JPS6036603Y2 - 光ファイバの製造装置 - Google Patents

光ファイバの製造装置

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JPS6036603Y2
JPS6036603Y2 JP1977109646U JP10964677U JPS6036603Y2 JP S6036603 Y2 JPS6036603 Y2 JP S6036603Y2 JP 1977109646 U JP1977109646 U JP 1977109646U JP 10964677 U JP10964677 U JP 10964677U JP S6036603 Y2 JPS6036603 Y2 JP S6036603Y2
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JP
Japan
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chamber
optical fiber
core
raw material
fiber manufacturing
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Expired
Application number
JP1977109646U
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JPS5435753U (ja
Inventor
良三 山内
浩一 稲田
和夫 真田
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は非等温プラズマによるＣＶＤ反応（以下ｐ−
ＣＶＤ法という）を利用して、光ファイバのコア上にク
ラッドを連続的に被覆する装置に関するものである。
この考案においては、非等温プラズマを発生させている
チャンバ内にクラッド用の原料ガスを連続的に流すとと
もに、このチャンバ内のプラズマの中にコアを連続的に
通過させる。
そして表面で化学的気相成長を行なわせることによって
クラッド層の連続被覆を行なう。
装置の概略を第１図に示した。
１０は例えば円筒形の石英製気密チャンバである。
この中を排気装置１２により所定の低圧に保つ。
１４は電極、１６は高周波発信器で、これらによりチャ
ンバ１０内に非等温プラズマ１８を発生させる。
２０はクラッド用原料ガスの供給装置で、例えば５ＩＣ
１４とＢＢｒ３などを０２とともにチャンバ１０内に送
り込む。
２２はコア２４の送り出し装置、２６は引取り装置、２
８と３０はシールである。
作用を述べると、チャンバ１０内に送り込まれたクラッ
ド用原料ガスはプラズマ１８内で解離し、コア２４の表
面で運動のエネルギーを失うとともに反応してクラッド
の層を析出する。
２４０は光ファイバを示す。
なおチャンバ１０内は常に安定な非等温プラズマ１８が
発生するように、排気装置１２によりＩＱ□Ｔｏｒｒ以
下の圧力に調整される。
なお、非等温プラズマの発生には、上記のように電極１
４を使った容量負荷に高周波電力を印加する方式の他に
、チャンバ１０の外側に巻いたコイル（誘導負荷）に高
周波電力を加える公知の方式、ならびにチャンバ１０の
外側の空洞共振器を用いた負荷にマイクロ波電力（２４
５０ＭＨ２）を加える公知の方式を用いることができる
。
実施例 １ １第１図ヨの装置を使用した。
チャンバ１０は内径２５ｃｍ長さ１０（財）の石英ガラ
ス製の円筒、内部圧力は１ＱＴｏｒｒ、高周波発信器１
６の出力は１３ＭＨｚｌＯＯＯＷ０これでチャンバ１０
内に非等温プラズマ１８を発生させておき、チャンバ１
０内に、毎分０２１００ｓＣＣｍＳｉＣ１４２０ｓＣＣ
ｍ１ＢＯ２１００ｓＣＣの割合でクラッド用の原料ガス
を流しながら、この中に直径１５０ＩＬｍのＳｉＯ２の
コアをｌＱｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、２μｍのホウ
ケイ酸ガラスのクラッド層を連続して被覆することがで
きた。
実施例 ２ １第２図ヨにおいて、２４ａはコア用母材で、ＳｉＯ２
＋００゜からなり、直径は１ｏｒｒｒＩｎ０それを、４
．５７７Ｉｍ／ｍｌｎで下降させながらヒーター３２に
よって溶融し、直径１５０μｍのコア２４を、２０ｒｒ
１／ｍｉｎで紡糸した。
チャンバ１０内およびプラズマ１８を形成する条件を第
１実施例と同じにしておきチャンバ１０内に、ＳｉＳｉ
Ｃ１４２２ｓｃ ／ｍｉｎ、 ０２１０１００３ｃ ／
ｍｉｎのクラッド用原料ガスを送り込んだ。
そして紡糸直後のコア２４をプラズマ１８の中を通過さ
せて、０．７μｍの厚さのシリカクラッドの層を連続的
に形成することができた。
考案の効果 ｐ −ＣＶＤ法を利用する内付けＣＶＤ法は公知である
。
しかし、内付けＣＶＤ法の場合は、１）出発石英管から
の不純物の拡散、２）コラップス時におけるドーパント
の揮散による中心部の屈折率分布の落込み、などの問題
がある。
しかし、本考案の装置を使用すれば、そのよう・な問題
は全く生じない。
【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の第１実施例の説明図、第２図は同じく
第２実施例の説明図。 １０・・・・・・チャンバ、１８・・・・・・プラズマ
、２４・・・・・・コア、２８と３０・・・・・・シー
ル。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 気密構造のチャンバ１０と、そのチャンノく１０の外側
    に設けた負荷に高周波またはマイクメロ波電力を印加し
    てチャンバ１０内に非等温プラズマ１８を発生させる装
    置と、チャンバ１０内にクラッド用の原料ガスを連続し
    て流すための原料ガスの供給装置２０と、チャンバ１０
    内を低圧に保つための排気装置１２とを備えるとともに
    、 チャンバ１０内を、それとの間の気密を保ちながらコア
    ２４が連続的に通過できるようにしたことを特徴とする
    光ファイバの製造装置。
JP1977109646U 1977-08-17 1977-08-17 光ファイバの製造装置 Expired JPS6036603Y2 (ja)

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