JPS6029165U - 蒸着用ウエ−ハホ−ルダ - Google Patents

蒸着用ウエ−ハホ−ルダ

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JPS6029165U
JPS6029165U JP11828983U JP11828983U JPS6029165U JP S6029165 U JPS6029165 U JP S6029165U JP 11828983 U JP11828983 U JP 11828983U JP 11828983 U JP11828983 U JP 11828983U JP S6029165 U JPS6029165 U JP S6029165U
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JP
Japan
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wafer
area
wafer holder
deposition
holder
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JP11828983U
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中島　芳廣
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は真空蒸着装置の概略を示す模式図、第２図はウ
ェーハ加熱温度とパーマロイ膜の保持力とめ実験データ
を示すグラフ、第３図は従来のウエーハホールダの模式
図、第４図は本考案による　　、モニタウェーハを増設
したウエーハホールダの模式図である。 １・・・蒸着リース、２・・・真空チャンバー、３・・
・つ′エーハホールド本体、４・・・加熱ヒータ、５・
・・製品ウェーハ、６・・・モニタウェーハ、７・・・
モニタウェーハ１゜

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ♂ 一定温度に加熱され真空蒸着される製品ウェー′ハを装
    着、保持される蒸着用ウエーハホールダに都いて、ウエ
    ーハホールダ本体の製品ウェーハ取付領域内と、陪ウェ
    ーハ取付領域外の温度条件が異なる領域とにそれぞれモ
    ニタウェーハを装着したことを特徴とする蒸着用ウエー
    ノ１ホールダ。
JP11828983U 1983-07-29 1983-07-29 蒸着用ウエ−ハホ−ルダ Pending JPS6029165U (ja)

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JP11828983U JPS6029165U (ja) 1983-07-29 1983-07-29 蒸着用ウエ−ハホ−ルダ

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JPS6029165U true JPS6029165U (ja) 1985-02-27

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