで洗浄後、金属層形成１の工程以降を繰り返すこと
により、２枚目のマスタースタンパ−６を完成する。FIG. 3 is a manufacturing process diagram of a method for manufacturing a master stamper according to another embodiment of the present invention. The steps from the glass master cleaning step to the developing step are carried out in the same manner as in the embodiment shown in FIG. After spraying for 30 minutes to alter the properties of the resist layer 2 and form the altered resist layer 6, in the step of metal layer formation 1, a 600 mm thick silver layer is formed as the metal layer 3 using a resistance heating type vapor deposition machine. The subsequent steps are carried out in the same manner as in the embodiment shown in FIG. 2, and the first master stamper 6 is completed. Furthermore, after cleaning the master disc on which the resist deteriorated layer 6 is in close contact and forming uneven signals or track grooves with pure water, organic solvent, etc., repeating the steps from metal layer formation 1 onwards, the second disc is prepared. Complete master stamper 6.
更に本発明の他の実施例として、第３図のマスタースタ
ンパ−製造方法の製造工程と同様の工程で０．５μｍの
フィルターで濾過した窒素ガスを１２０°Ｃに加熱し、
レジスト層２に２時間吹き付けることによりレジスト変
質層６を形成し、第３図の実施例と同様にして２枚のマ
スタースタンパ−５ｔｌ−完成する。Furthermore, as another embodiment of the present invention, nitrogen gas filtered through a 0.5 μm filter is heated to 120° C. in a step similar to the manufacturing step of the master stamper manufacturing method shown in FIG.
A resist deterioration layer 6 is formed by spraying the resist layer 2 for 2 hours, and two master stampers 5tl are completed in the same manner as the embodiment shown in FIG.
なお、上記各実施例では加熱する方法として高周波スパ
ッター、温風を用い、さらに、レジストを変質した後、
もしくは変質と同時に金属層３の形成を行なっているが
、加熱方法はそれだけに限定されるものではなく、レジ
スト層２を変質できる加熱方法であれば何でも良い。ま
た、金属層形成１の工程後にレジスト層２の変質を行な
っても良い。例えば、レジスト層２上に直流スパッター
でニクロムの金属層３を形成口た後、金属層形成の工程
で、金属の電解メッキを行なうと同時に、その電流で上
記ニクロムの金属層を加熱させ、金属層４を形成する時
にレジスト変質層６を形成しても良い。In each of the above examples, high frequency sputtering and hot air were used as the heating method, and after the resist was altered,
Alternatively, the metal layer 3 is formed at the same time as the alteration, but the heating method is not limited to this, and any heating method that can alter the resist layer 2 may be used. Furthermore, the resist layer 2 may be altered after the step of forming the metal layer 1. For example, after forming the nichrome metal layer 3 on the resist layer 2 by direct current sputtering, electrolytic plating of the metal is performed in the metal layer formation process, and at the same time, the nichrome metal layer is heated by the electric current. The resist deterioration layer 6 may be formed when forming the layer 4.
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明はガラス原盤上
にレジスト層を形成後、その面上に凸凹状の信号もしく
はトラック溝を形成し、その面上に金属層を形成し、さ
らにその金属層上に同種もしくは異種の金属層を形成す
る際に、凸凹状の信号、もしくはトラック溝を形成した
後から、同種もしくは異種の金属層を形成するまでの間
において、レジスト層を１２０”Ｃ以上の温度で加熱し
、レジスト全体を変質させるようにしたものであるから
、レジスト層を強固にし、さらにレジスト溶解液（有機
溶剤を含む）Ｋ対しても不溶解性になるので剥離工程に
おいてガラス原盤上にレジスト層が破壊さｎることなく
密着して残り、また有機溶剤での洗浄も可能なため、１
度凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成している原盤
から複数枚のマスタースタンパーが製造でき、その結果
、１枚のマスタースタンパ−が破損しても、再度、最初
から行なう必要がないという効果が得られる。Effects of the Invention As is clear from the above explanation, the present invention involves forming a resist layer on a glass master, forming uneven signal or track grooves on that surface, forming a metal layer on that surface, Furthermore, when forming a metal layer of the same type or a different type on the metal layer, after forming the uneven signal or track groove and before forming the metal layer of the same type or a different type, the resist layer is Since it is heated at a temperature higher than C to change the quality of the entire resist, it strengthens the resist layer and also becomes insoluble in the resist solution (including organic solvent) K, so it is difficult to remove during the stripping process. In the process, the resist layer remains in close contact with the glass master without being destroyed, and it can also be cleaned with an organic solvent.
Multiple master stampers can be manufactured from a master disk on which uneven signals or track grooves are formed, and as a result, even if one master stamper is damaged, there is no need to start from scratch again. can get.
また、従来に比べ、２倍以上のマザースタンパ−が製造
できる。さらに、レジスト層が強固になっているため、
剥離工程でマスタースタンバ−の表面にレジストが残留
せず、したがって凸凹状の信号、もしくはトランク溝の
寸法、形状に影響がなく、複製体の特性にも影響を与え
ないと云う優れた効果が得られる。その他にも、レジス
ト洗浄工程を失くすることができ、工程を簡易化できる
。Furthermore, more than twice as many mother stampers can be produced as compared to the conventional method. Furthermore, since the resist layer is stronger,
The excellent effect is that no resist remains on the surface of the master stambar during the peeling process, so there is no effect on uneven signals or the size and shape of trunk grooves, and there is no effect on the characteristics of the replica. It will be done. In addition, the resist cleaning step can be eliminated, and the process can be simplified.
さらにコストも上記各利点により大巾に下げることがで
きるなどの効果も得られる。Further, due to the above-mentioned advantages, the cost can be significantly reduced.
第１図は、従来のマスタースタンバ−の製造方法の製造
工程図、第２図は、本発明の一実施例に一スタンパーの
製造方法の製造工程図である。
１・・・・ガラス原盤、２・・・・・・レジスト層、３
・・・・・金属層、４・・・・金属層、５・・・・・・
マスタースタンバ−１−６・・・・・・レジスト変質層
。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
第２図
第３図FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a conventional master stamper manufacturing method, and FIG. 2 is a manufacturing process diagram of a stamper manufacturing method according to an embodiment of the present invention. 1...Glass master, 2...Resist layer, 3
...metal layer, 4...metal layer, 5...
Master stand bar 1-6...Resist altered layer. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Figure 2 Figure 3
Claims (1)
層の表面に凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成し、
その表面に金属層を形成し、さらにこの金属層上に同種
もしくは異種の金属層を形成するとともに、上記凸凹状
の信号もしくはトラック溝を形成した後から同種もしく
は異種の金属層を形成するまでの間において、上記レジ
スト層を１２０°Ｃ以上の温度で加熱し、レジスト層全
体After forming a resist layer on the glass master, forming uneven signals or track grooves on the surface of this resist layer,
A metal layer is formed on the surface, and a metal layer of the same type or a different type is formed on this metal layer, and after the uneven signal or track groove is formed until the metal layer of the same type or a different type is formed. In the meantime, the resist layer is heated to a temperature of 120°C or higher, and the entire resist layer is heated to a temperature of 120°C or higher.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58136412A JPS6028048A (en) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | Master stamper manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58136412A JPS6028048A (en) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | Master stamper manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6028048A true JPS6028048A (en) | 1985-02-13 |
| JPH0421255B2 JPH0421255B2 (en) | 1992-04-09 |
Family
ID=15174553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58136412A Granted JPS6028048A (en) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | Master stamper manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6028048A (en) |
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