JPS603400B2 - 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法 - Google Patents

3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法

Info

Publication number
JPS603400B2
JPS603400B2 JP14371880A JP14371880A JPS603400B2 JP S603400 B2 JPS603400 B2 JP S603400B2 JP 14371880 A JP14371880 A JP 14371880A JP 14371880 A JP14371880 A JP 14371880A JP S603400 B2 JPS603400 B2 JP S603400B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
deoxy
formula
iodo
general formula
glucose derivative
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP14371880A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5767594A (en
Inventor
良宏 堀尾
勝 天野
雅英 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wakamoto Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Wakamoto Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wakamoto Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Wakamoto Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP14371880A priority Critical patent/JPS603400B2/ja
Publication of JPS5767594A publication Critical patent/JPS5767594A/ja
Publication of JPS603400B2 publication Critical patent/JPS603400B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Saccharide Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
〔0〕 (但し式中R2は水素原子又はアシル基を示示す)で示
される3−デオキシー3ーョードーD−グルコース誘導
体の製造方法に関する。 本発明の目的とする一般式m〕の化合物は、R2が水素
原子の場合X線造影剤として公知の物質であり、R2が
ァシル基の場合容易に加水分解して水素原子変換し得る
ことからX線造影剤製造のための中間体として有用であ
ると共にそれ自体X線造影剤としての有用性も期待され
る新規物質である。 従来、3ーデオキシ−3ーョードーD−グルコース〔式
〔m〕〕の製造方法としては下記反応式で示されるよう
に、グルコフラノース誘導体〔式〔W〕を出発原料とし
、これを酸化、還元工程を経てアロフラノース誘導体〔
式〔V〕に導いた後、ヨウ素化し次いで加水分解する方
法が知られている。但し、前記〔W〕及び〔V〕の各式
中R3及びR4は低級ァルキル基を示し、R5は水素原
子、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基を
示す。 )しかしながら、この方法は、酸化・還元工程に使用す
る原料が高価であり、しかも、式〔V〕の化合物のヨウ
素化反応条件に種々の難点があることから、かならずし
も工業的に有利な方法とは言えない。 本発明者は、これら従来法における欠点を克服すべ〈研
究の結果、、一般式〔1〕で示される化合物を非プロト
ン性溶媒中で、アルカリ金属ョウ化物と反応させること
により、一般式〔D〕を容易に得ることに成巧した。 (式中R,はアルキルスルホニルまたはアリールスルホ
ニル基、R2は水素原子またはアシル基を示す。 )本発明に使用される出発物質〔1〕の化合物において
、R,はアルキルスルホニルまたは、アリールスルホニ
ル基であり、たとえばメチルスルホニル、ベンゼンスル
ホニル、P−トルエンスルホニル、ベンジルスルホニル
などであるが、特にメチルスルホニル、P−トルェンス
ルホニルが好ましい。 また、一般式〔1〕の化合物は、ジャーナル・ケミカル
・ソサイティー;1960王、2236一9頁。および
カルポヒドレート・リサーチ;24巻、1972王、1
54一8頁。等に従って製造される。ョ,ウ秦化試薬と
して使用されるアルカリ金属ョゥ化物は、ョウ化リチウ
ム、ョゥ化ナトリウム、ョウ化カリウムであり、その内
ョウ化ナトリウムが好ましい。ヨウ素化反応に於けるア
ルカリ金属ョウイ臼物の使用量は原料の一般式〔1〕の
化合物に対し2〜5倍モルが適当である。 本発明で使用される非ブロトン性極性溶媒は例えば、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメ
チルウレア、ヘキサメチルホスホリルアミド等があげら
れる。 反応温度および反応時間は、上記組成において、任意に
選択できるが、80〜130℃、4〜2岬時間が適当で
ある。 また‐一般式
〔0〕の目的化合物を晶出させた後、母液
中に残存する未反応原料は引続き母液をアルカリ金属ョ
ウ化物で処理することにより一般式〔ロ〕の目的化合物
として回収することが出釆る。 なお、一般式〔ロ〕に於けるR2がアシル基の化合物は
所望により、常法に従って酸により加水分解することに
より、式〔m〕で示される3−デオキシー3ーョードー
Dーグルコースにすることが出来る。 次に本発明を実施例により説明するが、本発明は以下の
実施例に限定されるものではない。 実施例 11,2,4,6ーテトラー0−アセチルー3
ーデオキシー3−ヨード−8一D−グルコピラノ−スの
合成1,2,4,6ーテトラ−○−アセチルー3一0−
トルエン−Pースルホニル−8一Dーグルコピラノース
2.09(3.98hm。 1)、ョウ化ナトリウム1.8夕(12hmol)、ジ
メチルホルムアミド8.0のZの混液を130qoで2
独特間燈拝する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:メルク
社製シリカゲルA九5715を使用。展開溶媒;ベンゼ
ン:酢酸ヱチル(3:1)および、イソプロピルヱーテ
ル:ベンゼン(4:1)〕にて確認した後、反応液を減
圧濃縮し、酢酸エチルにて抽出し、1%チオ硫酸ナトリ
ウム、水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥
剤を櫨別して減圧濃縮後、インプロピルアルコールを加
え晶出させる。結晶を櫨取(1.0夕)後、母液を減圧
濃縮し、得られたシラップ(0.6夕)にョウ化ナトリ
ウム(0.5夕)、ジメチルホルムアミド(3.0の‘
)を加え、同条件で再度反応させ、同機に処理すると結
晶0.3タ得た。両者合わせて1.3夕(収率72%) 融点 118一9o,〔a〕。 =十200(Cヱ1,クロロホルム)元素分析値 C,
4日,9091として 実測値 C:36.71H:4.17 計算値 C:36.71H:4.17 N,M,R,スペクトル 6 5.631日 d J,,2 8Hz H−15
.291日d,d, J2,3 11HZ H−24.
801日 t J3,4 11HZ H−35281日
m J4.5 9HZ H−4実施例 2 1,2,4,6−テトラ一〇−ペンゾイルー3ーデオキ
シー3日ヨード一8一Dーグルコピラノースの合成1,
2,4,6−テトラ一〇−ペンゾイルー3ーデオキシ−
3ーヨードーB−D−グルコピラノースの合成1,2,
4,6,一テトラuo−ペンゾイルー3一0−(Pート
ルエンスルホニル)一8一D−グルコピラ/ース2.0
夕(2.7mm。 1)、ョウ化ナトリウム1.6夕(10.7mmol)
、ジメチルホルムアミド20の‘の濠液を130℃で2
■時間燈群する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:実施例
1と同様。展開溶媒;ベンゼン:エーテル(9:1)〕
にて確認した後、反応液を減圧濃縮し、クロロホルムに
て抽出し、1%チオ硫酸ナトリウム、水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。クロロホルム層を処理して
得られた結晶をメタノール洗浄後、クロロホルムーメタ
ノールから再結晶すると目的物1.0夕(収率53%)
を得た。融点 238一90,〔a〕o;+180(C
=1,クロロホルム)元素分析値 C離日27091と
して 実測値 C:57.81H:3.84 計算値 C:57.81H:3.84 N,M,R,スペクトル 6 6.131日d J,,2 8HZ H−15.
881日d,d J2,3 11HZ H−24.60
1日 t J3,4 11HZ H−35.791日m
J4,5 11HZ H−4実施例 33−デオキ
シー3ーヨード−Dーグルコースの合成a 3一〇一(
Pートルエンスルホニル−D−グルコース2.0夕(8
hm。 1)、ヨウ化ナトリウム2.7夕(lahmol)、ジ
メチルホルムアミド20のZの鷹液を120q0で4時
間鷹拝する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:実施例
1と同様展開溶媒;クロロホルム:メタノール(7:3
)〕にて確認した後、反応液を減圧濃縮する。濃縮残澄
を水に熔解させ、アンバーライトIR−20に(日十)
200の‘とダイヤイオンWA−20(フリーベース)
200の上にて脱塩し、減圧濃縮後、エタノールから結
晶化して目的物0.78夕(収率45%)を得た。融点
141一2o,〔a〕o=+51o(C=2、水)な
お、上記化合物をアセチル化したものの諸性状は、実施
例1で得たものと一致した。 b)1,2,4.6−テトラ−○−アセチルー3−デオ
キシ−3−ヨード−8−Dーグルコピラノース2.0夕
(4.37mmol)をIN−塩酸30の‘に溶解し、
100℃で30分間、濃伴する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式〔I〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、式中R_1はアルキルスルホニルまたは、ア
    リールスルホニル基、R_2は水素原子またはアシル基
    を示す。 )で示されるグルコース誘導体を非プロトン性極性溶媒
    中、アルカリ金属ヨウ化物と反応させることを特徴とす
    る一般式〔II〕(但し、式中R_2は前記と同じ意義を
    有する。)で示される3−デオキシ−3−ヨード−D−
    グルコース誘導体の製造方法。▲数式、化学式、表等が
    あります▼
JP14371880A 1980-10-16 1980-10-16 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法 Expired JPS603400B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14371880A JPS603400B2 (ja) 1980-10-16 1980-10-16 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14371880A JPS603400B2 (ja) 1980-10-16 1980-10-16 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5767594A JPS5767594A (en) 1982-04-24
JPS603400B2 true JPS603400B2 (ja) 1985-01-28

Family

ID=15345367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14371880A Expired JPS603400B2 (ja) 1980-10-16 1980-10-16 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS603400B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6917607B2 (ja) * 2016-08-26 2021-08-11 国立大学法人 香川大学 無担体放射性ハロゲン標識化デオキシハロゲノ−d−アロース、非放射性デオキシフルオロ−d−アロース、およびそれらの前駆体、ならびにそれらの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5767594A (en) 1982-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4797477A (en) Process for preparing sialic acid derivatives
FR2468571A1 (fr) 2,5-bis (2,2,2-trifluorethoxy)-a,a,a-trichloracetophenone, procede pour sa preparation et son application a la fabrication de medicament connu
EP0024525A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Luciferin und seinen Derivaten
JPS6234027B2 (ja)
JPS6312063B2 (ja)
JPS603400B2 (ja) 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法
KR910006125B1 (ko) 아세메타신의 제조방법
JPS5953261B2 (ja) 2(1h)−ピリドン誘導体の製造法
DE69327906T2 (de) Vitamin-d-derivat und verfahren zu seiner herstellung
Sugai et al. A versatile synthesis of arylacetones from aryl halides and acetylacetonate
JPS6053039B2 (ja) N−アセチル/イラミン酸誘導体およびその製造方法
JPS6140669B2 (ja)
JPS62283973A (ja) アリステロマイシンのシクララジンへの転化
US4733012A (en) Process for the preparation of 4-halomethylbenzaldehyde
KR100503267B1 (ko) 2-아세틸옥시-4-트리플루오로메틸 벤조산의 제조 방법
JP2571939B2 (ja) シクロペンテノン誘導体及びその製造法
KR840000766B1 (ko) 비스모라노린 유도체의 제조방법
JPS593476B2 (ja) 光学活性クロルフエニラミン・アシルフエニルグリシン塩及びその製造法
JPS58172381A (ja) テトラゾ−ル酢酸チオエステルの製造方法
JPH0340040B2 (ja)
JPS59155400A (ja) c−AMP・アシル誘導体の改良製造法
JPS5857354A (ja) 2−アジド−3−ベンジルオキシ−プロピオン酸−ベンジルエステル及びその製法
BE849244A (fr) Nouveaux procedes de preparations de la 3',4'-didesoxykanamycine b.
CN117865996A (zh) 一种1-甲基-1h-吡唑-4-硼酸-3,5-13c2的制备方法
DE1643012C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Butenoliden