JPS603623A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 44
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 43
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 50
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 12
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 abstract 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 67
- 239000010408 film Substances 0.000 description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 11
- -1 halogen ions Chemical class 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SUDVPELGFZKOMD-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(C(C)C)C(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 SUDVPELGFZKOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 4
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 230000036541 health Effects 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- SLBOQBILGNEPEB-UHFFFAOYSA-N 1-chloroprop-2-enylbenzene Chemical compound C=CC(Cl)C1=CC=CC=C1 SLBOQBILGNEPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVVXXHVHGGWWPE-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C(O)=O DVVXXHVHGGWWPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000005183 environmental health Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021243 milk fat Nutrition 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000010399 physical interaction Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000008054 sulfonate salts Chemical group 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、感光性樹脂組成物に係り、特に各種製版材料
やプリント配線基鈑用レジストなどのように感光性層を
有する感光性画像形成材料のこの感光性要用光重合性組
成物であって、水のみを塗布溶剤として使用できるとと
もに水のみによる現像ができ、しかも露光後の感光性層
の疎水性を向上できるようにしたものに関する。
やプリント配線基鈑用レジストなどのように感光性層を
有する感光性画像形成材料のこの感光性要用光重合性組
成物であって、水のみを塗布溶剤として使用できるとと
もに水のみによる現像ができ、しかも露光後の感光性層
の疎水性を向上できるようにしたものに関する。
従来技術
平版印刷版、樹脂凸版のような印刷版あるいは製版用フ
ィルムは、支持体上に感光性層を形成しこの感光性層を
原稿の明暗にしたがった露光により硬化層と非硬化層に
し、非硬化層を現像液により溶解除去して支持体上に画
線部及び非画線部を形成したものセある。また、プリン
ト配線版は、支持体上表面の金属層に感光性層を形成し
この感光性層に上記印刷版の場合と同様に今度は露光に
より回路パターンの硬化層を形成し、非露光部の非硬化
層を現像層にて熔解除去し、この後酸又はアルカリ溶液
にて支持体上の金属層をエツチングしたものである。
ィルムは、支持体上に感光性層を形成しこの感光性層を
原稿の明暗にしたがった露光により硬化層と非硬化層に
し、非硬化層を現像液により溶解除去して支持体上に画
線部及び非画線部を形成したものセある。また、プリン
ト配線版は、支持体上表面の金属層に感光性層を形成し
この感光性層に上記印刷版の場合と同様に今度は露光に
より回路パターンの硬化層を形成し、非露光部の非硬化
層を現像層にて熔解除去し、この後酸又はアルカリ溶液
にて支持体上の金属層をエツチングしたものである。
ところで、上記感光性層を組成物により形成するには、
この組成物は光重合開始剤、光重合性不飽和化合物、こ
の不飽和化合物が重合して硬化膜を形成したときこれを
基体に接着させるバインダーから少な(ともなり、この
組成物が基体上に塗布乾燥される。そして原稿により露
光されると光の当たった部分は不飽和化合物が重合して
硬化し光の当たらない部分は未硬化のまま残される。こ
れを現像処理すると、未硬化の部分は現像液に溶解除去
される。この場合、重合しない不飽和化合物は容易に除
去されるので、バインダーが現像液により溶解又は分散
除去される必要がある。
この組成物は光重合開始剤、光重合性不飽和化合物、こ
の不飽和化合物が重合して硬化膜を形成したときこれを
基体に接着させるバインダーから少な(ともなり、この
組成物が基体上に塗布乾燥される。そして原稿により露
光されると光の当たった部分は不飽和化合物が重合して
硬化し光の当たらない部分は未硬化のまま残される。こ
れを現像処理すると、未硬化の部分は現像液に溶解除去
される。この場合、重合しない不飽和化合物は容易に除
去されるので、バインダーが現像液により溶解又は分散
除去される必要がある。
上記において、露光後の現°像処理は、これまで有機溶
剤あるいはアルカリ水溶液を用いるものが殆どであった
。しかしながら、有機溶剤を用いるときは、作業場の環
境衛生及び安全上良くないのみならず、排出溶剤による
公害の問題があり、さらに溶剤の回収又は廃棄によるコ
スト上の問題もある。またアルカリ水溶性を用いるとき
は、そのpHの8周整に煩わしさがあるとともに、これ
が目に入ると危険であるという問題もある。
剤あるいはアルカリ水溶液を用いるものが殆どであった
。しかしながら、有機溶剤を用いるときは、作業場の環
境衛生及び安全上良くないのみならず、排出溶剤による
公害の問題があり、さらに溶剤の回収又は廃棄によるコ
スト上の問題もある。またアルカリ水溶性を用いるとき
は、そのpHの8周整に煩わしさがあるとともに、これ
が目に入ると危険であるという問題もある。
そこで、これらの問題のない中性水により現像ができる
ものがいくつか工夫されたが、これらのものは、例えば
平版印刷版の場合には感光性層の画線部にまだ親水性が
強く残っており、これをそのまま印刷に用いるとインキ
は通常親油性のものであるので画線部に対するインキの
付着性、いわゆる着肉性を害する。また、プリント配線
基鈑の場合には硬化層の親水性が強いとエツチング液が
この硬化層に浸透して例えばピンホールを生じさせるこ
とがある。この中性水により現像できるものとしては、
例えば特開昭49−76602号公報に記載されている
ように、スルホネート塩の基を有するポリアミド樹脂を
)マイングーにし、これに光重合可能な重合性の不飽和
化合物を含有させた感光性樹脂組成物が挙げられる。こ
の組成物を塗布乾燥して感光性層を形成しこれに露光す
ると重合性の不飽和化合物は重合して水不溶性になり、
非露光部分はポリアミド樹脂が水溶性であるので水によ
り溶解除去される。しかし、硬化部分に含まれでいるポ
リアミド樹脂は依然んとして親水性のちのであるので、
現像処理するときに水を含み膨潤し易い。このようにな
ると上記したようにインキの着肉性を害するのみならず
、微小な画像の再現が困難になる。
ものがいくつか工夫されたが、これらのものは、例えば
平版印刷版の場合には感光性層の画線部にまだ親水性が
強く残っており、これをそのまま印刷に用いるとインキ
は通常親油性のものであるので画線部に対するインキの
付着性、いわゆる着肉性を害する。また、プリント配線
基鈑の場合には硬化層の親水性が強いとエツチング液が
この硬化層に浸透して例えばピンホールを生じさせるこ
とがある。この中性水により現像できるものとしては、
例えば特開昭49−76602号公報に記載されている
ように、スルホネート塩の基を有するポリアミド樹脂を
)マイングーにし、これに光重合可能な重合性の不飽和
化合物を含有させた感光性樹脂組成物が挙げられる。こ
の組成物を塗布乾燥して感光性層を形成しこれに露光す
ると重合性の不飽和化合物は重合して水不溶性になり、
非露光部分はポリアミド樹脂が水溶性であるので水によ
り溶解除去される。しかし、硬化部分に含まれでいるポ
リアミド樹脂は依然んとして親水性のちのであるので、
現像処理するときに水を含み膨潤し易い。このようにな
ると上記したようにインキの着肉性を害するのみならず
、微小な画像の再現が困難になる。
この膨潤がないようにしたものとして、特開昭50−7
605号公報には、主鎖又は側鎖の一部分に塩基性窒素
原子を有するポリアミド樹脂をバインダーにし、これに
重合性の不飽和化合物を含有させた感光性樹脂組成物が
示されている。これ 1はポリアミド樹脂に含まれる塩
基性窒素を重合性不飽和結合を有する有機酸により4級
アンモニウムイオン化し、不飽和化合物が光照射により
ポリアミド樹脂を架橋するものである。これは皮膜強度
が大きく上記膨潤性も幾分改善される。しかし、ポリア
ミド樹脂はその主鎖にアミド結合を繰り返して有し、こ
のアミド基は比較的親水性であるので上記膨潤性の改善
は十分ではない。
605号公報には、主鎖又は側鎖の一部分に塩基性窒素
原子を有するポリアミド樹脂をバインダーにし、これに
重合性の不飽和化合物を含有させた感光性樹脂組成物が
示されている。これ 1はポリアミド樹脂に含まれる塩
基性窒素を重合性不飽和結合を有する有機酸により4級
アンモニウムイオン化し、不飽和化合物が光照射により
ポリアミド樹脂を架橋するものである。これは皮膜強度
が大きく上記膨潤性も幾分改善される。しかし、ポリア
ミド樹脂はその主鎖にアミド結合を繰り返して有し、こ
のアミド基は比較的親水性であるので上記膨潤性の改善
は十分ではない。
このようにバインダーが親水的であると上記膨潤性の問
題は解決されないので特開昭54−91585号公報に
は、水不溶性の樹脂を分散させたラテックスを用い、こ
れに重合性不飽和化合物を含ませた組成物が示されてい
る。このものは、光照射によりラテックスの粒子が不飽
和化合物の重合物中に充填される結果、いわゆる充填剤
効果があり、また皮膜になれば親水性ではなくなるが、
露光後のこのラテックス粒子と不飽和化合物の重合物と
の化学的、物理的な結合力は弱く、例えば現像時にブラ
シでこずられるときの耐性や印刷版としての耐刷性を備
えなければならないというように皮膜が支持体に確固と
して保持されなければならないというようなものとして
は問題がある。
題は解決されないので特開昭54−91585号公報に
は、水不溶性の樹脂を分散させたラテックスを用い、こ
れに重合性不飽和化合物を含ませた組成物が示されてい
る。このものは、光照射によりラテックスの粒子が不飽
和化合物の重合物中に充填される結果、いわゆる充填剤
効果があり、また皮膜になれば親水性ではなくなるが、
露光後のこのラテックス粒子と不飽和化合物の重合物と
の化学的、物理的な結合力は弱く、例えば現像時にブラ
シでこずられるときの耐性や印刷版としての耐刷性を備
えなければならないというように皮膜が支持体に確固と
して保持されなければならないというようなものとして
は問題がある。
また、上記重合性不飽和化合物が親水性でない場合には
水現像液により塗布物の非硬化部を除去する際にこの中
に水現像液が浸透しに(く、ラテックス粒子が除去され
にくいという問題がある。また、水系ラテックスを用い
るときは、重合性不飽和化合物は水溶性のものが使用さ
れるので、この組成物の露光後の硬化物もその重合物が
親水性になることを避けられないため上記と同様な問題
を生じる。
水現像液により塗布物の非硬化部を除去する際にこの中
に水現像液が浸透しに(く、ラテックス粒子が除去され
にくいという問題がある。また、水系ラテックスを用い
るときは、重合性不飽和化合物は水溶性のものが使用さ
れるので、この組成物の露光後の硬化物もその重合物が
親水性になることを避けられないため上記と同様な問題
を生じる。
上記は現像液に中性水を用いようとしたものであったが
、上記印刷版あるいはプリント配線基鈑のための感光性
層を感光性樹脂組成物の塗布により形成するときにも、
この感光性樹脂組成物に有機溶剤を使用するときは上記
のように公害、安全衛生上の問題がある。しかし、従来
知られている感光性樹脂組成物は、その用いられるバイ
ンダーや重合性の不飽和化合物が水のみに/8PF¥さ
せることが困難であったり、水に熔解することができた
としでも著しく高粘度になったりして塗布することがで
きないものが殆どであるので、有機溶剤を塗布性を付与
するための主な溶剤として用いざるを得なかった。
、上記印刷版あるいはプリント配線基鈑のための感光性
層を感光性樹脂組成物の塗布により形成するときにも、
この感光性樹脂組成物に有機溶剤を使用するときは上記
のように公害、安全衛生上の問題がある。しかし、従来
知られている感光性樹脂組成物は、その用いられるバイ
ンダーや重合性の不飽和化合物が水のみに/8PF¥さ
せることが困難であったり、水に熔解することができた
としでも著しく高粘度になったりして塗布することがで
きないものが殆どであるので、有機溶剤を塗布性を付与
するための主な溶剤として用いざるを得なかった。
以上のように、従来、現像液に有機溶剤を用いると公害
や安全衛生上の問題があり、水現像液を用いるときには
親水的なバインダーを用いると硬化部の水現像液に対す
る膨潤性の問題があり、ラテックスを使用するときには
皮膜強度、特に水系ラテックスを用いる場合にはこれに
加えて親水的になるという問題があり、さらに感光性樹
脂組成物の塗布溶剤は有機溶剤が主に用いられることに
よる上記と同様の問題があり、その改善が望まれていた
。
や安全衛生上の問題があり、水現像液を用いるときには
親水的なバインダーを用いると硬化部の水現像液に対す
る膨潤性の問題があり、ラテックスを使用するときには
皮膜強度、特に水系ラテックスを用いる場合にはこれに
加えて親水的になるという問題があり、さらに感光性樹
脂組成物の塗布溶剤は有機溶剤が主に用いられることに
よる上記と同様の問題があり、その改善が望まれていた
。
発明の目的
本発明の第1の目的は、露光後の感光性層の現像処理が
有機溶剤を使用しないで水のみでも行なえるようにした
感光性層のための感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。
有機溶剤を使用しないで水のみでも行なえるようにした
感光性層のための感光性樹脂組成物を提供することにあ
る。
本発明の第2の目的は、上記のように水のみによる現像
を行なえるようにしても感光性層の硬化部は親水性を失
って疎水化されかつ皮膜強度が犬きくなるような感光性
樹脂組成物を提供することにある。
を行なえるようにしても感光性層の硬化部は親水性を失
って疎水化されかつ皮膜強度が犬きくなるような感光性
樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第3の目的は、感光性樹脂組成物の塗布により
支持体上に感光性層を形成するときに水を主とした水系
溶剤又は水のみからなる溶剤を用いられるようにした感
光性樹脂組成物を提供することにある。
支持体上に感光性層を形成するときに水を主とした水系
溶剤又は水のみからなる溶剤を用いられるようにした感
光性樹脂組成物を提供することにある。
発明の構成
上記目的を達成するために、本発明は、カチオン性基を
有するラテックス重合体と、アニオン性基を有する水溶
性のエチレン性不飽和化合物と、光重合開始剤を有する
ことを特徴とするものである。
有するラテックス重合体と、アニオン性基を有する水溶
性のエチレン性不飽和化合物と、光重合開始剤を有する
ことを特徴とするものである。
本発明は、上記構成において、ラテックス重合体及びエ
チレン性の不飽和化合物はいずれもイオン化されている
ので水に良く分散又は溶解し・これにより感光性樹脂組
成物の溶剤を水のみにすることも可能であり、露光操作
後の非硬化部分の水 鬼のみによる現像も可能であると
ともに、他方露光操作後の硬化部は不飽和化合物の重合
体とラテ・ノクス重合体との物理的、化学的結合により
疎水性化及び皮膜の強度の増大化が可能となるものであ
る。
チレン性の不飽和化合物はいずれもイオン化されている
ので水に良く分散又は溶解し・これにより感光性樹脂組
成物の溶剤を水のみにすることも可能であり、露光操作
後の非硬化部分の水 鬼のみによる現像も可能であると
ともに、他方露光操作後の硬化部は不飽和化合物の重合
体とラテ・ノクス重合体との物理的、化学的結合により
疎水性化及び皮膜の強度の増大化が可能となるものであ
る。
本発明において、カチオン性基を有するラテ・ノクス重
合体は、支持体に後述する上記エチレン性不飽和化合物
の光重合体を良く接着させるためのバインダーとなると
ともに自らも(・キ光性層の構成成分となるものであっ
て、その主なものは分子に4級窒素原子を有し、これに
より上記水への分散性が向上されるとともに上記エチレ
ン性不飽和化合物の重合体との物理的結合が生じるもの
である。
合体は、支持体に後述する上記エチレン性不飽和化合物
の光重合体を良く接着させるためのバインダーとなると
ともに自らも(・キ光性層の構成成分となるものであっ
て、その主なものは分子に4級窒素原子を有し、これに
より上記水への分散性が向上されるとともに上記エチレ
ン性不飽和化合物の重合体との物理的結合が生じるもの
である。
この4級窒素原子は重合体分子の側鎖に含まれるものが
好ましい。
好ましい。
このような重合体を構成する七ツマーq1位の代表例と
しては、下記一般式〔■〕〜〔■〕で示されるものが挙
げられる。
しては、下記一般式〔■〕〜〔■〕で示されるものが挙
げられる。
一般式(1)
一般式(IV)
p
■
一般式(V)
一般式(1)〜〔■〕において、X−はアニオンを表す
。すなわち、ハロゲンイオン、硫酸イオン、リン酸イオ
ン、スルホン酸イオン、酢酸イオン、その化フッ素を含
むBF:、PF6− 、S 1F6SbF6−1BeF
4−のようなアニオンが含まれる。
。すなわち、ハロゲンイオン、硫酸イオン、リン酸イオ
ン、スルホン酸イオン、酢酸イオン、その化フッ素を含
むBF:、PF6− 、S 1F6SbF6−1BeF
4−のようなアニオンが含まれる。
N+に結合するRは同一でも異種であってもよく、それ
ぞれのRは水素原子又は1〜10個の炭素原子を有する
アルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル、イソブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、デシルの各基)
、アルケニル基(例えばプロペニル、ブチニルの各基)
、又は6〜20個の炭素原子を有する了り−ル基(例え
ばフェニル、ナフチルの各基)、アルアルキル基(例え
ば−、ンジル、フェネチル、ナフチル、メチルの各基)
、若しくはアルカリール基(例えばトリル、キシリルの
各基)を表す。また、重合性不飽和エチレン基を有する
ものも好ましい。これは分子中に重合性基を有すると後
述のエチレン性不飽和化合物の光重合の際、これらと重
合し化学結合をするからである。Zは不飽和複素環を形
成するのに必要な非金属原子群を表わし、好ましくはイ
ミダゾール、ピリジン、ピペリジン、ピロール又はモル
ホリン 4環である。nは整数を表わす。
ぞれのRは水素原子又は1〜10個の炭素原子を有する
アルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル、イソブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、デシルの各基)
、アルケニル基(例えばプロペニル、ブチニルの各基)
、又は6〜20個の炭素原子を有する了り−ル基(例え
ばフェニル、ナフチルの各基)、アルアルキル基(例え
ば−、ンジル、フェネチル、ナフチル、メチルの各基)
、若しくはアルカリール基(例えばトリル、キシリルの
各基)を表す。また、重合性不飽和エチレン基を有する
ものも好ましい。これは分子中に重合性基を有すると後
述のエチレン性不飽和化合物の光重合の際、これらと重
合し化学結合をするからである。Zは不飽和複素環を形
成するのに必要な非金属原子群を表わし、好ましくはイ
ミダゾール、ピリジン、ピペリジン、ピロール又はモル
ホリン 4環である。nは整数を表わす。
本発明におけるカチオン性基を有するラテックス重合体
で、上記一般式で示ずされるものは主鎖がc−c結合で
あるため極性基を有さす疎水性であるので感光性層を形
成したときその疎水性に寄与する。ラテックス重合体は
、これが例えば水系ラテックス重合体の場合には、水中
に分散出来る程度の水溶性基を有すればよいので重合体
分子中に疎水性基を比較的多く導入できるため親水性を
低下させることができることと、これを含む分散液は樹
脂濃度の割に粘度が低くなるため感光性層を形成すると
きの塗布性が良く、その乾燥皮膜を厚膜にできる点で有
利である。このラテックス重合体に疎水性基を導入して
水溶性を調節するためには上記カチオン性モノマーに非
カチオン性モノマーを共重合すれば良く、この非カチオ
ン性モノマーの例としてアクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、スチレン、アルキレン、酢酸ビニル、ア
クリロニトリル等が挙げられる。このラテックス11体
は、好ましくはジビニルベンゼンやジメククリレート等
の2個以上の不飽和基を有するモノマーにより架橋され
、乳化重合により製造されるのが望ましい。これはモノ
マーの親水性を減し、効果的に乳化重合でき、その結果
皮膜強度の向−トに寄与するからである。
で、上記一般式で示ずされるものは主鎖がc−c結合で
あるため極性基を有さす疎水性であるので感光性層を形
成したときその疎水性に寄与する。ラテックス重合体は
、これが例えば水系ラテックス重合体の場合には、水中
に分散出来る程度の水溶性基を有すればよいので重合体
分子中に疎水性基を比較的多く導入できるため親水性を
低下させることができることと、これを含む分散液は樹
脂濃度の割に粘度が低くなるため感光性層を形成すると
きの塗布性が良く、その乾燥皮膜を厚膜にできる点で有
利である。このラテックス重合体に疎水性基を導入して
水溶性を調節するためには上記カチオン性モノマーに非
カチオン性モノマーを共重合すれば良く、この非カチオ
ン性モノマーの例としてアクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、スチレン、アルキレン、酢酸ビニル、ア
クリロニトリル等が挙げられる。このラテックス11体
は、好ましくはジビニルベンゼンやジメククリレート等
の2個以上の不飽和基を有するモノマーにより架橋され
、乳化重合により製造されるのが望ましい。これはモノ
マーの親水性を減し、効果的に乳化重合でき、その結果
皮膜強度の向−トに寄与するからである。
上記カチオン性モノマーと非カチオン性モノ゛ンー〇共
重合体を製造するには、上記カチオン4gJJH;を有
するラテックス重合体中、カチオン性モノマーは5〜9
5重量%含まれるのが好ましく、さらに好ましくは25
〜65重量%である。また非カチオン性モノマーは5〜
95%含有させるのが好ましく、そのうち上記ジビニル
ベンゼンのような架橋性モノマーは0.1〜8重量%含
まれるのが好ましい。
重合体を製造するには、上記カチオン4gJJH;を有
するラテックス重合体中、カチオン性モノマーは5〜9
5重量%含まれるのが好ましく、さらに好ましくは25
〜65重量%である。また非カチオン性モノマーは5〜
95%含有させるのが好ましく、そのうち上記ジビニル
ベンゼンのような架橋性モノマーは0.1〜8重量%含
まれるのが好ましい。
本発明における上記カチオン性基を有するラテックス重
合体の合成例としては、特開昭51−73440号公報
の実施例に記載されているようにビニルベンジルクロラ
イドを他のモノマーと乳化重合し、その後第3級アミン
で4級化する方法が採用できる。別の好まし合成法は特
開昭55−22766号公報しこ記載されている方法で
ある。また、別の好まし合成法は特開昭56−1735
2号公報に記載されている方法である。
合体の合成例としては、特開昭51−73440号公報
の実施例に記載されているようにビニルベンジルクロラ
イドを他のモノマーと乳化重合し、その後第3級アミン
で4級化する方法が採用できる。別の好まし合成法は特
開昭55−22766号公報しこ記載されている方法で
ある。また、別の好まし合成法は特開昭56−1735
2号公報に記載されている方法である。
本発明に用いるカチオン性基を有するラテックス重合体
は組成物中で実質的にカチオン性基に4級窒素原子を有
するもので、その分子中にアミン、特に第3級アミンを
有するものが水系溶剤に分散された結果4級窒素原子を
有するカチオン性基になっている場合も含まれる。
は組成物中で実質的にカチオン性基に4級窒素原子を有
するもので、その分子中にアミン、特に第3級アミンを
有するものが水系溶剤に分散された結果4級窒素原子を
有するカチオン性基になっている場合も含まれる。
上記ラテックス重合体の粒径は、10〜200mμが好
ましく、10mμよりも小さいと製造困難であり実用的
でない。一方、20Qmμよりも大きいと、感光性層の
露光後の画線部を形成したとき画像の解像力を悪くする
。
ましく、10mμよりも小さいと製造困難であり実用的
でない。一方、20Qmμよりも大きいと、感光性層の
露光後の画線部を形成したとき画像の解像力を悪くする
。
本発明のカチオン性基を有する重合体の具体例としては
、下記に示す化合物が挙げられる。なお括弧内はモル比
である。
、下記に示す化合物が挙げられる。なお括弧内はモル比
である。
(以下この頁余白)
〔例示化合物〕
(1) (4:4B74B)
(3) (4:68:28)
(4)(4:鑓;28)
(5) (4:48:48)
(6)侶: 46 : 46)
(7) (4:38:58)
(8) (2:69:29)
(11) (4:68:28)
CH:]
(12) (6:37:57)
CH3
CH3
(13) (6:47:47)
CH3
I 1士
CH2−N−C21−15
1m
(14)(4:68:28)
CH3
■
CH3
(15) (2:49:49)
(16) (2:29:69)
(17)(4:86=10)
CH9
I −
(18) ■:80)
□
C6H+2
(19) (4:48:48)
にH=CI−12
(20) (47Fi3:3i3)
CH3
(21) (4:48:20:28)
CH3
本発明においてアニオン性基を有するエチレン性不飽和
化合物は、感光性層の露光により重合する成分を構成す
るものであって、水に溶解できるモノマーである。この
ようなエチレン性不飽和化合物のアニオン性基としては
、カルボキシル基やスルホン酸基を有するものが特に有
用である。具体的な化合物としては、アクリル酸1.メ
ククリル酸、イタコン酸等の脂肪族エチレン性カルボン
酸あるいはビニルベンゼンカルボン酸等の芳香族エチレ
ン性カルボン酸がある。また、ビニルヘンセンスルホン
酸や2−アクリルアミド−2メチルプロパンスルホン酸
等のスルホン酸基を有するエチレンモノマーも有用であ
る。また、2(flit以上の:[チレン性不飽和基を
有するアニオン性のエチレン性モノマーは架橋剤となる
こともできるので3次元重合体を形成でき、露光により
硬化した感光性層の強度を大きくすることができるため
、特に自効である。
化合物は、感光性層の露光により重合する成分を構成す
るものであって、水に溶解できるモノマーである。この
ようなエチレン性不飽和化合物のアニオン性基としては
、カルボキシル基やスルホン酸基を有するものが特に有
用である。具体的な化合物としては、アクリル酸1.メ
ククリル酸、イタコン酸等の脂肪族エチレン性カルボン
酸あるいはビニルベンゼンカルボン酸等の芳香族エチレ
ン性カルボン酸がある。また、ビニルヘンセンスルホン
酸や2−アクリルアミド−2メチルプロパンスルホン酸
等のスルホン酸基を有するエチレンモノマーも有用であ
る。また、2(flit以上の:[チレン性不飽和基を
有するアニオン性のエチレン性モノマーは架橋剤となる
こともできるので3次元重合体を形成でき、露光により
硬化した感光性層の強度を大きくすることができるため
、特に自効である。
本発明に用いる光重合開始剤としては従未知られている
各種の光ラジカル発生剤を使用することができる。具体
的には、ベンゾフェノン及びその誘導体、ベンゾイン及
びその誘導体、アントラキ lトへ ノン及びその誘導体、ハロゲン化合物、イオウ化合物、
チオキサントン及びその誘導体、ロフィン系ダイマーな
どが例として挙げられる。これらの光ラジカル発生剤は
併用しても良いし、また必要に応じて水素供与剤等の増
感剤を添加することができる。
各種の光ラジカル発生剤を使用することができる。具体
的には、ベンゾフェノン及びその誘導体、ベンゾイン及
びその誘導体、アントラキ lトへ ノン及びその誘導体、ハロゲン化合物、イオウ化合物、
チオキサントン及びその誘導体、ロフィン系ダイマーな
どが例として挙げられる。これらの光ラジカル発生剤は
併用しても良いし、また必要に応じて水素供与剤等の増
感剤を添加することができる。
本発明の感光性樹脂組唯物の好ましい組成比の範囲とし
ては、カチオン性基を有するラテックス重合体25〜7
4重量%、アニオン性基を有するエチレン性不飽和化合
物25〜74重量%、光重合開始剤1〜30重量%であ
る。
ては、カチオン性基を有するラテックス重合体25〜7
4重量%、アニオン性基を有するエチレン性不飽和化合
物25〜74重量%、光重合開始剤1〜30重量%であ
る。
ラテックス重合体が少なすぎるとバインダーとしての機
能を果たし得ないし、逆に多すぎると感光性層中のエチ
レン性不飽和化合物の重合体の割合が少なくなるのでア
ニオン性基と塩を形成しないカチオン性基が生じこれが
遊離状態になるのでより親水的となり、好ましくない。
能を果たし得ないし、逆に多すぎると感光性層中のエチ
レン性不飽和化合物の重合体の割合が少なくなるのでア
ニオン性基と塩を形成しないカチオン性基が生じこれが
遊離状態になるのでより親水的となり、好ましくない。
アニオン性基を有する重合体が過剰になる場合も同様で
ある。
ある。
したがって、感光性層の硬化層はアニオン性基とカチオ
ン性基が等モル及びその近傍に存在することが疎水性の
点から望ましい。
ン性基が等モル及びその近傍に存在することが疎水性の
点から望ましい。
本発明における感光性樹脂組成物の分散媒あるいは溶剤
は、上記カチオン性基を有するラテックス重合体が分散
性であり、エチレン性不飽和化合物が水溶性であるので
、水のみでも良く、この場合には上記したように公害等
の問題がなくてよいが、感光性樹脂組成物の塗布時の支
持体に対する濡れや乾燥時の乾燥性を高めるために水混
和性有機溶剤を補助的に併用することができる。このよ
うなものとしては、メタノール、エタノール、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、ハロゲン化炭
化水素、酢酸エチル等を挙げることができる。
は、上記カチオン性基を有するラテックス重合体が分散
性であり、エチレン性不飽和化合物が水溶性であるので
、水のみでも良く、この場合には上記したように公害等
の問題がなくてよいが、感光性樹脂組成物の塗布時の支
持体に対する濡れや乾燥時の乾燥性を高めるために水混
和性有機溶剤を補助的に併用することができる。このよ
うなものとしては、メタノール、エタノール、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、ハロゲン化炭
化水素、酢酸エチル等を挙げることができる。
本発明における感光性樹脂組成物には必要に応じて種々
の添加剤を加えることができる。例えば貯蔵保存時の熱
重合を防くため適当量のヒドロキシン及びその類似化合
物を添加することができる。
の添加剤を加えることができる。例えば貯蔵保存時の熱
重合を防くため適当量のヒドロキシン及びその類似化合
物を添加することができる。
その他接着性向上剤、バインダーとしての他のjj1合
体、感光性層の表面を粗面化するマット刑等の添加剤を
加えることができる。
体、感光性層の表面を粗面化するマット刑等の添加剤を
加えることができる。
本発明の感光性組成物を製造するには、上記各配合成分
を適宜手段で攪拌混合すれば良い。
を適宜手段で攪拌混合すれば良い。
本発明の感光性樹脂組成物を用いて平版印刷版、樹脂凸
版、製版用フィルム、あるいはプリント配線基鈑用金属
エツチングのフォトレジスト等の感光性画像形成材料を
作成するには、支持体の上にこの感光性樹脂組成物を塗
布し、乾燥させて感光性層を形成する。この感光性層は
単一層として設けてもよいが、例えば製版用フィルム用
の紫外線遮断用フォトマスクを作成する場合のように、
透明支持体上に下塗層を設け、ついでこの下塗層の上に
本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性層を形成する
ようよしても良い。この場合下塗層としては、高分子化
合物に紫外線遮断よう着色材料(例えば300nm〜7
00nmの波長域に吸収を有する染料又は銅フタロシア
ニン、カーボンブランク、二酸化チタン等の顔料)を添
加したものがある。
版、製版用フィルム、あるいはプリント配線基鈑用金属
エツチングのフォトレジスト等の感光性画像形成材料を
作成するには、支持体の上にこの感光性樹脂組成物を塗
布し、乾燥させて感光性層を形成する。この感光性層は
単一層として設けてもよいが、例えば製版用フィルム用
の紫外線遮断用フォトマスクを作成する場合のように、
透明支持体上に下塗層を設け、ついでこの下塗層の上に
本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性層を形成する
ようよしても良い。この場合下塗層としては、高分子化
合物に紫外線遮断よう着色材料(例えば300nm〜7
00nmの波長域に吸収を有する染料又は銅フタロシア
ニン、カーボンブランク、二酸化チタン等の顔料)を添
加したものがある。
このよ′うにして設けられる上記感光性層の厚さは、上
記感光性樹脂組成物の乾燥塗膜にして0.1〜20g/
−の範囲が適当である。
記感光性樹脂組成物の乾燥塗膜にして0.1〜20g/
−の範囲が適当である。
上記感光性画像形成材料を作成するときの支持体として
は、アルミニウム、鉄、銅、あるいはごれらの合金等の
金属板、紙支持体、特に合成紙(ポリプロピレン、ポリ
エチレンラミネート紙等)、プラスチックス支持体(例
えば酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、塩化ビニリデン等)が挙
げられる。
は、アルミニウム、鉄、銅、あるいはごれらの合金等の
金属板、紙支持体、特に合成紙(ポリプロピレン、ポリ
エチレンラミネート紙等)、プラスチックス支持体(例
えば酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、塩化ビニリデン等)が挙
げられる。
このような支持体は感光性層との接着性の改良の目的で
、電気的、化学的、機械的に表面処理されていることが
望ましい。また、この接着性を向」二するために下引層
を設け、でも良い。さらにまた、上記のようにして形成
される感光性層の表面を滑りにくくするために上記マン
ト剤からなる層を設けても良く、可撓性支持体を用いた
感光性画像形成材料の場合には、カールを防止するカー
ル防止層を感光性層と反対側の面に設けるようにしても
良い。
、電気的、化学的、機械的に表面処理されていることが
望ましい。また、この接着性を向」二するために下引層
を設け、でも良い。さらにまた、上記のようにして形成
される感光性層の表面を滑りにくくするために上記マン
ト剤からなる層を設けても良く、可撓性支持体を用いた
感光性画像形成材料の場合には、カールを防止するカー
ル防止層を感光性層と反対側の面に設けるようにしても
良い。
本発明による感光性樹脂組成物を用いて感光性画像形成
材料を製造するには、回転塗布法、ブラ、14つ1.□
−7、l、−Fi工あおい、よヨ8,71バー塗布法等
の代表的な塗布手段が用いられ、これちの手段により塗
布された後適宜手段により乾燥される。
材料を製造するには、回転塗布法、ブラ、14つ1.□
−7、l、−Fi工あおい、よヨ8,71バー塗布法等
の代表的な塗布手段が用いられ、これちの手段により塗
布された後適宜手段により乾燥される。
上記のようにして作成された感光性画像形成材料は、ま
ず活性光線により画像露光される。ここで活性光線とし
ては、上記感光性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤が
感光するものであればどのようなものでも用いられる。
ず活性光線により画像露光される。ここで活性光線とし
ては、上記感光性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤が
感光するものであればどのようなものでも用いられる。
例えば水銀灯、キセノン灯、レーザー等が挙げられる。
露光後の感光性画像形成材料は通常の水道水で現像する
。この場合必要に応じて温水にしたり、あるいはアルカ
リや酸を加えても良い。この際、スポンジ等の適当なも
のを用いて表面を擦接することにより現像を効果的に行
なうことができる。
。この場合必要に応じて温水にしたり、あるいはアルカ
リや酸を加えても良い。この際、スポンジ等の適当なも
のを用いて表面を擦接することにより現像を効果的に行
なうことができる。
このようにして上記感光性樹脂組成物による感光性層が
支持体上に形成され、この感光性層が露光現像されて画
像を形成した材料が作成されるが、露光の際には、まず
上記活性光線により感光性層の光重合開始剤が活性化さ
れてラジカルを生しこれがエチレン性不飽和化合物に付
加してこれらの不飽和化合物の重合を誘起し、これによ
りエチレン性不飽和化合物の重合体ができる。このよう
になると親水的なものが疎水的なものになる。なお、カ
チオン性巣を有するラテックス重合体にエチレン性不飽
和基を有するときはこれも上記アニオン性基を有するエ
チレン性不飽和化合物と重合するので両者の間に化学結
合ができる結果、3次元i1↓合体ができ、皮膜強度を
一層向上できる。
支持体上に形成され、この感光性層が露光現像されて画
像を形成した材料が作成されるが、露光の際には、まず
上記活性光線により感光性層の光重合開始剤が活性化さ
れてラジカルを生しこれがエチレン性不飽和化合物に付
加してこれらの不飽和化合物の重合を誘起し、これによ
りエチレン性不飽和化合物の重合体ができる。このよう
になると親水的なものが疎水的なものになる。なお、カ
チオン性巣を有するラテックス重合体にエチレン性不飽
和基を有するときはこれも上記アニオン性基を有するエ
チレン性不飽和化合物と重合するので両者の間に化学結
合ができる結果、3次元i1↓合体ができ、皮膜強度を
一層向上できる。
発明の効果
本発明によれば、ラテックス重合体にカチオン性基を有
し、エチレン性不飽和化合物にアニオン性基を有するよ
うにしたので、両者を水あるいは水に補助的に水混和性
有機溶剤を加えた溶剤に分散又は熔解させた感光性樹脂
組成物をつくることができ、したがってこの感光性樹脂
組成物を塗布して感光性層を形成すれば、従来のように
有機l合剤を多量に用いた感光性樹脂組成物を塗布しζ
(・ミ光性層を形成したときのような公害等の問題はな
く、また、水のみからなる現像液による現像ができるの
で従来の有機溶剤あるいはアルカリ水溶宋を用いた現像
のように公害やPHの調整のような問題もなく、しかも
コストを低下させることが可能な感光性樹脂組成物を提
供できる。
し、エチレン性不飽和化合物にアニオン性基を有するよ
うにしたので、両者を水あるいは水に補助的に水混和性
有機溶剤を加えた溶剤に分散又は熔解させた感光性樹脂
組成物をつくることができ、したがってこの感光性樹脂
組成物を塗布して感光性層を形成すれば、従来のように
有機l合剤を多量に用いた感光性樹脂組成物を塗布しζ
(・ミ光性層を形成したときのような公害等の問題はな
く、また、水のみからなる現像液による現像ができるの
で従来の有機溶剤あるいはアルカリ水溶宋を用いた現像
のように公害やPHの調整のような問題もなく、しかも
コストを低下させることが可能な感光性樹脂組成物を提
供できる。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、ラテックス重合体
を有することによる厚膜塗膜の形成や塗布性、乾燥塗膜
の耐水性の向上が望まれ、さらに充填剤効果が期待され
るほかにカチオン性基を有する重合体がラテックスの形
態であり、このラテックスの分散媒中に水溶性のエチレ
ン性基を有する不飽和化合物が存在するので、この感光
性樹脂組成物を用いた感光性層の非露光部の非硬化部分
ば水現像液が浸透し易くなっていることが窺われ、水現
像液で現像するときこの非硬化部分の除去を極めて容易
に行うことができる。
を有することによる厚膜塗膜の形成や塗布性、乾燥塗膜
の耐水性の向上が望まれ、さらに充填剤効果が期待され
るほかにカチオン性基を有する重合体がラテックスの形
態であり、このラテックスの分散媒中に水溶性のエチレ
ン性基を有する不飽和化合物が存在するので、この感光
性樹脂組成物を用いた感光性層の非露光部の非硬化部分
ば水現像液が浸透し易くなっていることが窺われ、水現
像液で現像するときこの非硬化部分の除去を極めて容易
に行うことができる。
また、本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性層は露
光により硬化し、イオン的なものが非イオン的なものに
なって親水性を失い疎水化するので、各種用途の優れた
画像形成材料を提供できる。
光により硬化し、イオン的なものが非イオン的なものに
なって親水性を失い疎水化するので、各種用途の優れた
画像形成材料を提供できる。
例えば印刷版に使用した場合には、現像時に露光により
硬化した部分は水により膨潤するようなことはなく、こ
の硬化部を画線部にしたときそのh’+i像力を向上で
きるとともに、疎水化された画線部にはインキの着肉性
が良くなる。このように硬化部が疎水化きれる結果、特
にプリント配線柄版用フォトレジストに使用されたとき
は、金属エツチングの際、強酸あるいは強塩基の水溶性
に対しても強い抵抗性を示し、エソチング不要個所にピ
ンホールが生じるようなことを防止でき、良好なマスク
画像を得ることができる。このようにして例えば平版印
刷版、樹脂凸版、製版用フィルム、プリント基鈑用フォ
トレジスト等に使用できる性能、取扱易さ及びコストを
改善した感光性樹脂組成物を提供できる。
硬化した部分は水により膨潤するようなことはなく、こ
の硬化部を画線部にしたときそのh’+i像力を向上で
きるとともに、疎水化された画線部にはインキの着肉性
が良くなる。このように硬化部が疎水化きれる結果、特
にプリント配線柄版用フォトレジストに使用されたとき
は、金属エツチングの際、強酸あるいは強塩基の水溶性
に対しても強い抵抗性を示し、エソチング不要個所にピ
ンホールが生じるようなことを防止でき、良好なマスク
画像を得ることができる。このようにして例えば平版印
刷版、樹脂凸版、製版用フィルム、プリント基鈑用フォ
トレジスト等に使用できる性能、取扱易さ及びコストを
改善した感光性樹脂組成物を提供できる。
実施例
次に本発明の詳細な説明するが、本発明はごれらに限る
ものではない。なお、以下の実施例において「部」とは
、特に断わりのない限り「重量部」を示す。
ものではない。なお、以下の実施例において「部」とは
、特に断わりのない限り「重量部」を示す。
実施例1
7あ。、3 mm17)ア716.つA )jii@2
0% ’) y @ y −1ダ水溶液に浸漬して乳脂
し、電解研磨を行なった後、硫酸中で陽極酸化し、さら
にメタケイ酸ソーダ水溶液にて処理し、水洗後乾燥を行
なった。
0% ’) y @ y −1ダ水溶液に浸漬して乳脂
し、電解研磨を行なった後、硫酸中で陽極酸化し、さら
にメタケイ酸ソーダ水溶液にて処理し、水洗後乾燥を行
なった。
この基板(支持体)に、下記組成の感光液をその塗布乾
燥後の膜厚が3.0μmになるように被覆してこの実施
例の感光性層を有する印刷原版を得た。
燥後の膜厚が3.0μmになるように被覆してこの実施
例の感光性層を有する印刷原版を得た。
上記例示化合物(1)のカチオン
性基を有するラテックス重合体 45.0部(固形分1
0%の水分散液) 2−アクリルアミド−2−メチル プロパンスルホン酸 4.5部 ジイソプロピルチオキザントン 0.5部ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル 0.5部メチルセロソルブ 4
.0部 水 50.0部 上上記印刷版にネガフィルムとしてコダソクステンプタ
ブレソトNo、2を密着させアイドルフィン200〔岩
崎電気0零社製、2部wメタルハライドランプ〕で20
秒間露光し、20℃の水中で1分間スポンジでこすり未
露光部分を除去して印刷版を得た。ステップタブレット
の硬化段数は5段であった。つぎにこの印刷版を枚葉オ
フセント印刷機にかけて上質紙に印刷したところ、2万
枚以上の良好な印刷物が得られた。
0%の水分散液) 2−アクリルアミド−2−メチル プロパンスルホン酸 4.5部 ジイソプロピルチオキザントン 0.5部ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル 0.5部メチルセロソルブ 4
.0部 水 50.0部 上上記印刷版にネガフィルムとしてコダソクステンプタ
ブレソトNo、2を密着させアイドルフィン200〔岩
崎電気0零社製、2部wメタルハライドランプ〕で20
秒間露光し、20℃の水中で1分間スポンジでこすり未
露光部分を除去して印刷版を得た。ステップタブレット
の硬化段数は5段であった。つぎにこの印刷版を枚葉オ
フセント印刷機にかけて上質紙に印刷したところ、2万
枚以上の良好な印刷物が得られた。
実施例2
実施例1と同様の処理をしたアルミニウム版に下記組成
の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が3.0μmになるよ
うに被覆して印刷原版を得た。
の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が3.0μmになるよ
うに被覆して印刷原版を得た。
上記例示化合物(4)のカチオン
性基を有するラテックス重合体 65.0部(固形分1
0%の水分散液) ジビニルベンゼンスルボン(yl 2 、5 部ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミル 0.5部ジイソプロビル
チオキザントン 0.5部ポリビニルアルコール 1.
5童(1;水 30.0部 この印刷原版を実施例1と同様に露光、現像し印刷版を
得た。この印刷版を枚葉オフセット印刷機にかけて上質
紙に印刷したところ、良質な印刷物が3万枚以上得られ
た。
0%の水分散液) ジビニルベンゼンスルボン(yl 2 、5 部ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミル 0.5部ジイソプロビル
チオキザントン 0.5部ポリビニルアルコール 1.
5童(1;水 30.0部 この印刷原版を実施例1と同様に露光、現像し印刷版を
得た。この印刷版を枚葉オフセット印刷機にかけて上質
紙に印刷したところ、良質な印刷物が3万枚以上得られ
た。
実施例3
実施例1と同様の処理をしたアルミニウム版に下記組成
の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が3.0μmになるよ
うに被覆して印刷原版を得た。
の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が3.0μmになるよ
うに被覆して印刷原版を得た。
上記例示化合物(19)のカナ1ン
性基を有するラテックス重合体 55.0部(固形分1
0%の水分散液) 2−アクリルアミド−2−メチル プロパンスルホン酸 3.5部 ジイソプロピルチオキサントン 0.5部ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル 0.5部メチルセロソルブ 4
.0部 水 36.5部 この印刷原版を実施例1と同様に露光、現像し、印刷版
を得た。この印刷版を枚葉オフセント印刷機にかけて上
質紙に印刷したところ、良好な印刷物が4万枚以上得ら
れた。
0%の水分散液) 2−アクリルアミド−2−メチル プロパンスルホン酸 3.5部 ジイソプロピルチオキサントン 0.5部ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル 0.5部メチルセロソルブ 4
.0部 水 36.5部 この印刷原版を実施例1と同様に露光、現像し、印刷版
を得た。この印刷版を枚葉オフセント印刷機にかけて上
質紙に印刷したところ、良好な印刷物が4万枚以上得ら
れた。
実施例4
厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
の片面に、700人の膜厚になるようにアルミニウムを
蒸着し、金属薄膜層を形成した。ついてこの金属薄膜層
の1に実施例2で使用した感光液をその塗布乾燥後の膜
厚が2μmになるように被覆して感光性層を設けた。こ
の感光性層にネガフィルムを密着させて露光した後、3
0℃の水に1分間浸漬後、スポンジで軽くこすり、感光
性層の未露光部を除去した。ついで水100m6に4g
の水酸化ナトリウムを溶かした水溶液に3分間浸漬後水
洗、乾燥したところ、ピンホールの少ない高コントラス
トのポジ画像を得た。
の片面に、700人の膜厚になるようにアルミニウムを
蒸着し、金属薄膜層を形成した。ついてこの金属薄膜層
の1に実施例2で使用した感光液をその塗布乾燥後の膜
厚が2μmになるように被覆して感光性層を設けた。こ
の感光性層にネガフィルムを密着させて露光した後、3
0℃の水に1分間浸漬後、スポンジで軽くこすり、感光
性層の未露光部を除去した。ついで水100m6に4g
の水酸化ナトリウムを溶かした水溶液に3分間浸漬後水
洗、乾燥したところ、ピンホールの少ない高コントラス
トのポジ画像を得た。
比較例1
実施例1と同様の処理をしたアルミニウム版に下記組成
の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が3.0μmになるよ
うに被覆して感光性層を設けた。
の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が3.0μmになるよ
うに被覆して感光性層を設けた。
ポリアクリル酸エチルラテ
ックス重合体(固形分10%水 45.0部分散液)
2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸 4.5部 言
さ
ジイソプロピルチオキサントン 0.5部ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル 0.5部メチルセロソルブ 4
.0部 水 50.0部 この感光性層にネガフィルムとしてコダソクステソブタ
ブレッ)No、2を密着させ、実施例1と同様に露光、
現像を行なったところ、露光された部分は水により膨潤
し、スポンジでこすったときに除去されてしまい画像部
が得られなかった。露光時間を60秒に増やしても画像
部は同様に得られなかった。
ノ安息香酸イソアミル 0.5部メチルセロソルブ 4
.0部 水 50.0部 この感光性層にネガフィルムとしてコダソクステソブタ
ブレッ)No、2を密着させ、実施例1と同様に露光、
現像を行なったところ、露光された部分は水により膨潤
し、スポンジでこすったときに除去されてしまい画像部
が得られなかった。露光時間を60秒に増やしても画像
部は同様に得られなかった。
比較例2
厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
の片面に、700人の膜厚になるようにアルミニウムを
蒸着し、金属薄膜層を形成した。ついでこの金属薄膜層
の上に下記組成の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が2.
0μmになるようにして感光性層を設けた。
の片面に、700人の膜厚になるようにアルミニウムを
蒸着し、金属薄膜層を形成した。ついでこの金属薄膜層
の上に下記組成の感光液をその塗布乾燥後の皮膜が2.
0μmになるようにして感光性層を設けた。
上記例示化合物(1)のカチオ
ン性基を有するラテックス重合
体(固形分10%水分散液) 45.0部トリメチロー
ルプロパントリアク リレート 4.5部 ジイソプロピルチオキサントン 065部ジメチルアミ
ノ安息香酸イソ7 0.5部ミル メチルセロソルブ 54.0部 上記感光性層にネガフィルムを密着させ、実施例1と同
様に露光し、30℃の水に1分間浸漬後、スポンジで軽
くこすり、感光性層の未露光部分を除去した。つぎに水
100m1に4gの水酸化ナトリウムを熔かした水溶液
に3分間浸漬後、水洗、乾燥した。得られた画像はピン
ホールが多く実用性に欠けるものであった。
ルプロパントリアク リレート 4.5部 ジイソプロピルチオキサントン 065部ジメチルアミ
ノ安息香酸イソ7 0.5部ミル メチルセロソルブ 54.0部 上記感光性層にネガフィルムを密着させ、実施例1と同
様に露光し、30℃の水に1分間浸漬後、スポンジで軽
くこすり、感光性層の未露光部分を除去した。つぎに水
100m1に4gの水酸化ナトリウムを熔かした水溶液
に3分間浸漬後、水洗、乾燥した。得られた画像はピン
ホールが多く実用性に欠けるものであった。
昭和58年06月21日
Claims (1)
- (1)カチオン性基を有するラテックス重合体と、アニ
オン性基を有する水溶性のエチレン性不飽和化合物と、
光重合開始剤を有することを特徴とする感光性樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111710A JP2514315B2 (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111710A JP2514315B2 (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS603623A true JPS603623A (ja) | 1985-01-10 |
| JP2514315B2 JP2514315B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=14568193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58111710A Expired - Lifetime JP2514315B2 (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2514315B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003215801A (ja) * | 2001-10-31 | 2003-07-30 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 感光性組成物及び平版印刷版並びに印刷方法 |
| JP2006326928A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Fujifilm Holdings Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL2027002B1 (en) * | 2020-11-27 | 2022-07-04 | Flint Group Germany Gmbh | Photosensitive composition |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5236042A (en) * | 1975-09-12 | 1977-03-19 | Western Electric Co | Multiimode optical fiber |
-
1983
- 1983-06-21 JP JP58111710A patent/JP2514315B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5236042A (en) * | 1975-09-12 | 1977-03-19 | Western Electric Co | Multiimode optical fiber |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003215801A (ja) * | 2001-10-31 | 2003-07-30 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 感光性組成物及び平版印刷版並びに印刷方法 |
| JP2006326928A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Fujifilm Holdings Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2514315B2 (ja) | 1996-07-10 |
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