JPS60364U - 基板の加熱装置 - Google Patents

基板の加熱装置

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Publication number
JPS60364U
JPS60364U JP9123183U JP9123183U JPS60364U JP S60364 U JPS60364 U JP S60364U JP 9123183 U JP9123183 U JP 9123183U JP 9123183 U JP9123183 U JP 9123183U JP S60364 U JPS60364 U JP S60364U
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JP
Japan
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heating device
substrate heating
vapor deposition
substrate
support rod
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Pending
Application number
JP9123183U
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English (en)
Inventor
成人 小島
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
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Publication of JPS60364U publication Critical patent/JPS60364U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図Ａ、　Ｂ、　Ｃは従来の加熱装置を示す断面図、
第２図は本考案の一実施例を示す縦断側面図、第３図は
第２図■−■線相当部分の断面図、第４図は昇温時間と
設定時間へのコントロールレスポンスを示すグラフ、第
５図は加熱効率を示すグラフである。 １・・・ベースプレート、２・・・支持杆、３・・・加
熱ヒータ、４・・・基板、５・・・基板回転用フランジ
、７・・・モータ、１０・・・回転部材、１１・・・キ
ャップ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. シリンダ型基板への蒸着を行なう蒸着装置において、該
    基板を嵌合する支持杆の周面に赤外ヒータ、熱電子銃等
    の熱容量の小さい加熱源を配設したことを特徴とする基
    板の加熱装置。
JP9123183U 1983-06-16 1983-06-16 基板の加熱装置 Pending JPS60364U (ja)

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JP9123183U JPS60364U (ja) 1983-06-16 1983-06-16 基板の加熱装置

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JP9123183U JPS60364U (ja) 1983-06-16 1983-06-16 基板の加熱装置

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