JPS6036670A - 無電解銅めつき用触媒 - Google Patents
無電解銅めつき用触媒Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、無ｗＬ解銅めっき用触媒に関丁ゐ〇無電解銅
めっ１ハ印刷配線也の分野で、槓層似寺の絶縁基＆に回
路ｒ杉成丁ゐために広（用いられている。
めっ１ハ印刷配線也の分野で、槓層似寺の絶縁基＆に回
路ｒ杉成丁ゐために広（用いられている。
Ｃの場合、絶縁基板の無電解銅めっきか施δｎ、ゐ而は
活性化、丁ｌｆ）ち無電解鋼めっきのための触媒核？中
心にして、無電解銅めつ＠液中の銅イオンが析出し、成
長してｆ７ｐＪ膜となり、回路とな／）。
活性化、丁ｌｆ）ち無電解鋼めっきのための触媒核？中
心にして、無電解銅めつ＠液中の銅イオンが析出し、成
長してｆ７ｐＪ膜となり、回路とな／）。
絶縁基板を活性仕丁ゐために、無電解銅めっきのための
触媒となる金属パラジウムケ絶縁基板表ｒｍｖｃル成さ
せてい心。
触媒となる金属パラジウムケ絶縁基板表ｒｍｖｃル成さ
せてい心。
９Ｆ米、この曾四バシジウムσ、
ＰｄＣ６ｔ ＋ ＳｎＣ６ｍ”＞ Ｐｄ＋５ｎＣＪ−の
反末６で侍らｔじＣおり、硅礫土などの相体Ｖｃ担持芒
ｒ１−１触媒１′［用ｒ来−ｆように工夫さｎ、ていゐ
。
反末６で侍らｔじＣおり、硅礫土などの相体Ｖｃ担持芒
ｒ１−１触媒１′［用ｒ来−ｆように工夫さｎ、ていゐ
。
その′ｆｃａＶ、Ｓｎ、Ｃ１７１どの不Ａ 吻に％（言
（ｒりえに、相棒ｒ１丈）ＩＴするたダハ接盾剤混入し
、アティティプ印刷配勝恨用の成眉剤（眉媒人り）や１
碩層孕忙装墳する場合、でり、ねじ７’Ｌか発生し、杷
杉性ＶＣ離Ａがあｆ）、又、絶縁電線の肥林層中に混入
丁ゐことＣＪ困離でめっｋＯ１又応さ・ぜて侍ら１１５
、力ｎ熱ｅこよＱ盆踊パラジウム忙生成丁／）錯化は物
忙言む無電解鋼めっき用Ｍ（媒でめな。
（ｒりえに、相棒ｒ１丈）ＩＴするたダハ接盾剤混入し
、アティティプ印刷配勝恨用の成眉剤（眉媒人り）や１
碩層孕忙装墳する場合、でり、ねじ７’Ｌか発生し、杷
杉性ＶＣ離Ａがあｆ）、又、絶縁電線の肥林層中に混入
丁ゐことＣＪ困離でめっｋＯ１又応さ・ぜて侍ら１１５
、力ｎ熱ｅこよＱ盆踊パラジウム忙生成丁／）錯化は物
忙言む無電解鋼めっき用Ｍ（媒でめな。
２１曲のパラジウム化ｆｔ物としては、極比パラジウム
（ｎハ フッ化パラジウム（１１）％某化バクジウム（
ｎＪｂ ヨウ化パラジウム０１ｊ１硝取バラジクム（Ｉ
ｌｌ、鎖酸パラジウム（Ｊ帆醒化バ２ジクム（”）ｓ
誠化バラジウム（ＩＩ）及びこｎ、らの混合物が使用さ
几ゐ。
（ｎハ フッ化パラジウム（１１）％某化バクジウム（
ｎＪｂ ヨウ化パラジウム０１ｊ１硝取バラジクム（Ｉ
ｌｌ、鎖酸パラジウム（Ｊ帆醒化バ２ジクム（”）ｓ
誠化バラジウム（ＩＩ）及びこｎ、らの混合物が使用さ
几ゐ。
ハロゲン化物、特に塩化パラジウム（ＩＩ）が好ましい
ｏ ｔ１１ｆｔ＋、２価の銅化合物としては塩化鋼ＣＩ
）、塩化鋼（川、硫酸銅ｆｉｌ）及びこｎらのｍ合物が
１更用をｎ−な。
ｏ ｔ１１ｆｔ＋、２価の銅化合物としては塩化鋼ＣＩ
）、塩化鋼（川、硫酸銅ｆｉｌ）及びこｎらのｍ合物が
１更用をｎ−な。
ｆ ル）−スとして０、Ｄ−クルコース、Ｌ−グルコー
スが１史用きｎ／）。
スが１史用きｎ／）。
２１１１１１のパラジウム化合物ゲグルコースと反尾、
憾ゼて錯化合物τ得をＶＣは１例えは１）−クルコース
１ｇＫ水２ｇｋ加え、こｆｌ、に塩化パラジウム０．２
５ｇケ加え２０分間５０℃に加熱、損とう丁ゐことに、
Ｌり傅らｎ、る、この錯化合物に８０℃以上の加熱で金
属パラジウムｒ生取する○得らｎた錯化合物では、＊化
パラジウム（ＩＩＪにグルコースの水酸基に配位してお
り、加熱すると水酸基の結合している炭素原子に近接す
る炭素原子に結合している氷菓によ９２価のパラジウム
は還元式ｎて金属パラジウム？生成する。
憾ゼて錯化合物τ得をＶＣは１例えは１）−クルコース
１ｇＫ水２ｇｋ加え、こｆｌ、に塩化パラジウム０．２
５ｇケ加え２０分間５０℃に加熱、損とう丁ゐことに、
Ｌり傅らｎ、る、この錯化合物に８０℃以上の加熱で金
属パラジウムｒ生取する○得らｎた錯化合物では、＊化
パラジウム（ＩＩＪにグルコースの水酸基に配位してお
り、加熱すると水酸基の結合している炭素原子に近接す
る炭素原子に結合している氷菓によ９２価のパラジウム
は還元式ｎて金属パラジウム？生成する。
（１）錯化合物を含む水浴准中に被めっさ′勿紮凝潰［
７弓１＠Ｉ：ｉｉ−力１１熱−ｆめことＶＣより被めっ
き物表［ｌ′Ｉ′Ｉｒ金禍バシジウムヶ生成させる。
７弓１＠Ｉ：ｉｉ−力１１熱−ｆめことＶＣより被めっ
き物表［ｌ′Ｉ′Ｉｒ金禍バシジウムヶ生成させる。
（２）ｊ゛ル化什物ゲ、コムーフェノール系寺の接盾酌
申ｋ（分散し、この接有削紮ガラス；ｆｈにエホキン？
含没した槓層板咎の表面に塗布し、カ１１熱乾床する段
′南で金−パラジウム忙生成させゐ０ （５）錯化合管Ｊ忙、エホキシ仙脂のアセトン浴数中に
分散さ−ぜ々ワニス紮カラス布等の基拐に召泣させ、ス
市′にのｈ法により積層板を装コ魚丁ゐ。ゾリフ”レグ
の乾繰時、槓鳩似の刀ロ熱カ１１圧時の熱により番４（
ζパラジウムが生成丁ゐ。
申ｋ（分散し、この接有削紮ガラス；ｆｈにエホキン？
含没した槓層板咎の表面に塗布し、カ１１熱乾床する段
′南で金−パラジウム忙生成させゐ０ （５）錯化合管Ｊ忙、エホキシ仙脂のアセトン浴数中に
分散さ−ぜ々ワニス紮カラス布等の基拐に召泣させ、ス
市′にのｈ法により積層板を装コ魚丁ゐ。ゾリフ”レグ
の乾繰時、槓鳩似の刀ロ熱カ１１圧時の熱により番４（
ζパラジウムが生成丁ゐ。
（４）錯化合物ケ、小すゴステル樹脂の有恢浴剤浴成牛
に分散させ、流延法でフィルム領つくべ）０南情劇酌の
〃［１熱除去中の力ｎ熱により金属パラジウムか生ｂｙ
、Ｔな〇 （５）錯化合１り１τ、ポリイミドのテトラヒドロフラ
ン浴液中に分散させ％胎勝に機種する。焼さ付け時の熱
ｙｃ 、ｒ、 り金部パラジウムが生成し触媒性紮壱丁
ルノ３縁箪練が何ら看、る。
に分散させ、流延法でフィルム領つくべ）０南情劇酌の
〃［１熱除去中の力ｎ熱により金属パラジウムか生ｂｙ
、Ｔな〇 （５）錯化合１り１τ、ポリイミドのテトラヒドロフラ
ン浴液中に分散させ％胎勝に機種する。焼さ付け時の熱
ｙｃ 、ｒ、 り金部パラジウムが生成し触媒性紮壱丁
ルノ３縁箪練が何ら看、る。
以上読切したよ５に、本発明の無電解銅めっき用触媒は
、次の利点が違ぜら１．ゐ。
、次の利点が違ぜら１．ゐ。
（１）生成する金属パラジウムの粒子ｌ１ＩＩかいため
、侍ら１．た無電解めっさの特性が浚ｎ、ゐ。
、侍ら１．た無電解めっさの特性が浚ｎ、ゐ。
（２）硅櫟土等の担体？使用しないですむので、浴准中
での使用が可能でめり、均−混合が各局Ｏ ＜５） Ｓｎ、Ｃ７寺の不純物葡汀まないため、侍らｎ
た無電解めっきの特性が良い。
での使用が可能でめり、均−混合が各局Ｏ ＜５） Ｓｎ、Ｃ７寺の不純物葡汀まないため、侍らｎ
た無電解めっきの特性が良い。
〜５−
十 糸売 を舊ＩＴ −ｘｉ、’：’−イ芽１、事件の
表示 １、！；川用８年特語願第１４４６３６号２、発明の名
称 無匍帝同めっき用端煤 ３、補正をする者 事件との関係 特許用）臥 住所 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号名称（４４５
）口立イレ戊工業株式会社代表打横山亮次 ４、 イＵｌｊノ（ ■１６０ 居所 東京？Ｉ１ｍ宿区西新宿ニリＪ羽１番１憂口立イ
誠Ｔ業株式会社内 （電話 東京 ３４６−３１１１． （大代表）６、補
正の内容 歴パ シＪ琳ルの通り。
表示 １、！；川用８年特語願第１４４６３６号２、発明の名
称 無匍帝同めっき用端煤 ３、補正をする者 事件との関係 特許用）臥 住所 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号名称（４４５
）口立イレ戊工業株式会社代表打横山亮次 ４、 イＵｌｊノ（ ■１６０ 居所 東京？Ｉ１ｍ宿区西新宿ニリＪ羽１番１憂口立イ
誠Ｔ業株式会社内 （電話 東京 ３４６−３１１１． （大代表）６、補
正の内容 歴パ シＪ琳ルの通り。
明 網１１ 曹
１、発明の名セ１１
無′亀屓銅ル′）つき用触媒
２、％旧−粕求の剃）囲
１、 ２ ｌｌｌ１＋のパラジウム化合物又は、１価、
２１［１１１の銅化合物ｒグルコースと反応させて侍ら
れ、／Ｊｌｌ熱により金橋パラジウム又は金槙組を生成
する錯化合物（ｌＩｌ′召む無電解銅めっさ用触媒。
２１［１１１の銅化合物ｒグルコースと反応させて侍ら
れ、／Ｊｌｌ熱により金橋パラジウム又は金槙組を生成
する錯化合物（ｌＩｌ′召む無電解銅めっさ用触媒。
５ 弁明の８４＝細な線間
本発明は％無電１屓銅めっき用触媒に関丁ゐ。
無電解銅めっきは、印刷配線機の分野で、槓Ｊ餉４Ｎ寺
の絶縁基板に回路ｒ形成するために広く用いらむている
。
の絶縁基板に回路ｒ形成するために広く用いらむている
。
この場合、絶縁基板の無電解銅めっきが施される匍は活
性化、丁ｌわ°らｊｒ＜ ゛妊駒組めっきのための触媒
核缶中心にして、魚箱７解銅りっさ液中の蛤ｊイオンが
析出し、成長して銅膜となり、回路となる。
性化、丁ｌわ°らｊｒ＜ ゛妊駒組めっきのための触媒
核缶中心にして、魚箱７解銅りっさ液中の蛤ｊイオンが
析出し、成長して銅膜となり、回路となる。
絶縁基板３：粘１イ１．化−４” 、５７ｃめに、無′
屯解組めっきのための触媒となる金禰パラジウム又は金
橋銅會杷脈基板表曲に形成させている。
屯解組めっきのための触媒となる金禰パラジウム又は金
橋銅會杷脈基板表曲に形成させている。
従来、例えばこの金属パラジウムは、
ＨＣｌ
ＰｄＣ６ｔ ＋Ｓｎ（Ｊｇ−＝）Ｐｄ ＋５ｎＣｅ４の
反応で伶られてお９１件深土などの相体１７ｃＪ′見持
され、弧２啄作用ｉｃ ”Ａ！： ＝ｔ−よう？Ｃ工夫
ざｌしている。
反応で伶られてお９１件深土などの相体１７ｃＪ′見持
され、弧２啄作用ｉｃ ”Ａ！： ＝ｔ−よう？Ｃ工夫
ざｌしている。
そのため、Ｓｎ、Ｃ／２２どの不純物ケ多く言む９えに
、担体ケ使用するｋめ、接盾剤ＶＣ混入し、アティティ
ブ印刷配糾敬用ｌ／）最盾削（触媒入り）付活層板を製
造する場合、そり、ねじｔ′Ｌが発生し、絶縁ｊｇ：に
難点がおジ、又、枦コ脈屯勝の絶縁層中に混入すること
は困ぬ′Ｃあった。
、担体ケ使用するｋめ、接盾剤ＶＣ混入し、アティティ
ブ印刷配糾敬用ｌ／）最盾削（触媒入り）付活層板を製
造する場合、そり、ねじｔ′Ｌが発生し、絶縁ｊｇ：に
難点がおジ、又、枦コ脈屯勝の絶縁層中に混入すること
は困ぬ′Ｃあった。
本発明にこのような点に遁み゛Ｃ４込扛たもので、２１
曲のパラジウム化合物又は１ｉ＋４＋＋、２仙ｊの測用
化ｂ−！１勿ｔ１ クルコースとノ又に、、させて１廿
ら扛。
曲のパラジウム化合物又は１ｉ＋４＋＋、２仙ｊの測用
化ｂ−！１勿ｔ１ クルコースとノ又に、、させて１廿
ら扛。
加熱に」：り金桐パラジウム又は金桶繕τ生成する錯化
合物ｒ言む無箪屏廟ν）つき用触媒である０２１′ｌ１
ＩＩのパラジウム化合物としては、Ｊム化パラジウム（
ｎ） 、ンフ化パラジウム（ｓｘ）ｓ 臭化パラジウム
（■）、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）、側ｒｙハクンウム
（１υ。
合物ｒ言む無箪屏廟ν）つき用触媒である０２１′ｌ１
ＩＩのパラジウム化合物としては、Ｊム化パラジウム（
ｎ） 、ンフ化パラジウム（ｓｘ）ｓ 臭化パラジウム
（■）、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）、側ｒｙハクンウム
（１υ。
ｌＷｉ服パラジウム（Ｉｉ 、酸化パラジウム（Ｉｌｌ
、佃Ｃ化パラジウム（ｎ）及びこれらの混合物が使用さ
れる。
、佃Ｃ化パラジウム（ｎ）及びこれらの混合物が使用さ
れる。
ハロゲン化物、’ｆＮＣｊ鬼化パラジウム（ＩＴ）が好
Ｒしい０１１曲、２１曲のＮ＝＝Ｊ化什物としては塩化
ン伺（１）、塩化Ｊ１４ （Ｉυ、硫酸銅（史及びこ扛
らの混合物かに用憾れる。
Ｒしい０１１曲、２１曲のＮ＝＝Ｊ化什物としては塩化
ン伺（１）、塩化Ｊ１４ （Ｉυ、硫酸銅（史及びこ扛
らの混合物かに用憾れる。
グルコースとしてｔ；ｒ、１）−グルコース、Ｌ −グ
ルコースが使用される。
ルコースが使用される。
２１曲のパラジウム化合９勿忙グルコースと反応させて
錯化合物を得るＫは、例えばＤ−グルコースｉｇＶＣ水
２ｇ？加え、Ｃれに塩化パラジウム０．２５ ｇＬニア
Ｊｎｊｔ２０分間５０℃に加熱、振とう丁ゐことＫより
侍られ／Ｓ、この錯化合物に８０℃シー１−、の加熱で
金属パラジウムケ生成する。
錯化合物を得るＫは、例えばＤ−グルコースｉｇＶＣ水
２ｇ？加え、Ｃれに塩化パラジウム０．２５ ｇＬニア
Ｊｎｊｔ２０分間５０℃に加熱、振とう丁ゐことＫより
侍られ／Ｓ、この錯化合物に８０℃シー１−、の加熱で
金属パラジウムケ生成する。
１ｈらｔｌに錯化合物では、塩化パラジウム（ＩＯはグ
ルコースの水埴基に配位しており、加熱すると水酸基の
結合している炭素原子に近接する炭素原子に結１ｔシて
いる水系により２１曲のパラジウムに還元さ扛−Ｃ金属
パラジウムケ生成する〇本発明の鉛化自′物の１史用例
會吐明する。使用坦ｉ、Ｊｐｄ、Ｃｕの倉で＋ｍｍ重重
以下好ましい。
ルコースの水埴基に配位しており、加熱すると水酸基の
結合している炭素原子に近接する炭素原子に結１ｔシて
いる水系により２１曲のパラジウムに還元さ扛−Ｃ金属
パラジウムケ生成する〇本発明の鉛化自′物の１史用例
會吐明する。使用坦ｉ、Ｊｐｄ、Ｃｕの倉で＋ｍｍ重重
以下好ましい。
５−
（１）諾化付′ｌ勿を含゛む水浴液中に扱めっきり勿ｒ
反演し引き上げ、加熱丁ゐことにより被めっき物表囲ｅ
（金％ ハフシウム又に金Ｊｆ％餉ｒ生カ又さぜ６０ （２） 鉛化付物電、ゴムーフェノール系寺の桜７Ｍ創
申に分散し、この接宥却］′）ｄ：カラス布にエボギシ
τ百反した（貞Ｊ曽似寺の衣用１に蚤用ｊし、カ１ｊ熱
乾祿−Ｉ−る攻略で金楠パラジウム又ｅＪ金桟鋼を生成
させゐ。
反演し引き上げ、加熱丁ゐことにより被めっき物表囲ｅ
（金％ ハフシウム又に金Ｊｆ％餉ｒ生カ又さぜ６０ （２） 鉛化付物電、ゴムーフェノール系寺の桜７Ｍ創
申に分散し、この接宥却］′）ｄ：カラス布にエボギシ
τ百反した（貞Ｊ曽似寺の衣用１に蚤用ｊし、カ１ｊ熱
乾祿−Ｉ−る攻略で金楠パラジウム又ｅＪ金桟鋼を生成
させゐ。
（５）韻化せ吻ｔ１エフＪクキン１円崩りアセトン浴液
申に分散さぜにワニスγカラス布寺のム材ｅｃ宮浸させ
、Ｓ富の力演により積層載７候漬するＯフ゛リプレグの
乾燥時、禎Ｊ曽仮の力１］熱カロ圧尚（１）熱により金
へパラジウム又は金鳩銅が生成する。
申に分散さぜにワニスγカラス布寺のム材ｅｃ宮浸させ
、Ｓ富の力演により積層載７候漬するＯフ゛リプレグの
乾燥時、禎Ｊ曽仮の力１］熱カロ圧尚（１）熱により金
へパラジウム又は金鳩銅が生成する。
（４）銘化合物領、ポリエステル＠１］ぽの勺−機浴剤
浴液中ＶＣ分散させ、流延法でフィルムケつくる。壱磯
浴剤の加熱除去中のカロ熱により金属パラジウム又は金
楓鍋が生成する。
浴液中ＶＣ分散させ、流延法でフィルムケつくる。壱磯
浴剤の加熱除去中のカロ熱により金属パラジウム又は金
楓鍋が生成する。
（５） 錯化合物ｉ１ポリイミドのテト２ヒドロン＝４
− ラン帛准申に分散さセ、給蛛に伝しする。涜さ１−」す
Ｉｌ、ｆの熱Ｐｊより金員パラジウム又は金楠銅が生Ｉ
ｔ’＜ Ｌ、触ａ斌ｅ盆南丁絶縁電橢が侍ら石ゐ。
− ラン帛准申に分散さセ、給蛛に伝しする。涜さ１−」す
Ｉｌ、ｆの熱Ｐｊより金員パラジウム又は金楠銅が生Ｉ
ｔ’＜ Ｌ、触ａ斌ｅ盆南丁絶縁電橢が侍ら石ゐ。
以上バー（、ｌｊ＋ｊｔ、７１−よりに、本発明の黒−
」涛ト廟ｙ）つき用７％ｑ（媒に、θ（の利点か庇ぜら
扛ゐ０（１）生成丁ゐ〈Ｖ柄パラジウム又は苔楓銅のｔ
’ｖ子か血１〃・いため、侍られｌζ無屯肩Ｋ）つきの
ｔＲ性が潰才ｔ６゜ （２）硅床土咎のＪｊシ体ケ秋川し用いですｈので。
」涛ト廟ｙ）つき用７％ｑ（媒に、θ（の利点か庇ぜら
扛ゐ０（１）生成丁ゐ〈Ｖ柄パラジウム又は苔楓銅のｔ
’ｖ子か血１〃・いため、侍られｌζ無屯肩Ｋ）つきの
ｔＲ性が潰才ｔ６゜ （２）硅床土咎のＪｊシ体ケ秋川し用いですｈので。
浴成牛での使用力）用油であり、均−混合が容易０
（３） Ｓｎ、ＣＡｌ４の不Ｍ！物を含まないため、侍
しむ、？ｃ焦喝屏めっさの付性か反い０ ５− Ａ′２ｎ−
しむ、？ｃ焦喝屏めっさの付性か反い０ ５− Ａ′２ｎ−
Claims (1)
- １．２価のパラジウム化合物又は、１価、２１曲の銅化
合物ｒグルコースと反末ｔ）ざぜて伶らｆｔ、、力ｎ熱
Ｖ（よジ金楓パラジウムｒ生成す々緒化合物忙冴む無電
解鋼めっき用触媒０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14463683A JPS6036670A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 無電解銅めつき用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14463683A JPS6036670A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 無電解銅めつき用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6036670A true JPS6036670A (ja) | 1985-02-25 |
Family
ID=15366663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14463683A Pending JPS6036670A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 無電解銅めつき用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6036670A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110607450A (zh) * | 2019-10-29 | 2019-12-24 | 上海第二工业大学 | 一种选择性浸出沉淀回收印刷线路板中钯的方法 |
-
1983
- 1983-08-08 JP JP14463683A patent/JPS6036670A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110607450A (zh) * | 2019-10-29 | 2019-12-24 | 上海第二工业大学 | 一种选择性浸出沉淀回收印刷线路板中钯的方法 |
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