JPS603400B2 - 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法 - Google Patents
3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS603400B2 JPS603400B2 JP14371880A JP14371880A JPS603400B2 JP S603400 B2 JPS603400 B2 JP S603400B2 JP 14371880 A JP14371880 A JP 14371880A JP 14371880 A JP14371880 A JP 14371880A JP S603400 B2 JPS603400 B2 JP S603400B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deoxy
- formula
- iodo
- general formula
- glucose derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
本発明は一般式
〔0〕
(但し式中R2は水素原子又はアシル基を示示す)で示
される3−デオキシー3ーョードーD−グルコース誘導
体の製造方法に関する。 本発明の目的とする一般式m〕の化合物は、R2が水素
原子の場合X線造影剤として公知の物質であり、R2が
ァシル基の場合容易に加水分解して水素原子変換し得る
ことからX線造影剤製造のための中間体として有用であ
ると共にそれ自体X線造影剤としての有用性も期待され
る新規物質である。 従来、3ーデオキシ−3ーョードーD−グルコース〔式
〔m〕〕の製造方法としては下記反応式で示されるよう
に、グルコフラノース誘導体〔式〔W〕を出発原料とし
、これを酸化、還元工程を経てアロフラノース誘導体〔
式〔V〕に導いた後、ヨウ素化し次いで加水分解する方
法が知られている。但し、前記〔W〕及び〔V〕の各式
中R3及びR4は低級ァルキル基を示し、R5は水素原
子、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基を
示す。 )しかしながら、この方法は、酸化・還元工程に使用す
る原料が高価であり、しかも、式〔V〕の化合物のヨウ
素化反応条件に種々の難点があることから、かならずし
も工業的に有利な方法とは言えない。 本発明者は、これら従来法における欠点を克服すべ〈研
究の結果、、一般式〔1〕で示される化合物を非プロト
ン性溶媒中で、アルカリ金属ョウ化物と反応させること
により、一般式〔D〕を容易に得ることに成巧した。 (式中R,はアルキルスルホニルまたはアリールスルホ
ニル基、R2は水素原子またはアシル基を示す。 )本発明に使用される出発物質〔1〕の化合物において
、R,はアルキルスルホニルまたは、アリールスルホニ
ル基であり、たとえばメチルスルホニル、ベンゼンスル
ホニル、P−トルエンスルホニル、ベンジルスルホニル
などであるが、特にメチルスルホニル、P−トルェンス
ルホニルが好ましい。 また、一般式〔1〕の化合物は、ジャーナル・ケミカル
・ソサイティー;1960王、2236一9頁。および
カルポヒドレート・リサーチ;24巻、1972王、1
54一8頁。等に従って製造される。ョ,ウ秦化試薬と
して使用されるアルカリ金属ョゥ化物は、ョウ化リチウ
ム、ョゥ化ナトリウム、ョウ化カリウムであり、その内
ョウ化ナトリウムが好ましい。ヨウ素化反応に於けるア
ルカリ金属ョウイ臼物の使用量は原料の一般式〔1〕の
化合物に対し2〜5倍モルが適当である。 本発明で使用される非ブロトン性極性溶媒は例えば、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメ
チルウレア、ヘキサメチルホスホリルアミド等があげら
れる。 反応温度および反応時間は、上記組成において、任意に
選択できるが、80〜130℃、4〜2岬時間が適当で
ある。 また‐一般式
される3−デオキシー3ーョードーD−グルコース誘導
体の製造方法に関する。 本発明の目的とする一般式m〕の化合物は、R2が水素
原子の場合X線造影剤として公知の物質であり、R2が
ァシル基の場合容易に加水分解して水素原子変換し得る
ことからX線造影剤製造のための中間体として有用であ
ると共にそれ自体X線造影剤としての有用性も期待され
る新規物質である。 従来、3ーデオキシ−3ーョードーD−グルコース〔式
〔m〕〕の製造方法としては下記反応式で示されるよう
に、グルコフラノース誘導体〔式〔W〕を出発原料とし
、これを酸化、還元工程を経てアロフラノース誘導体〔
式〔V〕に導いた後、ヨウ素化し次いで加水分解する方
法が知られている。但し、前記〔W〕及び〔V〕の各式
中R3及びR4は低級ァルキル基を示し、R5は水素原
子、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基を
示す。 )しかしながら、この方法は、酸化・還元工程に使用す
る原料が高価であり、しかも、式〔V〕の化合物のヨウ
素化反応条件に種々の難点があることから、かならずし
も工業的に有利な方法とは言えない。 本発明者は、これら従来法における欠点を克服すべ〈研
究の結果、、一般式〔1〕で示される化合物を非プロト
ン性溶媒中で、アルカリ金属ョウ化物と反応させること
により、一般式〔D〕を容易に得ることに成巧した。 (式中R,はアルキルスルホニルまたはアリールスルホ
ニル基、R2は水素原子またはアシル基を示す。 )本発明に使用される出発物質〔1〕の化合物において
、R,はアルキルスルホニルまたは、アリールスルホニ
ル基であり、たとえばメチルスルホニル、ベンゼンスル
ホニル、P−トルエンスルホニル、ベンジルスルホニル
などであるが、特にメチルスルホニル、P−トルェンス
ルホニルが好ましい。 また、一般式〔1〕の化合物は、ジャーナル・ケミカル
・ソサイティー;1960王、2236一9頁。および
カルポヒドレート・リサーチ;24巻、1972王、1
54一8頁。等に従って製造される。ョ,ウ秦化試薬と
して使用されるアルカリ金属ョゥ化物は、ョウ化リチウ
ム、ョゥ化ナトリウム、ョウ化カリウムであり、その内
ョウ化ナトリウムが好ましい。ヨウ素化反応に於けるア
ルカリ金属ョウイ臼物の使用量は原料の一般式〔1〕の
化合物に対し2〜5倍モルが適当である。 本発明で使用される非ブロトン性極性溶媒は例えば、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメ
チルウレア、ヘキサメチルホスホリルアミド等があげら
れる。 反応温度および反応時間は、上記組成において、任意に
選択できるが、80〜130℃、4〜2岬時間が適当で
ある。 また‐一般式
〔0〕の目的化合物を晶出させた後、母液
中に残存する未反応原料は引続き母液をアルカリ金属ョ
ウ化物で処理することにより一般式〔ロ〕の目的化合物
として回収することが出釆る。 なお、一般式〔ロ〕に於けるR2がアシル基の化合物は
所望により、常法に従って酸により加水分解することに
より、式〔m〕で示される3−デオキシー3ーョードー
Dーグルコースにすることが出来る。 次に本発明を実施例により説明するが、本発明は以下の
実施例に限定されるものではない。 実施例 11,2,4,6ーテトラー0−アセチルー3
ーデオキシー3−ヨード−8一D−グルコピラノ−スの
合成1,2,4,6ーテトラ−○−アセチルー3一0−
トルエン−Pースルホニル−8一Dーグルコピラノース
2.09(3.98hm。 1)、ョウ化ナトリウム1.8夕(12hmol)、ジ
メチルホルムアミド8.0のZの混液を130qoで2
独特間燈拝する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:メルク
社製シリカゲルA九5715を使用。展開溶媒;ベンゼ
ン:酢酸ヱチル(3:1)および、イソプロピルヱーテ
ル:ベンゼン(4:1)〕にて確認した後、反応液を減
圧濃縮し、酢酸エチルにて抽出し、1%チオ硫酸ナトリ
ウム、水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥
剤を櫨別して減圧濃縮後、インプロピルアルコールを加
え晶出させる。結晶を櫨取(1.0夕)後、母液を減圧
濃縮し、得られたシラップ(0.6夕)にョウ化ナトリ
ウム(0.5夕)、ジメチルホルムアミド(3.0の‘
)を加え、同条件で再度反応させ、同機に処理すると結
晶0.3タ得た。両者合わせて1.3夕(収率72%) 融点 118一9o,〔a〕。 =十200(Cヱ1,クロロホルム)元素分析値 C,
4日,9091として 実測値 C:36.71H:4.17 計算値 C:36.71H:4.17 N,M,R,スペクトル 6 5.631日 d J,,2 8Hz H−15
.291日d,d, J2,3 11HZ H−24.
801日 t J3,4 11HZ H−35281日
m J4.5 9HZ H−4実施例 2 1,2,4,6−テトラ一〇−ペンゾイルー3ーデオキ
シー3日ヨード一8一Dーグルコピラノースの合成1,
2,4,6−テトラ一〇−ペンゾイルー3ーデオキシ−
3ーヨードーB−D−グルコピラノースの合成1,2,
4,6,一テトラuo−ペンゾイルー3一0−(Pート
ルエンスルホニル)一8一D−グルコピラ/ース2.0
夕(2.7mm。 1)、ョウ化ナトリウム1.6夕(10.7mmol)
、ジメチルホルムアミド20の‘の濠液を130℃で2
■時間燈群する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:実施例
1と同様。展開溶媒;ベンゼン:エーテル(9:1)〕
にて確認した後、反応液を減圧濃縮し、クロロホルムに
て抽出し、1%チオ硫酸ナトリウム、水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。クロロホルム層を処理して
得られた結晶をメタノール洗浄後、クロロホルムーメタ
ノールから再結晶すると目的物1.0夕(収率53%)
を得た。融点 238一90,〔a〕o;+180(C
=1,クロロホルム)元素分析値 C離日27091と
して 実測値 C:57.81H:3.84 計算値 C:57.81H:3.84 N,M,R,スペクトル 6 6.131日d J,,2 8HZ H−15.
881日d,d J2,3 11HZ H−24.60
1日 t J3,4 11HZ H−35.791日m
J4,5 11HZ H−4実施例 33−デオキ
シー3ーヨード−Dーグルコースの合成a 3一〇一(
Pートルエンスルホニル−D−グルコース2.0夕(8
hm。 1)、ヨウ化ナトリウム2.7夕(lahmol)、ジ
メチルホルムアミド20のZの鷹液を120q0で4時
間鷹拝する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:実施例
1と同様展開溶媒;クロロホルム:メタノール(7:3
)〕にて確認した後、反応液を減圧濃縮する。濃縮残澄
を水に熔解させ、アンバーライトIR−20に(日十)
200の‘とダイヤイオンWA−20(フリーベース)
200の上にて脱塩し、減圧濃縮後、エタノールから結
晶化して目的物0.78夕(収率45%)を得た。融点
141一2o,〔a〕o=+51o(C=2、水)な
お、上記化合物をアセチル化したものの諸性状は、実施
例1で得たものと一致した。 b)1,2,4.6−テトラ−○−アセチルー3−デオ
キシ−3−ヨード−8−Dーグルコピラノース2.0夕
(4.37mmol)をIN−塩酸30の‘に溶解し、
100℃で30分間、濃伴する。
中に残存する未反応原料は引続き母液をアルカリ金属ョ
ウ化物で処理することにより一般式〔ロ〕の目的化合物
として回収することが出釆る。 なお、一般式〔ロ〕に於けるR2がアシル基の化合物は
所望により、常法に従って酸により加水分解することに
より、式〔m〕で示される3−デオキシー3ーョードー
Dーグルコースにすることが出来る。 次に本発明を実施例により説明するが、本発明は以下の
実施例に限定されるものではない。 実施例 11,2,4,6ーテトラー0−アセチルー3
ーデオキシー3−ヨード−8一D−グルコピラノ−スの
合成1,2,4,6ーテトラ−○−アセチルー3一0−
トルエン−Pースルホニル−8一Dーグルコピラノース
2.09(3.98hm。 1)、ョウ化ナトリウム1.8夕(12hmol)、ジ
メチルホルムアミド8.0のZの混液を130qoで2
独特間燈拝する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:メルク
社製シリカゲルA九5715を使用。展開溶媒;ベンゼ
ン:酢酸ヱチル(3:1)および、イソプロピルヱーテ
ル:ベンゼン(4:1)〕にて確認した後、反応液を減
圧濃縮し、酢酸エチルにて抽出し、1%チオ硫酸ナトリ
ウム、水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥
剤を櫨別して減圧濃縮後、インプロピルアルコールを加
え晶出させる。結晶を櫨取(1.0夕)後、母液を減圧
濃縮し、得られたシラップ(0.6夕)にョウ化ナトリ
ウム(0.5夕)、ジメチルホルムアミド(3.0の‘
)を加え、同条件で再度反応させ、同機に処理すると結
晶0.3タ得た。両者合わせて1.3夕(収率72%) 融点 118一9o,〔a〕。 =十200(Cヱ1,クロロホルム)元素分析値 C,
4日,9091として 実測値 C:36.71H:4.17 計算値 C:36.71H:4.17 N,M,R,スペクトル 6 5.631日 d J,,2 8Hz H−15
.291日d,d, J2,3 11HZ H−24.
801日 t J3,4 11HZ H−35281日
m J4.5 9HZ H−4実施例 2 1,2,4,6−テトラ一〇−ペンゾイルー3ーデオキ
シー3日ヨード一8一Dーグルコピラノースの合成1,
2,4,6−テトラ一〇−ペンゾイルー3ーデオキシ−
3ーヨードーB−D−グルコピラノースの合成1,2,
4,6,一テトラuo−ペンゾイルー3一0−(Pート
ルエンスルホニル)一8一D−グルコピラ/ース2.0
夕(2.7mm。 1)、ョウ化ナトリウム1.6夕(10.7mmol)
、ジメチルホルムアミド20の‘の濠液を130℃で2
■時間燈群する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:実施例
1と同様。展開溶媒;ベンゼン:エーテル(9:1)〕
にて確認した後、反応液を減圧濃縮し、クロロホルムに
て抽出し、1%チオ硫酸ナトリウム、水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。クロロホルム層を処理して
得られた結晶をメタノール洗浄後、クロロホルムーメタ
ノールから再結晶すると目的物1.0夕(収率53%)
を得た。融点 238一90,〔a〕o;+180(C
=1,クロロホルム)元素分析値 C離日27091と
して 実測値 C:57.81H:3.84 計算値 C:57.81H:3.84 N,M,R,スペクトル 6 6.131日d J,,2 8HZ H−15.
881日d,d J2,3 11HZ H−24.60
1日 t J3,4 11HZ H−35.791日m
J4,5 11HZ H−4実施例 33−デオキ
シー3ーヨード−Dーグルコースの合成a 3一〇一(
Pートルエンスルホニル−D−グルコース2.0夕(8
hm。 1)、ヨウ化ナトリウム2.7夕(lahmol)、ジ
メチルホルムアミド20のZの鷹液を120q0で4時
間鷹拝する。 反応終了時を薄層クロマトグラフィー〔薄層板:実施例
1と同様展開溶媒;クロロホルム:メタノール(7:3
)〕にて確認した後、反応液を減圧濃縮する。濃縮残澄
を水に熔解させ、アンバーライトIR−20に(日十)
200の‘とダイヤイオンWA−20(フリーベース)
200の上にて脱塩し、減圧濃縮後、エタノールから結
晶化して目的物0.78夕(収率45%)を得た。融点
141一2o,〔a〕o=+51o(C=2、水)な
お、上記化合物をアセチル化したものの諸性状は、実施
例1で得たものと一致した。 b)1,2,4.6−テトラ−○−アセチルー3−デオ
キシ−3−ヨード−8−Dーグルコピラノース2.0夕
(4.37mmol)をIN−塩酸30の‘に溶解し、
100℃で30分間、濃伴する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式〔I〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、式中R_1はアルキルスルホニルまたは、ア
リールスルホニル基、R_2は水素原子またはアシル基
を示す。 )で示されるグルコース誘導体を非プロトン性極性溶媒
中、アルカリ金属ヨウ化物と反応させることを特徴とす
る一般式〔II〕(但し、式中R_2は前記と同じ意義を
有する。)で示される3−デオキシ−3−ヨード−D−
グルコース誘導体の製造方法。▲数式、化学式、表等が
あります▼
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14371880A JPS603400B2 (ja) | 1980-10-16 | 1980-10-16 | 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14371880A JPS603400B2 (ja) | 1980-10-16 | 1980-10-16 | 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5767594A JPS5767594A (en) | 1982-04-24 |
| JPS603400B2 true JPS603400B2 (ja) | 1985-01-28 |
Family
ID=15345367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14371880A Expired JPS603400B2 (ja) | 1980-10-16 | 1980-10-16 | 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603400B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6917607B2 (ja) * | 2016-08-26 | 2021-08-11 | 国立大学法人 香川大学 | 無担体放射性ハロゲン標識化デオキシハロゲノ−d−アロース、非放射性デオキシフルオロ−d−アロース、およびそれらの前駆体、ならびにそれらの製造方法 |
-
1980
- 1980-10-16 JP JP14371880A patent/JPS603400B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5767594A (en) | 1982-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4797477A (en) | Process for preparing sialic acid derivatives | |
| FR2468571A1 (fr) | 2,5-bis (2,2,2-trifluorethoxy)-a,a,a-trichloracetophenone, procede pour sa preparation et son application a la fabrication de medicament connu | |
| EP0024525A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Luciferin und seinen Derivaten | |
| JPS6234027B2 (ja) | ||
| JPS6312063B2 (ja) | ||
| JPS603400B2 (ja) | 3−デオキシ−3−ヨ−ド−d−グルコ−ス誘導体の製造方法 | |
| KR910006125B1 (ko) | 아세메타신의 제조방법 | |
| JPS5953261B2 (ja) | 2(1h)−ピリドン誘導体の製造法 | |
| DE69327906T2 (de) | Vitamin-d-derivat und verfahren zu seiner herstellung | |
| Sugai et al. | A versatile synthesis of arylacetones from aryl halides and acetylacetonate | |
| JPS6053039B2 (ja) | N−アセチル/イラミン酸誘導体およびその製造方法 | |
| JPS6140669B2 (ja) | ||
| JPS62283973A (ja) | アリステロマイシンのシクララジンへの転化 | |
| US4733012A (en) | Process for the preparation of 4-halomethylbenzaldehyde | |
| KR100503267B1 (ko) | 2-아세틸옥시-4-트리플루오로메틸 벤조산의 제조 방법 | |
| JP2571939B2 (ja) | シクロペンテノン誘導体及びその製造法 | |
| KR840000766B1 (ko) | 비스모라노린 유도체의 제조방법 | |
| JPS593476B2 (ja) | 光学活性クロルフエニラミン・アシルフエニルグリシン塩及びその製造法 | |
| JPS58172381A (ja) | テトラゾ−ル酢酸チオエステルの製造方法 | |
| JPH0340040B2 (ja) | ||
| JPS59155400A (ja) | c−AMP・アシル誘導体の改良製造法 | |
| JPS5857354A (ja) | 2−アジド−3−ベンジルオキシ−プロピオン酸−ベンジルエステル及びその製法 | |
| BE849244A (fr) | Nouveaux procedes de preparations de la 3',4'-didesoxykanamycine b. | |
| CN117865996A (zh) | 一种1-甲基-1h-吡唑-4-硼酸-3,5-13c2的制备方法 | |
| DE1643012C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Butenoliden |