JPS6030352A - インクジエツトヘツド - Google Patents
インクジエツトヘツドInfo
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- JPS6030352A JPS6030352A JP13724883A JP13724883A JPS6030352A JP S6030352 A JPS6030352 A JP S6030352A JP 13724883 A JP13724883 A JP 13724883A JP 13724883 A JP13724883 A JP 13724883A JP S6030352 A JPS6030352 A JP S6030352A
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- JP
- Japan
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- support substrate
- piezoelectric polymer
- inkjet head
- electrode
- displaced
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- Pending
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
-
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- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2002/14379—Edge shooter
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2002/14387—Front shooter
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
挟４北見
本発明は、インク室のインクを加圧してインク滴を噴射
するインクジェットヘッド、より詳細には、インク室の
インクを加圧する加圧素子として、圧電性高分子を用い
たインクジェットヘッドに関する。
するインクジェットヘッド、より詳細には、インク室の
インクを加圧する加圧素子として、圧電性高分子を用い
たインクジェットヘッドに関する。
従】Ｕえ爾−
インクジェット記録装置は周知であり、そのためのイン
クジェットヘッドも種々提案されているが、その代表的
なものに、セラミック電歪素子を用いたインクジェット
ヘッドがある。しかし、このヘッドは、インク加圧部の
面積が大きくすなわち電歪素子が大きく、マルチ化に限
界があった。
クジェットヘッドも種々提案されているが、その代表的
なものに、セラミック電歪素子を用いたインクジェット
ヘッドがある。しかし、このヘッドは、インク加圧部の
面積が大きくすなわち電歪素子が大きく、マルチ化に限
界があった。
その他に、電界又は磁界の作用を利用したインクジェッ
トヘッド、或いは、バブルによるインクジェットヘッド
等も提案されているが、前者は比較的高電圧を要するた
め、駆動回路の小型化に限界があり、後者は熱パルスに
よって気泡の発生を繰り返すため、耐久性の点で問題が
あった。而して、インクジェットヘッドは、印写信号に
応じてインク室の体積を減少させてつまりインク室のイ
ンクに加圧を加えてインク滴を噴射させるものであり、
当然のことながら、その加圧手段として圧電性高分子を
使用することができる。
トヘッド、或いは、バブルによるインクジェットヘッド
等も提案されているが、前者は比較的高電圧を要するた
め、駆動回路の小型化に限界があり、後者は熱パルスに
よって気泡の発生を繰り返すため、耐久性の点で問題が
あった。而して、インクジェットヘッドは、印写信号に
応じてインク室の体積を減少させてつまりインク室のイ
ンクに加圧を加えてインク滴を噴射させるものであり、
当然のことながら、その加圧手段として圧電性高分子を
使用することができる。
第１図は、従来の圧電性高分子を用いたマルチノズルの
インクジェットヘッドの一ヘッド例を示す図で、図中、
■は支持基板、１′は支持基板の変位部、２は変位部電
極、３は圧電性高分子、４ハクランド電極、５は保護層
、６はインク加圧室形成部材、７は外気と通じる空腔で
あるが、上記従来のマルチノズルのインクジェットヘッ
ドにおいては、ＩＣ技術の応用による電極パターンの形
成上、変位部電極２を支持基板１′上に蒸着等によって
取り付けており、そのため、電極２と支持基板１′とが
接合されており、電圧駆動によって圧電性高分子が変位
するとき、支持基板１′も共に変位しなければならず、
大きな負荷を伴なうことになる。
インクジェットヘッドの一ヘッド例を示す図で、図中、
■は支持基板、１′は支持基板の変位部、２は変位部電
極、３は圧電性高分子、４ハクランド電極、５は保護層
、６はインク加圧室形成部材、７は外気と通じる空腔で
あるが、上記従来のマルチノズルのインクジェットヘッ
ドにおいては、ＩＣ技術の応用による電極パターンの形
成上、変位部電極２を支持基板１′上に蒸着等によって
取り付けており、そのため、電極２と支持基板１′とが
接合されており、電圧駆動によって圧電性高分子が変位
するとき、支持基板１′も共に変位しなければならず、
大きな負荷を伴なうことになる。
一圧一一」町
本発明は、上述のごとき従来技術の欠点を解消するため
になされたもので、特に、圧電性高分子が変位する際、
該圧電性高分子の変位部が支持基板から離れるようにし
、もって、負荷の軽減を図ったものである。
になされたもので、特に、圧電性高分子が変位する際、
該圧電性高分子の変位部が支持基板から離れるようにし
、もって、負荷の軽減を図ったものである。
鼻−一部
本発明の構成について、以下、実施例に基づいて説明す
る。
る。
第２図は、本発明によるインクジェットヘッドの一実施
例を説明するための要部構成図で、図中、第１図と同様
の作用をする部分には第１図の場合と同一の参照番号が
付しである。而して、本発明においては、支持基板側電
極２と変位部支持基板１＃どの間に。
例を説明するための要部構成図で、図中、第１図と同様
の作用をする部分には第１図の場合と同一の参照番号が
付しである。而して、本発明においては、支持基板側電
極２と変位部支持基板１＃どの間に。
（ａ）支持基板とは非接着性であること、（ｂ）物理的
・化学的などのなんらかの表面処理を施こすことによっ
て、支持基板側電極とは、（１）直接に、または、（Ｉ
Ｉ）その処理面と支持基板側電極とのの間に接着層を介
在させることにより間接的に接着させること、 （ｃ）支持基板の一部または全面に通気孔を設ける際に
、耐エッチ性を有していること、 を特徴としてもつ高分子化合物（接着、非接着層）８を
設け、これによって、圧電性高分子の変位部が支持基板
から離れることができるようにしている。従って、本発
明によると、高分子化合物８は圧電性高分子３とは接着
されているので、該圧電性高分子が変位する時は該圧電
性高分子と共に変位するが、変位部支持基板１”とは非
接着である３− ので、該変位部支持基板１＃とは容易に離れることがで
き、従って、該変位部支持基板１″′は変位する必要は
ない。なお、その際、変位部支持基板１′に第３図に示
すように通気孔１ａを設けておくと、圧電性高分子の変
位をより容易に行うことができる。
・化学的などのなんらかの表面処理を施こすことによっ
て、支持基板側電極とは、（１）直接に、または、（Ｉ
Ｉ）その処理面と支持基板側電極とのの間に接着層を介
在させることにより間接的に接着させること、 （ｃ）支持基板の一部または全面に通気孔を設ける際に
、耐エッチ性を有していること、 を特徴としてもつ高分子化合物（接着、非接着層）８を
設け、これによって、圧電性高分子の変位部が支持基板
から離れることができるようにしている。従って、本発
明によると、高分子化合物８は圧電性高分子３とは接着
されているので、該圧電性高分子が変位する時は該圧電
性高分子と共に変位するが、変位部支持基板１”とは非
接着である３− ので、該変位部支持基板１＃とは容易に離れることがで
き、従って、該変位部支持基板１″′は変位する必要は
ない。なお、その際、変位部支持基板１′に第３図に示
すように通気孔１ａを設けておくと、圧電性高分子の変
位をより容易に行うことができる。
前記非接着性の高分子化合物としては、テフロン等のフ
ッ素樹脂系のものが適しているが、以下にその理由を説
明する。
ッ素樹脂系のものが適しているが、以下にその理由を説
明する。
テフロンなどのフッ素樹脂は、耐熱性、電気絶縁性、撥
水性、非接着性、耐薬品性などにすぐれている。本発明
では、上記（ａ）、（Ｃ）から非接着性と耐エツチング
性が要求されるが、テフロンはその両要件を満たしてい
る。また、テフロン樹脂は、スパッタリングによって薄
膜形成ができるので、小型化・マルチ化などの微細加工
に適し、しかも量産性によい。さらに、テフロンは、ス
パッタエッチ処理等による表面処理を施こすことにより
、その表面に接着力を持たせることができ、これによっ
て、上記（ｂ）の要件を満たすことができ４− る。このように本発明は、テフロンのような高分子化合
物を用いることにより、所期の目的を達成することがで
きる。なお、以上には、変位部電極２とグランド電極４
との間に圧電性高分子３をサンドイッチした場合の例に
ついて説明したが、本発明は、上記実施例に限定される
ものではなく、例えば、圧電性高分子をバイモルフ構成
したものについても適用可能であることは容易に理解で
きよう。
水性、非接着性、耐薬品性などにすぐれている。本発明
では、上記（ａ）、（Ｃ）から非接着性と耐エツチング
性が要求されるが、テフロンはその両要件を満たしてい
る。また、テフロン樹脂は、スパッタリングによって薄
膜形成ができるので、小型化・マルチ化などの微細加工
に適し、しかも量産性によい。さらに、テフロンは、ス
パッタエッチ処理等による表面処理を施こすことにより
、その表面に接着力を持たせることができ、これによっ
て、上記（ｂ）の要件を満たすことができ４− る。このように本発明は、テフロンのような高分子化合
物を用いることにより、所期の目的を達成することがで
きる。なお、以上には、変位部電極２とグランド電極４
との間に圧電性高分子３をサンドイッチした場合の例に
ついて説明したが、本発明は、上記実施例に限定される
ものではなく、例えば、圧電性高分子をバイモルフ構成
したものについても適用可能であることは容易に理解で
きよう。
効−−ヨ１
以上の説明から明らかなように、本発明によると、圧電
性高分子が変位する際、該圧電性高分子の変位部が支持
基板から離れるので、圧電性高分子と共に支持基板を変
位させなけれがならない従来技術に比し、圧電性高分子
を変位させるための負荷を軽減することができ、圧電性
高分子の変位量の効率向上を図ることができる。また、
その際、圧電性高分子と変位部支持基板との間に配設さ
れた高分子化合物（接着、非接着層）が支持基板側電極
を保護する役割をもする。
性高分子が変位する際、該圧電性高分子の変位部が支持
基板から離れるので、圧電性高分子と共に支持基板を変
位させなけれがならない従来技術に比し、圧電性高分子
を変位させるための負荷を軽減することができ、圧電性
高分子の変位量の効率向上を図ることができる。また、
その際、圧電性高分子と変位部支持基板との間に配設さ
れた高分子化合物（接着、非接着層）が支持基板側電極
を保護する役割をもする。
第１図は、従来のインクジェットヘッドの一例を説明す
るための要部構成図、第２図は１本発明によるインクジ
ェット記録装置の一実施例を説明するための構成図、第
３図は、変位部支持基板の平面図である。 １・・・支持基板、２・・・変位部電極、３・・・圧電
性高分子、４・・・グランド電極、５・・・保護層、６
・・・インク加圧室形成部材、７・・・空腔、８・・・
高分子化合物（接着、非接着層）。 ７− 第 １ 図 ら −９へ１−
るための要部構成図、第２図は１本発明によるインクジ
ェット記録装置の一実施例を説明するための構成図、第
３図は、変位部支持基板の平面図である。 １・・・支持基板、２・・・変位部電極、３・・・圧電
性高分子、４・・・グランド電極、５・・・保護層、６
・・・インク加圧室形成部材、７・・・空腔、８・・・
高分子化合物（接着、非接着層）。 ７− 第 １ 図 ら −９へ１−
Claims (1)
- 支持基板上に、変位部電極とグランド電極とでサンドイ
ンチされた圧電性高分子又は圧電性高分子を用いたバイ
モルフと、その保護層と、インク加圧室形成部とを有す
るインクジェットヘッドにおいて、前記支持基板と支持
基板側電極とが接合されていないことを特徴とするイン
クジェットヘッド。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13724883A JPS6030352A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | インクジエツトヘツド |
| US06/634,543 US4588998A (en) | 1983-07-27 | 1984-07-26 | Ink jet head having curved ink |
| DE19843427850 DE3427850A1 (de) | 1983-07-27 | 1984-07-27 | Farbstrahlkopf |
| US06/832,571 US4700203A (en) | 1983-07-27 | 1986-02-24 | Ink jet head for compressing ink to eject drops of ink |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13724883A JPS6030352A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | インクジエツトヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6030352A true JPS6030352A (ja) | 1985-02-15 |
Family
ID=15194227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13724883A Pending JPS6030352A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | インクジエツトヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6030352A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013176853A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、および、液体噴射ヘッドの駆動方法 |
-
1983
- 1983-07-27 JP JP13724883A patent/JPS6030352A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013176853A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、および、液体噴射ヘッドの駆動方法 |
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