JPS6032498B2 - エステル化触媒の再生方法 - Google Patents
エステル化触媒の再生方法Info
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- JPS6032498B2 JPS6032498B2 JP53077671A JP7767178A JPS6032498B2 JP S6032498 B2 JPS6032498 B2 JP S6032498B2 JP 53077671 A JP53077671 A JP 53077671A JP 7767178 A JP7767178 A JP 7767178A JP S6032498 B2 JPS6032498 B2 JP S6032498B2
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/584—Recycling of catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、共役ジェン、カルポン酸および分子状酸素を
反応させて不飽和グリコールジェステルを製造する際に
用いられた活性炭迫体付パラジウム系触媒の再生方法に
係るものである。
反応させて不飽和グリコールジェステルを製造する際に
用いられた活性炭迫体付パラジウム系触媒の再生方法に
係るものである。
詳しくは、本発明は、パラジウムと特定の金属とを活性
炭に狸持させた不飽和グリコールジェステル製造用触媒
の再生方法に係るものである。共役ジヱン、カルボン酸
および分子状酸素を反応させて不飽和グリコールジェス
テルを製造するにあたり、パラジウム系触媒が有効であ
ることは公知である。
炭に狸持させた不飽和グリコールジェステル製造用触媒
の再生方法に係るものである。共役ジヱン、カルボン酸
および分子状酸素を反応させて不飽和グリコールジェス
テルを製造するにあたり、パラジウム系触媒が有効であ
ることは公知である。
本発明者等は、不飽和グリコールジェステル製造用触媒
としてパラジウムとビスマス・セレン、アンチモンおよ
びテルルから選ばれる少くとも一種を活性炭担体に担持
させた触媒は、極めてすぐれたものであることを見出し
たが、か)る触媒といえども長時間の使用によりその触
媒活性が徐々に低下することは避けられなし、。か)る
触媒活性低下の原因としては種々の理由が挙げられ、例
えば、この種の反応および触媒に関して一般に認められ
ているような触媒上への炭素を含む付着物の生成も原因
の一つであるが、その他に詳細は必ずしも明らかではな
いが、触媒中の構成要素であるパラジウムならびにビス
マス、セレン、アンチモンおよびテルルから選ばれた少
くとも一種の添加物とから形成される固溶体および/ま
たは合金が、長時間に亘る使用によりェステル化反応条
件下で主として分子状酸素の作用を受けて変化し、触媒
性能の低下を生ずることもその一つと推測される。
としてパラジウムとビスマス・セレン、アンチモンおよ
びテルルから選ばれる少くとも一種を活性炭担体に担持
させた触媒は、極めてすぐれたものであることを見出し
たが、か)る触媒といえども長時間の使用によりその触
媒活性が徐々に低下することは避けられなし、。か)る
触媒活性低下の原因としては種々の理由が挙げられ、例
えば、この種の反応および触媒に関して一般に認められ
ているような触媒上への炭素を含む付着物の生成も原因
の一つであるが、その他に詳細は必ずしも明らかではな
いが、触媒中の構成要素であるパラジウムならびにビス
マス、セレン、アンチモンおよびテルルから選ばれた少
くとも一種の添加物とから形成される固溶体および/ま
たは合金が、長時間に亘る使用によりェステル化反応条
件下で主として分子状酸素の作用を受けて変化し、触媒
性能の低下を生ずることもその一つと推測される。
しかして活性低下した貴金属触媒の再生処理は一般には
失活した触媒を400℃乃至600qoの温度で分子状
酸素により酸化処理し、触媒上の付着物を婚擁すると同
時に貴金属を相当する酸化物とし、次いで、生成した酸
化物を適当な方法で金属状態に再還元する方法が用いら
れている。
失活した触媒を400℃乃至600qoの温度で分子状
酸素により酸化処理し、触媒上の付着物を婚擁すると同
時に貴金属を相当する酸化物とし、次いで、生成した酸
化物を適当な方法で金属状態に再還元する方法が用いら
れている。
しかしながら、このような一般的再生処理方法は不飽和
グリコールジェステル製造用の特定触媒の再生方法とし
ては適当でない。
グリコールジェステル製造用の特定触媒の再生方法とし
ては適当でない。
即ち、本願発明方法により処理される触媒は、触媒の担
体として活性炭が用いられているので、高温度における
分子状酸素による処理は、担体自体の燃焼が活発となり
好ましくなく、一方、担体の燃焼を避けるために処理温
度を低くすると触媒付着物の十分な燃焼効果が蓬せられ
ない。それ故このような触媒に対しては、貴金属触媒の
一般的再生方法をそのまま適用することはできない。本
発明者等はェステル化反応に用いられる活性炭担体のパ
ラジウム系触媒の再生処理方法について鋭意研究した結
果、活性低下した触媒を酢酸および分子状酸素と接触さ
せることにより安定な活性を有する触媒に再生しうろこ
とを見出し、本発明を達成した。
体として活性炭が用いられているので、高温度における
分子状酸素による処理は、担体自体の燃焼が活発となり
好ましくなく、一方、担体の燃焼を避けるために処理温
度を低くすると触媒付着物の十分な燃焼効果が蓬せられ
ない。それ故このような触媒に対しては、貴金属触媒の
一般的再生方法をそのまま適用することはできない。本
発明者等はェステル化反応に用いられる活性炭担体のパ
ラジウム系触媒の再生処理方法について鋭意研究した結
果、活性低下した触媒を酢酸および分子状酸素と接触さ
せることにより安定な活性を有する触媒に再生しうろこ
とを見出し、本発明を達成した。
本発明は、不飽和グリコールジェステル製造用触媒の工
業的に有用な再生方法を提供することを**目的とし、
か)る目的は、本発明に従い、共役ジェン、カルボン酸
および分子状酸素から不飽和グリコールジェステルを製
造するためのパラジウムならびにビスマス、セレン、ア
ンチモンおよびテルルから選ばれる少くとも一種を活性
炭に担持させた触媒を、酢酸および分子状酸素と接触さ
せることにより極めて容易に達成される。
業的に有用な再生方法を提供することを**目的とし、
か)る目的は、本発明に従い、共役ジェン、カルボン酸
および分子状酸素から不飽和グリコールジェステルを製
造するためのパラジウムならびにビスマス、セレン、ア
ンチモンおよびテルルから選ばれる少くとも一種を活性
炭に担持させた触媒を、酢酸および分子状酸素と接触さ
せることにより極めて容易に達成される。
次に、本発明を更に詳細に説明する。
共役ジェン、カルボン酸および分子状酸素から不飽和グ
リコールジェステルを製造する反応は下記の一般式で示
される。
リコールジェステルを製造する反応は下記の一般式で示
される。
(式中、R,〜6は、水素原子または低級アルキル基を
表わし、R7は低級アルキル基を表わす。
表わし、R7は低級アルキル基を表わす。
)出発物質としてブタジェンおよび酢酸を用いた場合に
は主として1・4−ジアセトキシーブテン−2が生成す
る。本発明方法により再生処理される触媒は、上記反応
に使用されて活性を失った触媒であり、パラジウムとビ
スマス、セレン、アンチモンおよびテルルの少くとも一
種を活性炭に坦持させたものである。
は主として1・4−ジアセトキシーブテン−2が生成す
る。本発明方法により再生処理される触媒は、上記反応
に使用されて活性を失った触媒であり、パラジウムとビ
スマス、セレン、アンチモンおよびテルルの少くとも一
種を活性炭に坦持させたものである。
しかして、か)る触媒は、担体付金属触媒を調製するた
めの一般的な方法で調製され、例えば、塩化パラジウム
、酢酸パラジウムなどのパラジウム化合物ならびにアン
チモン化合物、ビスマス化合物、セレン化合物およびテ
ルル化合物の少くとも一種を適当な溶媒に溶解し、その
溶液に活性炭を入れ、溶媒を溜去して活性炭に上記の成
分を付着させ、しかる後水素もしくはメタノール等の還
元力のある有機化合物の気流中で還元するか或はヒドラ
ジンまたはホルマリンなど周知の還元剤により還元して
調製される。
めの一般的な方法で調製され、例えば、塩化パラジウム
、酢酸パラジウムなどのパラジウム化合物ならびにアン
チモン化合物、ビスマス化合物、セレン化合物およびテ
ルル化合物の少くとも一種を適当な溶媒に溶解し、その
溶液に活性炭を入れ、溶媒を溜去して活性炭に上記の成
分を付着させ、しかる後水素もしくはメタノール等の還
元力のある有機化合物の気流中で還元するか或はヒドラ
ジンまたはホルマリンなど周知の還元剤により還元して
調製される。
また、場合により、活性炭を予め硝酸で処理しておくこ
と、あるいは活性成分の担持後に触媒に対して上記のよ
うな還元処理と分子状酸素による酸化処理を繰り返し、
最後に還元処理を行なうことは触媒の活性を向上させる
ので好ましい操作である。このようにして得られる触媒
の担体上のパラジウム濃度は一般には0.1〜20重量
%であり、添加金属の比率は通常パラジウム1グラム原
子に対し、その合計量が0.01〜10グラム原子程度
である。本発明方法による触媒の再生は、活性低下した
触媒を室温〜200午○、好ましくは室温〜150℃の
温度条件下に、常圧〜10悦気圧で酢酸および分子状酸
素と1時間以上接触させることにより行なわれる。
と、あるいは活性成分の担持後に触媒に対して上記のよ
うな還元処理と分子状酸素による酸化処理を繰り返し、
最後に還元処理を行なうことは触媒の活性を向上させる
ので好ましい操作である。このようにして得られる触媒
の担体上のパラジウム濃度は一般には0.1〜20重量
%であり、添加金属の比率は通常パラジウム1グラム原
子に対し、その合計量が0.01〜10グラム原子程度
である。本発明方法による触媒の再生は、活性低下した
触媒を室温〜200午○、好ましくは室温〜150℃の
温度条件下に、常圧〜10悦気圧で酢酸および分子状酸
素と1時間以上接触させることにより行なわれる。
酢酸はガス状で用いても液状で用いてもよく、また、分
子状酸素は窒素、アルゴン等の不活性ガスで稀釈して用
いることもできる。触媒を酢酸および分子状酸素と接触
させる方法としては、ガス状の酢酸および酸素ガスを混
合し、触媒層に流通させる方法あるいは触媒を液状の酢
酸中に浸潰し、酸素ガスを供給して蝿拝するかまたは酸
素ガスを吹き込む方法などを採用することができる。以
上に詳述したように本発明方法によれば、失活したェス
テル化触媒を酢酸および分子状酸素と接触させるという
簡単な操作で再生することができるので工業上利用価値
が高い。
子状酸素は窒素、アルゴン等の不活性ガスで稀釈して用
いることもできる。触媒を酢酸および分子状酸素と接触
させる方法としては、ガス状の酢酸および酸素ガスを混
合し、触媒層に流通させる方法あるいは触媒を液状の酢
酸中に浸潰し、酸素ガスを供給して蝿拝するかまたは酸
素ガスを吹き込む方法などを採用することができる。以
上に詳述したように本発明方法によれば、失活したェス
テル化触媒を酢酸および分子状酸素と接触させるという
簡単な操作で再生することができるので工業上利用価値
が高い。
次に本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例 1
4〜6メッシュのャシガラ破砕炭9.5k9に水5.5
k9および6の重量%硝酸水溶液7.13k9を加え、
90〜94qoに3時間保持した。
k9および6の重量%硝酸水溶液7.13k9を加え、
90〜94qoに3時間保持した。
冷却後、炉過して硝酸を除去し、硝酸パラジウムおよび
テルルを硝酸に溶解して得られたパラジウム濃度16夕
/そ、テルル濃度5.2のその水溶液15.2k9を添
加し30q0に3時間保持したのち5時間放冷した。次
いで固形物を炉取し、24仇肋Hgの圧力下に最高13
9こ0で8時間乾燥した。得られた触媒(以下、触媒−
1という。)はパラジウム2.72重量%およびテルル
0.49重量%(いずれも単体換算値)を含有していた
。上記触媒−1 500ccを内径2.8弧(有効断面
積5.4の)のステンレス製活性化容器に充填し(層高
弊伽)、メタノールガス8容量%を含有する窒素を65
0N〆′hrの流量で流通させながら毎時50℃の割合
で昇温して400qCに到達したところ4時間保持した
のち、窒素気流中で室温まで放冷した。次に流通ガスを
酸素ガス2容量%を含有する窒素に切り換え、流量65
0N〆′hrで流通させながら300午0に1虫時間保
持したのち、窒素気流中で室温まで放冷した。次いで、
8容量%のメタノールガスを含有する窒素を650N夕
/hrの割合で流通させながら毎時50ooの割合で昇
温し、400ooに1虫時間保持したのち、窒素気流中
で室温まで冷却し、続いて酸素ガス2容量%を含有する
窒素を65州夕/hrで流通させながら300午Cに1
時間保持したのち窒素気流中で冷却し、触媒−2を得た
。触媒−2 25ccを有効断面積5.0幼の耐熱ガラ
ス製活性化容器に装入し、水素ガスを32.州夕/hr
の割合で流通させながら、毎時50℃の割合で昇温し、
40000に到達したところで4時間保持し、窒素気流
中で室温まで冷却した。
テルルを硝酸に溶解して得られたパラジウム濃度16夕
/そ、テルル濃度5.2のその水溶液15.2k9を添
加し30q0に3時間保持したのち5時間放冷した。次
いで固形物を炉取し、24仇肋Hgの圧力下に最高13
9こ0で8時間乾燥した。得られた触媒(以下、触媒−
1という。)はパラジウム2.72重量%およびテルル
0.49重量%(いずれも単体換算値)を含有していた
。上記触媒−1 500ccを内径2.8弧(有効断面
積5.4の)のステンレス製活性化容器に充填し(層高
弊伽)、メタノールガス8容量%を含有する窒素を65
0N〆′hrの流量で流通させながら毎時50℃の割合
で昇温して400qCに到達したところ4時間保持した
のち、窒素気流中で室温まで放冷した。次に流通ガスを
酸素ガス2容量%を含有する窒素に切り換え、流量65
0N〆′hrで流通させながら300午0に1虫時間保
持したのち、窒素気流中で室温まで放冷した。次いで、
8容量%のメタノールガスを含有する窒素を650N夕
/hrの割合で流通させながら毎時50ooの割合で昇
温し、400ooに1虫時間保持したのち、窒素気流中
で室温まで冷却し、続いて酸素ガス2容量%を含有する
窒素を65州夕/hrで流通させながら300午Cに1
時間保持したのち窒素気流中で冷却し、触媒−2を得た
。触媒−2 25ccを有効断面積5.0幼の耐熱ガラ
ス製活性化容器に装入し、水素ガスを32.州夕/hr
の割合で流通させながら、毎時50℃の割合で昇温し、
40000に到達したところで4時間保持し、窒素気流
中で室温まで冷却した。
次に流通ガスを酸素ガス2容量%を含有する窒素に切り
換え、流量32.5N〆/hrで流通させながら300
〜315q0に15時間保持したのち窒素気流中で室温
まで冷却した。引き続き、水素ガス32.5Nそ/hr
に切り換え、毎時5000の割合で昇温し、400℃に
到達したところで4時間保持したのち、窒素気流中で室
温まで放冷し、活性化処理を終了した。得られた触媒(
以下、触媒−3という。)にはパラジウム3.0丸重量
%およびテルル0.55重量%(いずれも単体換算値)
が含有されていた。触媒一3 10cc(約4のを内径
12柵、有効断面積0.848仇のステンレス製反応管
に充填し、反応圧力60k9/鮒、反応温度100q0
において、1・3ーブタジェン0.122hole′h
r、氷酢酸2.8hole/hrおよび酸素(窒素によ
り6容量%に稀釈して使用)0.257mole′hr
の割合で流通させて連続的に反応を行なった。
換え、流量32.5N〆/hrで流通させながら300
〜315q0に15時間保持したのち窒素気流中で室温
まで冷却した。引き続き、水素ガス32.5Nそ/hr
に切り換え、毎時5000の割合で昇温し、400℃に
到達したところで4時間保持したのち、窒素気流中で室
温まで放冷し、活性化処理を終了した。得られた触媒(
以下、触媒−3という。)にはパラジウム3.0丸重量
%およびテルル0.55重量%(いずれも単体換算値)
が含有されていた。触媒一3 10cc(約4のを内径
12柵、有効断面積0.848仇のステンレス製反応管
に充填し、反応圧力60k9/鮒、反応温度100q0
において、1・3ーブタジェン0.122hole′h
r、氷酢酸2.8hole/hrおよび酸素(窒素によ
り6容量%に稀釈して使用)0.257mole′hr
の割合で流通させて連続的に反応を行なった。
反応開始1加持間後の触媒1のこついての反応時間1時
間あたりのジアセトキシブテン類の生成量は6.11m
moleであったが、i30畑時間経過後は1.84m
mole/夕−Cat・hrに低下した。
間あたりのジアセトキシブテン類の生成量は6.11m
moleであったが、i30畑時間経過後は1.84m
mole/夕−Cat・hrに低下した。
次に、1・3ーブタジヱンのみ供給を停止して4報時間
触媒の再生処理を行なったのち、1・3ーブタジェンの
供給を再開し、上記と同様に反応を行なった。その結果
、反応再開9岬時間後の触媒1のこついての反応時間1
時間あたりのジアセトキシブテン類の生成量は3.12
mmoleに回復した。反応再開43脚時間後のジアセ
トキシブテン類の生成量が2.53のmole′夕−C
at・hrに低下したので、この時点で再度1・3ーブ
タジェンの供孫舎を停止して16曲時間触媒の再生処理
を行なった。再生終了後、1・3ーブタジェンの供給を
開始し、6期時間経過後のジアセトキシブテン類の生成
量を求めたところ2.95mmole/夕−Cat・h
rであった。比較例 1実施例1の手法に準じて活性炭
に触媒成分を担持し、パラジウム2.81重量%および
テルル0.52重量%(いずれも単体換算値)を含有す
る触媒を得た。
触媒の再生処理を行なったのち、1・3ーブタジェンの
供給を再開し、上記と同様に反応を行なった。その結果
、反応再開9岬時間後の触媒1のこついての反応時間1
時間あたりのジアセトキシブテン類の生成量は3.12
mmoleに回復した。反応再開43脚時間後のジアセ
トキシブテン類の生成量が2.53のmole′夕−C
at・hrに低下したので、この時点で再度1・3ーブ
タジェンの供孫舎を停止して16曲時間触媒の再生処理
を行なった。再生終了後、1・3ーブタジェンの供給を
開始し、6期時間経過後のジアセトキシブテン類の生成
量を求めたところ2.95mmole/夕−Cat・h
rであった。比較例 1実施例1の手法に準じて活性炭
に触媒成分を担持し、パラジウム2.81重量%および
テルル0.52重量%(いずれも単体換算値)を含有す
る触媒を得た。
上記触媒50ccを有効断面積5.0地の耐熱ガラス製
活性化容器に装入し、ガス流量を1/10に変更したこ
と以外は実施例1において触媒−2を得るために行なっ
た処理と同様の処理を行なった。
活性化容器に装入し、ガス流量を1/10に変更したこ
と以外は実施例1において触媒−2を得るために行なっ
た処理と同様の処理を行なった。
上記の処理を行なった触媒25ccに実施例1において
触媒−3を得るために行なった処理と同様の処理を施し
、パラジウム3.24重量%およびテルル0.62重量
%(いずれも単体換算値)を含有する触媒を得た。上記
触媒4夕を使用して実施例1と同機の条件で1・3ープ
タジェンを酢酸および酸素と反応させた。
触媒−3を得るために行なった処理と同様の処理を施し
、パラジウム3.24重量%およびテルル0.62重量
%(いずれも単体換算値)を含有する触媒を得た。上記
触媒4夕を使用して実施例1と同機の条件で1・3ープ
タジェンを酢酸および酸素と反応させた。
反応開始3岬時間後のジアセトキシブテン類の生成量は
5.77mmole/夕−Cat・hrであり、105
虫時間後は1.81のmole/夕−Cat・hrであ
った。
5.77mmole/夕−Cat・hrであり、105
虫時間後は1.81のmole/夕−Cat・hrであ
った。
この時点で1・3−ブタジェンおよび氷酢酸の供給を停
止し、触媒層から反応液を抜き出したのち、60k9/
仇、100qoにおいて6容量%の酸素を含有する窒素
ガスを96N〆/hrの割合で90時間供給し続けた。
その後、実施例1と同一条件で反応を再開したが、反応
再開4期時間後のジアセトキシブテン類の生成量は1.
52mmole/夕‐Cat・h【であり、触媒の活性
は回復していなかった。実施例 2 比較例1において反応再開121時間後に1・3ーブタ
ジェンの供給を停止し、4甥時間酢酸および酸素による
触媒の再生処理を実施し、再び1・3ーブタジェンを供
給して反応を再開したところ、3餌時間後のジアセトキ
シブテン類の生成量は2.14凧mole/夕−Cat
・hrに回復していた。
止し、触媒層から反応液を抜き出したのち、60k9/
仇、100qoにおいて6容量%の酸素を含有する窒素
ガスを96N〆/hrの割合で90時間供給し続けた。
その後、実施例1と同一条件で反応を再開したが、反応
再開4期時間後のジアセトキシブテン類の生成量は1.
52mmole/夕‐Cat・h【であり、触媒の活性
は回復していなかった。実施例 2 比較例1において反応再開121時間後に1・3ーブタ
ジェンの供給を停止し、4甥時間酢酸および酸素による
触媒の再生処理を実施し、再び1・3ーブタジェンを供
給して反応を再開したところ、3餌時間後のジアセトキ
シブテン類の生成量は2.14凧mole/夕−Cat
・hrに回復していた。
比較例 2実施例2において反応を再開して7斑時間経
過した時点で1・3−ブタジェンおよび6容量%の酸素
を含有する窒素の供給を停止して触媒層に氷酢酸2.靴
ole/hrおよび窒素4.3mole/hrを60k
9/洲、100℃で4現時間流通させた。
過した時点で1・3−ブタジェンおよび6容量%の酸素
を含有する窒素の供給を停止して触媒層に氷酢酸2.靴
ole/hrおよび窒素4.3mole/hrを60k
9/洲、100℃で4現時間流通させた。
Claims (1)
- 1 共役ジエン、カルボン酸および分子状酸素から不飽
和グリコールジエステルを製造するためのパラジウムな
らびにビスマス、セレン、アンチモンおよびテルルから
選ばれる少くとも一種を活性炭に担持させた触媒を再生
するにあたり、活性低下した触媒を酢酸および分子状酸
素と接触させることを特徴とするエステル化触媒の再生
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53077671A JPS6032498B2 (ja) | 1978-06-27 | 1978-06-27 | エステル化触媒の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53077671A JPS6032498B2 (ja) | 1978-06-27 | 1978-06-27 | エステル化触媒の再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS553867A JPS553867A (en) | 1980-01-11 |
| JPS6032498B2 true JPS6032498B2 (ja) | 1985-07-29 |
Family
ID=13640337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53077671A Expired JPS6032498B2 (ja) | 1978-06-27 | 1978-06-27 | エステル化触媒の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032498B2 (ja) |
-
1978
- 1978-06-27 JP JP53077671A patent/JPS6032498B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS553867A (en) | 1980-01-11 |
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