JPS6035544A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
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- JPS6035544A JPS6035544A JP58144755A JP14475583A JPS6035544A JP S6035544 A JPS6035544 A JP S6035544A JP 58144755 A JP58144755 A JP 58144755A JP 14475583 A JP14475583 A JP 14475583A JP S6035544 A JPS6035544 A JP S6035544A
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W70/60—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
- H10W70/62—Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their interconnections
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は半導体装置に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a semiconductor device.
従来最も多く使用に供されている半導体装置の溝遣とし
ては、デュアルインライン型パンケージ(以後DIPと
記す)がある。A dual in-line pan cage (hereinafter referred to as DIP) is the most commonly used groove arrangement for semiconductor devices.
第1図は蓋をとった状態の従来の18ビ/ガラス封止1
)IP型半導体装置の平面図である。第1図で1は回路
テップ、2はパッケージ、3は外部引出し端子、4は内
部リード、5は金属細線である。Figure 1 shows the conventional 18V/glass seal 1 with the lid removed.
) is a plan view of an IP type semiconductor device. In FIG. 1, 1 is a circuit tip, 2 is a package, 3 is an external lead terminal, 4 is an internal lead, and 5 is a thin metal wire.
第3図は@1図に示す半導体装置の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the semiconductor device shown in FIG.
第3図で点線Aで囲まれた部分は、回路部分を辰わし一
点鎖線Bで囲まれた部分は回路チップlft表わし、二
点鎖点Cで囲まれた部分はパッケージ2を表わし、L1
〜Ltsは第1図における金属細線5と内部リード40
部分の自己インダクタンスを表わし G/U電源の低電
位側配線のポンディングパッドを表わし、V′は電源の
高電位側配線のポンディングパッドを表わし、げは出力
ボンディングパッドを表わし J l/〜工15′は入
力ボンディングバッドを表わし%Gは電源の低電位側の
端子を表わし、■は電源の高電位側の端子全茨わし、O
は出力端子を表わし、1x−115は入力端子を衣わし
でいる。内部リード4と金属細線5には抵抗成分、静電
容量成分も存在するが後述する様にこれらの影響は軽微
であるので、本等価回路では無視している。In FIG. 3, the part surrounded by the dotted line A represents the circuit part, the part surrounded by the dashed-dotted line B represents the circuit chip lft, the part surrounded by the dashed-dotted dot C represents the package 2, and the part surrounded by the dashed-dotted line B represents the package 2.
~Lts is the thin metal wire 5 and the internal lead 40 in FIG.
represents the self-inductance of the part, represents the bonding pad of the low potential side wiring of the G/U power supply, V' represents the bonding pad of the high potential side wiring of the power supply, and ridge represents the output bonding pad. 15' represents the input bonding pad, %G represents the terminal on the low potential side of the power supply, ■ indicates all terminals on the high potential side of the power supply, O
represents the output terminal, and 1x-115 represents the input terminal. Although there are resistance components and capacitance components in the internal leads 4 and the thin metal wires 5, as will be described later, these effects are slight, so they are ignored in this equivalent circuit.
さて、導体を流れる電流が時間的に変化すると、その導
体の自己インダクタンス成分によシ、電流の時間的変化
率と、自己インダクタンスとの積で決まる逆起電圧が生
じることは、良く知られている。いま、自己インダクタ
ンスの大きさf L 7W流をi9時間6tと辰わせば
、逆起電圧φは、i
φ=−L□
i
と衣わされる。ボンディング線と金J嘱リードの自己イ
ンダクタンスは、18ピンDIPでは最大20ナノヘン
リ一程度である。いまdi/dt t−1ナノ秒当り1
0ミリアンペアとすると、φの大きさはφ=−20X1
0(へ/リー)XIOXl 0−3Cアンペア〕τ10
[秒)=−0,2Cボルト〕
となる。これに対して、ボンディング線と歪に4リード
の抵抗成分はせいぜい10mΩ程度で;h’)ft流が
IAでも抵抗による電圧変化分は0.01Vでわシ、全
く問題にならない。また、金)tA細線間、内部リード
間の静電存置は、1pF程度であり、100 Mllz
に対しても、リアクタンスは、1.6にΩもある。これ
に対して入力端子に接続される外部回路のインピーダン
スは100Ω以下であるから静電d景の影響も無視でき
る。It is well known that when the current flowing through a conductor changes over time, a back electromotive force is generated due to the self-inductance component of the conductor, which is determined by the product of the current rate of change over time and the self-inductance. There is. Now, if the magnitude of self-inductance f L is 7W and the current is i9 and 6t, then the back electromotive force φ will be i φ=−L□ i . The self-inductance of the bonding wire and the gold lead is about 20 nanoHenries at most in an 18-pin DIP. Now di/dt t-1 per nanosecond
Assuming 0 milliampere, the magnitude of φ is φ=-20X1
0 (He/Lee) XIOXl 0-3C Ampere] τ10
[seconds] = -0.2C volts]. On the other hand, the resistance component of the bonding wire and the four leads for strain is about 10 mΩ at most; h') Even if the ft current is IA, the voltage change due to the resistance is 0.01 V, which is not a problem at all. In addition, the electrostatic charge between the gold) tA thin wires and between the internal leads is about 1 pF, and 100 Mllz
Also, the reactance is 1.6Ω. On the other hand, since the impedance of the external circuit connected to the input terminal is 100Ω or less, the influence of electrostatic d-scape can be ignored.
次に、自己インダクタンスによる、逆起電圧が及ぼす悪
影響について説明する。第3図で入力端チェl〜its
に加えられる信号の変化に対応して、回路が動作し、電
源電流が変化する場合について、第5図を用いて説明す
る。Next, the adverse effects of the back electromotive force due to self-inductance will be explained. In Figure 3, the input terminal check l~its
A case in which the circuit operates and the power supply current changes in response to a change in the signal applied to the circuit will be described with reference to FIG.
第5図で11は、入力端子に加えられる信号波形、12
は、電源の低電位配線電流、13は、電源付電位側ポン
ディングパッドG′の電位を示している。時刻toで入
力信号が高レベルから低レベル、又は低レベルから高レ
ベルに変化した後内部回路が動作し、時刻t1〜t2
の間LL7に流れる電源低電位記mA IE *が一時
的に増加する。このビーク1に流によシL17の両端に
逆起電圧が生じ、回路チップの電源低1に位側ポンディ
ングパッドG′の電位は第5図の13の様に変動する。In Fig. 5, 11 is the signal waveform applied to the input terminal, and 12 is the signal waveform applied to the input terminal.
indicates the low potential wiring current of the power supply, and 13 indicates the potential of the potential side bonding pad G' with the power supply. After the input signal changes from high level to low level or from low level to high level at time to, the internal circuit operates, and from time t1 to t2
During this period, the power supply low potential mA IE * flowing through LL7 temporarily increases. A back electromotive voltage is generated across the current at the peak 1 and across the resistor L17, and the potential at the bonding pad G' on the low 1 side of the circuit chip fluctuates as shown at 13 in FIG.
いま入力信号の論理レベル″l”と”0″は、一般的な
TTLレベルとして、1″はzOボルト″()“は0.
8ボルトとする。つまシ回路は入力が0.8ボルト以下
ならば必ず“0″と感じ、2.0ボルト以上ならば必ず
11′と感じるとする。ここで注意すべきことは通常1
回路がllO″と感じるレベルは0.8ボルトよシ高く
、′l″′と感じるレベルは、2.0ボルトよシ低いと
いうことである。いま、[回路が0″と感じる最も高い
電圧J kVxr。Now, the logic levels "l" and "0" of the input signal are general TTL levels, and 1" is zO volt "()" is 0.
Set to 8 volts. It is assumed that the pinch circuit always feels "0" if the input is 0.8 volts or less, and always feels 11' if the input is 2.0 volts or more. The thing to note here is usually 1.
The level at which the circuit senses llO'' is higher than 0.8 volts, and the level at which the circuit senses 'l''' is lower than 2.0 volts. Now, [the highest voltage J kVxr that the circuit feels as 0''.
と辰わし、「回路が°”1″と感じる最も低い電圧」を
VIHと表わせば、
0.8ボルト二Vt L<V I H≦zoボルトとい
う関係が成立っている。これを逆に言うと、回路は入力
が2ボルト以上にならなくとも、VIH以上であればl
11″と感じ、また、0.8ボルト以下にならなくとも
VIL 以下であれば、0”と感じるということである
。If we express the "lowest voltage at which the circuit feels 1" as VIH, then the following relationship holds: 0.8 volts2VtL<VIH≦zo volts. Putting this in reverse, even if the input does not exceed 2 volts, as long as it is above VIH, the circuit will
11", and even if it does not go below 0.8 volts, if it is below VIL, it feels 0".
さて、時刻t1から12の間でインダクタノスL17t
l−流れる電流が第5図の12の様に変動し、それによ
って回路チップの電源低電位側ボンデイングバノド電位
が第5図の13の様に負側にΔV1ボルト、正側にΔv
2 ボルトだけ変動したとする。Now, between times t1 and 12, the inductor value L17t
l-The flowing current changes as shown in 12 in Figure 5, and as a result, the bonding voltage potential on the low potential side of the power supply of the circuit chip increases by ΔV1 volt on the negative side and ΔV on the positive side as shown in 13 in Figure 5.
Suppose it fluctuates by 2 volts.
これは、回路チップから見れば、あたかも、入力15号
レベルが正側にΔV1 ボルト、負側にΔv2ボルトだ
け賀動したように見えることになる。従って5回路チッ
プから見た時、入力信号のうちの低レベル0.8ボルト
にβるものは、接地電位が負側にΔ■1 ボルト変動し
た時は入力信号がo、8+Δ■1 ボルトになりたよう
に見え正側にΔV2ボルト変動した時は、0.8−Δ■
2ボルトになりた様に見える。同様に、人カイδ号のう
ち晶レベル2.0ボルトにあるものは2.0+Δ■lボ
ルト、2.0−Δ■2ボルトになった様に見えるわけで
ある。前述したように、回路は入力がVIH以上であれ
ば”1″と感じ、VIL以下であれば”0”と感じるか
ら電流変化により、自己インダクタンスの両端に生じる
逆起1ば圧のために回路テノグの電源低電位側配線の電
位が変動すると、たとえ入力信号が0.8ボルトであっ
ても電位変動の大きさΔ■1が、
O,S+ΔV1=2VIH
を満すような大きさであれば、回路は入力が″1ルベル
になったと感じて誤動作してしまうし、また入力信号が
2.0ボルトであってもΔ■2が
2・0−ΔV2≦VIL
′fr、満すような大きさであれば0°”レベルになっ
たと感じて誤動作してしまう。From the perspective of the circuit chip, this appears as if the input No. 15 level had moved by ΔV1 volts to the positive side and by Δv2 volts to the negative side. Therefore, when viewed from the 5-circuit chip, if the input signal is at a low level of 0.8 volts, when the ground potential changes by Δ■1 volts to the negative side, the input signal becomes o,8+Δ■1 volts. When it appears to have changed and fluctuated by ΔV2 volts on the positive side, it is 0.8-Δ■
It looks like it's now 2 volts. Similarly, among the Jinkai δ, those at crystal level 2.0 volts appear to have become 2.0+Δ■l volts and 2.0-Δ■2 volts. As mentioned above, the circuit feels "1" if the input is above VIH, and "0" if it is below VIL. When the potential of the Tenogu's power supply low potential side wiring changes, even if the input signal is 0.8 volts, if the magnitude of the potential fluctuation Δ■1 is such that it satisfies O, S + ΔV1 = 2VIH. , the circuit will sense that the input is ``1 level'' and will malfunction, and even if the input signal is 2.0 volts, the circuit will malfunction even if the input signal is 2.0 volts. Otherwise, it will feel like it has reached the 0°" level and will malfunction.
近年、半導体装utは晶速化が著しく進行しておシ、こ
れに伴って回路電流の時間的変化率は益々大きくなって
きておシ、上記の様な金属細線、内部リードの自己イン
ダクタンスによる回路の誤動作鉱物めて深刻な問題とな
シつつある。In recent years, the crystal speed of semiconductor devices has significantly increased, and as a result, the rate of change in circuit current over time has become larger and larger, due to the self-inductance of the thin metal wires and internal leads as described above. Circuit malfunctions are becoming a very serious problem.
この解決策としては、電流変化率の大きい配線は短いリ
ードにボンディングするという方法が考えらiするが、
〕ifl常、半導体装1lfQ端子配列は標準化されて
おシそのような変更は好ましくない。それ故、そのよう
fL変更は行われず、従来の回路部にの時間的変化率の
大きい半導体装置ではしばしば誤動動を生ずるという欠
点があった。One possible solution to this problem is to bond the wiring with a large current change rate to a short lead.
[ifl] Usually, the semiconductor device 1lfQ terminal arrangement is standardized, and such a change is not desirable. Therefore, such fL changes are not performed, and conventional semiconductor devices whose circuit portions have a large rate of change over time have the disadvantage of often causing malfunctions.
本発明の目的は上記欠点を除去し、回路電流の時間的変
化率が大きい場合でも、誤?・b作金起さない半導体装
置を提供することにある。The purpose of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks, and to prevent errors even when the time rate of change of the circuit current is large. - To provide a semiconductor device that does not require production costs.
本発明による半導体装置は、半導体に複数の回路素子が
形成され、該複数の回路素子間あるいは該回路ぶ子とポ
ンディングパッドとを接続する配藏とを有する回路チッ
プと、外部引出し端子とこれに接続する内部リードとを
有し前記回路チップを収納して封止するパッケージと、
前記内部リードとポンディングパッドとを接続する金属
細線とを含んで*i’J成される半導体装置において、
前記回路チップに電力を供給するための配線のうちの高
?B位配線又は低屯位配紛の少くとも一方の配線を二つ
のグループに分けて該グループ毎にポンディングパッド
を設け、前記パッケージの内部リードのうち前記二つの
グループに設けられたポンディングパッドが電気的に接
続されるべき内Kl−ドを二股に分け、前記二つのグル
ープに設けられたポンディングパッドの一方と前記内部
リードの一方の股とを金属細線で接続し、前記二つのグ
ループに設けられたポンディングパッドの他方と前記内
部リードの他方の股とを(シ屈細線で接続したことを特
徴とする。A semiconductor device according to the present invention includes a circuit chip in which a plurality of circuit elements are formed on a semiconductor, a circuit chip having a layout connecting the plurality of circuit elements or the circuit button and a bonding pad, an external lead terminal, and a package that houses and seals the circuit chip and has an internal lead connected to the circuit chip;
A semiconductor device formed *i'J including a thin metal wire connecting the internal lead and the bonding pad,
High of wiring to power the circuit chip? At least one of the B-level wiring and the low-level wiring is divided into two groups, and a bonding pad is provided for each group, and the bonding pads are provided in the two groups among the internal leads of the package. Divide the inner lead to be electrically connected into two, connect one of the bonding pads provided in the two groups with one crotch of the inner lead with a thin metal wire, and connect the two groups. The other of the bonding pads provided on the inner lead and the other crotch of the inner lead are connected by a bent thin wire.
次に、本発明の実施例について図面を用いて説明する。Next, embodiments of the present invention will be described using the drawings.
第2図は本発明の一実施例の平面図である。FIG. 2 is a plan view of one embodiment of the present invention.
第2図で1は回路チップ、2はパッケージ、3は外部引
出し端子、4は内部リード、5は金属相AL L 7は
二股に分けられ電源に接続される内部リードである。In FIG. 2, 1 is a circuit chip, 2 is a package, 3 is an external lead terminal, 4 is an internal lead, 5 is a metal phase AL L 7 is an internal lead that is divided into two parts and connected to a power source.
第2図に示す実施レリの等価回路を2134図に示す。An equivalent circuit of the implementation shown in FIG. 2 is shown in FIG. 2134.
冨4図でAは回路チップのうちWLIAr、変化の小さ
い回路部分、Nは回路チップのうち電流変化の大きい回
路部分、Bは回路チップ、Cはパンケージ全グミわし、
■1′〜115′は回路チップ上の入カボンディンダバ
ソドOは出力ボンディングパッド V/はEJ匝の冒屯
位側ボンディングバノド、O′は電流変化の大きい回路
V′11S分の電源低電位11111ポンディ/グバッ
ド、G〃は?IE流変比変化さい回路部分の電源低電位
側ボンディングバンド、11〜l15は半導体装置の入
力端子、Oは出力端子、Gは電源の低電位端子、■は゛
1毬源の高電位端子、L1〜L18はポンディングパッ
ドと端子間の金(す5細と内T1μリードのインダクタ
ンスk t+わしている。In Figure 4, A is WLIAr of the circuit chip, the circuit part where the change is small, N is the circuit part of the circuit chip where the current change is large, B is the circuit chip, C is the whole pan cage gummy wash,
■1' to 115' are the input bond pads on the circuit chip, and O is the output bonding pad. What is the potential 11111 Pound/Gbad, G? Bonding band on the power supply low potential side of the circuit part when changing the IE current ratio, 11 to l15 are the input terminals of the semiconductor device, O is the output terminal, G is the low potential terminal of the power supply, ■ is the high potential terminal of the 1-line source, L1 ~L18 is the inductance kt+ of the gold wire between the bonding pad and the terminal and the inner T1μ lead.
次に、第4図と第6図全参照して本発明の実施例の動作
について説明する。従来例と同様に入力信号が時刻1o
で0.8ボルトから2.0ボルト又は2.0ボルトから
0.8ボルトへと遷移した後時刻t1から12の間で、
一時的に、電源低電位配線電流が増加するとする。従来
例では、この電流変化によシ自己インダクタンス悄70
両端に逆起電圧が銹起され、回路の電源低″屯位を変動
させるため。Next, the operation of the embodiment of the present invention will be described with full reference to FIGS. 4 and 6. As in the conventional example, the input signal is at time 1o.
After the transition from 0.8 volts to 2.0 volts or from 2.0 volts to 0.8 volts, between times t1 and 12,
Assume that the power supply low potential wiring current temporarily increases. In the conventional example, this current change causes a self-inductance of 70
This is because a back electromotive force is generated at both ends, causing the power supply level of the circuit to fluctuate.
誤動作を起すことは前述した辿りである。しかし、本発
明では第4図に等価回路で示したように、内部回路fc
電流変化の大きい部分λとそうでない部分Aとに分割し
、また電源低?[位側配線のうち、二つの回路部分に共
通な配線はほとんどないようにしている。つまり、第4
図の自己インダクタンスL 17’ 2流れるwL流は
時間的変化率が小さく、また、電源低フル位配線のうち
上記二つの回路部分A。The above-mentioned process causes malfunctions. However, in the present invention, as shown in the equivalent circuit in FIG.
Divide it into a part λ where the current changes are large and a part A where it is not, and also check if the power supply is low? [Among the side wiring, there is almost no wiring that is common to the two circuit parts. In other words, the fourth
The wL current flowing through the self-inductance L17'2 shown in the figure has a small rate of change over time, and the above two circuit portions A of the power supply low full level wiring.
A′に共通な配線の自己インダクタンスL17Fは非常
に小さい。従って、回路部分hv76源低電位は、第6
図の23の線で示されるように変動が従来例に比べて著
しく小さくなっておシ、従来例で問題となるような誤動
作が起こらず安定した動作が得られる。The self-inductance L17F of the wiring common to A' is very small. Therefore, the circuit part hv76 source low potential is the sixth
As shown by line 23 in the figure, the fluctuations are significantly smaller than in the conventional example, and stable operation can be obtained without causing malfunctions, which are a problem in the conventional example.
なお、上記の説明ではガラス封止の18ビンDIP=(
用いたが1本発明はピン数が18ビン以外のガラス封止
DIPは勿論のこと樹脂封止1) I PやまたはDI
P以外の借遣の半導体装置にも適用できることは言うま
でもない。In addition, in the above explanation, the glass-sealed 18-bin DIP=(
However, the present invention is not only applicable to glass-sealed DIPs with pin numbers other than 18, but also resin-sealed 1) IP or DI.
Needless to say, the present invention can also be applied to borrowed semiconductor devices other than P.
以上説明した様に本発明によれば、電流の時間的変化率
が大きくとも、誤動作を起さず、安定した動作をする半
導体装置を得ることができる。As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a semiconductor device that does not malfunction and operates stably even if the rate of change of current over time is large.
第1図はも・濠をとった状態の従来の18ビンガラス封
止)) I )’型半導体装置の平面図、第2図は本発
明の一実施例の平面図、第3図は第1図に示す# ;J
z体装置の等価回路図、第4図は第2図に示す一実施例
の等価回路図、455図は第1図に示す半導体装置の動
作を説りJするための波形図、第6図は第2図に示す一
実施例の動作を説明するための波形図である。
1・・・・・・回路チップ、2・・・・・・パッケージ
、3・・・・・・外部引出し端子、4・・・・・・内部
リード、5・・・・・・省屑A411M、6.7・・・
・・・二股に分けられた内部リード、11・・・・・・
入力信号波形%12・・・・・・電源の低電位配線電流
波形、13・・・・・・電源の低電位側ポンディングパ
ッドの電圧波形、21・・・・・・入力(i号波形。
22.22’・・・・・・電源の低f[(S”l配線電
流波形、23・・・・・・電源の低電位側ポンディング
パッドの電圧波形。
代理人 弁理士 内 原 晋
事1ヅ■
を2口
序3珂 ゛9Fig. 1 is a plan view of a conventional 18-bottle glass-sealed semiconductor device with a moat removed. Fig. 2 is a plan view of an embodiment of the present invention. # shown in the figure; J
4 is an equivalent circuit diagram of the embodiment shown in FIG. 2; FIG. 455 is a waveform diagram for explaining the operation of the semiconductor device shown in FIG. 1; FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of the Z-body device; 2 is a waveform chart for explaining the operation of the embodiment shown in FIG. 2. FIG. 1... Circuit chip, 2... Package, 3... External lead terminal, 4... Internal lead, 5... Waste saving A411M , 6.7...
...Internal reed divided into two branches, 11...
Input signal waveform %12...Low potential wiring current waveform of power supply, 13...Voltage waveform of low potential side bonding pad of power supply, 21...Input (i waveform 22.22'...Low f [(S''l wiring current waveform of the power supply), 23...Voltage waveform of the low potential side bonding pad of the power supply. Agent: Susumu Uchihara, patent attorney Thing 1ヅ■ 2nd sentence 3゛9
Claims (1)
間あるいは該回路素子とポンディングパッドとを接続す
る配線とヲ有する回路チップと、外部引出し端子とこれ
に接続する内部リードと金有し前記回路チップを収納し
て封止するパッケージと、前記内部リードとポンディン
グパッドとを接続する金属細線とを含んで構成される半
導体装置において、前記回路チップに電力を供給するた
めの配線のうちの葛電位配線又は低電位配線の少くとも
一方の配線を二つのグループに分けて該グループ毎にポ
ンディングパッドを設け、前記パッケージの内部リード
のうち前記二つのグループに設けられたポンディングパ
ッドが電気的に接続されるべき内部リードを二股に分け
、前記二つのグループに設けられたポンディングパッド
の一方と前記内部リードの一方の股とを金属細線で接続
し、前記二つのグループに設けられたポンディングパッ
ドの他方と前記内部リードの他方の股と全金属細覇で接
続したことを特徴とする半導体装置。A circuit chip in which a plurality of circuit elements are formed on a semiconductor, and has wiring connecting between the plurality of circuit elements or between the circuit elements and a bonding pad, an external lead terminal, an internal lead connected thereto, and a metal layer. In a semiconductor device including a package that houses and seals the circuit chip, and thin metal wires that connect the internal leads and bonding pads, one of the wirings for supplying power to the circuit chip. At least one of the high potential wiring or the low potential wiring is divided into two groups, and a bonding pad is provided for each group, and the bonding pad provided in the two groups among the internal leads of the package is The internal lead to be electrically connected is divided into two, one of the bonding pads provided in the two groups is connected to one crotch of the internal lead with a thin metal wire, and the bonding pad provided in the two groups is connected to one crotch of the internal lead. 1. A semiconductor device, wherein the other of the bonding pads and the other crotch of the internal leads are connected to each other by all-metal hoops.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58144755A JPS6035544A (en) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58144755A JPS6035544A (en) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | Semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6035544A true JPS6035544A (en) | 1985-02-23 |
Family
ID=15369629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58144755A Pending JPS6035544A (en) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035544A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5801451A (en) * | 1995-02-14 | 1998-09-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device including a plurality of input buffer circuits receiving the same control signal |
-
1983
- 1983-08-08 JP JP58144755A patent/JPS6035544A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5801451A (en) * | 1995-02-14 | 1998-09-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device including a plurality of input buffer circuits receiving the same control signal |
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