JPS6036700A - アルミニウムキャパシタ箔の電解腐食方法 - Google Patents

アルミニウムキャパシタ箔の電解腐食方法

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JPS6036700A
JPS6036700A JP59137401A JP13740184A JPS6036700A JP S6036700 A JPS6036700 A JP S6036700A JP 59137401 A JP59137401 A JP 59137401A JP 13740184 A JP13740184 A JP 13740184A JP S6036700 A JPS6036700 A JP S6036700A
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    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特にアルミニウム電極として使用されるアル
ミニウム箔、即ち電解キャパシタ用箔の電解腐食方法に
関するものである。更に特に、本発明は交流(AC)お
よび直流(DC)両電解腐食法を用いるアルミニウム箔
の電解腐食方法に関するものである。更に本発明は、本
発明の方法により製造されたアルミニウム箔に関するも
のである。
特に電解キャパシタに使用されるアルミニウムを腐食す
ることは、電解キャパシタのキャパシタンスがこのキャ
パシタに使用されるアルミニウム箔、即ち電極の有効表
面積と仕例関係にあるので、該箔の有効表面積を増大せ
んとするためである。
腐食処理中において、ある量のアルミニウムが箔から除
去される。アルミニウムのこの減量のために、しばしば
箔の機械的強度が低下する。この機械的強度の低下した
箔の電解特性はキャパシタへの使用については満足なも
のであるが、特に箔に実際の工業上使用されるキャパシ
タロールの高速巻回に必要な一ト分な強度が要求される
場合には、かかる機械的強度の低下した箔は電解キャパ
シタの工業生産には不満足なものであることが見出され
た。
ドイツ連邦共和国特許第1122177 号明細書には
、2工程腐食法が開示されており、この方法は第1工程
で荒い構造を得、第2工程で微細構造の深く腐食された
状態を得んとするものである。上記第1工程は明確に定
められていないが、第1工程に対し酸濃度、周囲温度を
如何に選定するか、また電流密度を如何に選定するかと
いったような弱い条件を選定する必要がある。第2工程
は陽極工程(anodic)で、即ち直流および極めて
高い電流密度(これらの値は提示されてない)を用いて
陽極工程よする必要がなる。
特開昭53−19151号公報には、先ずアルミニウム
箔を塩酸水溶液中において糺で電解腐食し、しかる後に
該箔を洗浄して箔から塩酸を除去し、次いで該箔を30
0 ℃〜500 C,で加熱する工程と、次いで更に咳
箔を塩酸水溶液中において、IA/cm2 または1.
2^/cm2 の電流密度のDCを用い電解腐食する工
程との組合せが開示されている。
電解キャパシタに使用されるアルミニラl、箔を電解腐
食するこれら既知方法では得られる箔が十分に満足なも
のでなく、形成後において所望のキャパシタンスと、実
際の工業上使用されている高速巻回に耐え(lる1−業
用キャパシタロールに使用するのに適した機械的強度と
を同時に示さず、あるいはキャパシタンスと機械的強度
との所望の組合せが得られたとしても、これは高価で且
つ時間のかかる、例えば上記特開昭53−19 ]、 
51号公報に開示されている如き工程の組合せを用いな
ければ達成されない。
本発明の主な目的は、特に電解キャパシタに使用される
アルミニウム箔の優れた電解腐食法を提供することにあ
る。
本発明の他の主な目的は、形成後、得られた箔が電解キ
ャパシタへの使用に対し満足なキャパシタンスを示し、
且つ実際の工業に使用される高速巻回キャパシタロール
へのかかる箔の使用を可能にするに十分な機械的強度を
維持し、また一方従来技術に用いられてきた方法、例え
ば特開昭53−19151号公報において用いられてい
る方法よりも安価で且つ消費時間が少ないアルミニウム
箔の電解腐食方法を提供することにある。
本発明の新規な方法においては、酸による第1予備腐食
工程と高電流密度の直流で処理する第2陽極工程とから
成るアルミニウムキャパシタ箔の電解腐食方法を以下に
示す操作で行うことを特徴とする。即ぢ、先ずアルミニ
ウム箔を1〜6重量%の塩酸と0〜2重量%のリン酸と
O〜2重微%の硝酸とを含む酸水溶液に浸漬し、この浸
漬中上記第1電解液浴を30〜60℃の温度に維持し、
上記箔を少なくとも約0.05 mg/cm2 のアル
ミニウムが該箔から除去されるまで0,1〜2.OA/
cm”の電流密度および15〜10011zの周波数の
糺で予備腐食し、次いでこの箔から塩酸を除去すること
なしに該箔を約18〜26重量%の塩化ナトルウムと約
0.3〜2重量%の硫酸す) IJウムかまたは約1〜
4重量%のホウ酸のいずれか一方とを含む第2水溶液に
浸漬し、この浸漬中上記第2電解液浴を80℃〜100
 tに紹゛持し乍ら、AC予備腐食工程で除去されたア
ルミニウムと合わせて総量で少なくとも約7 mg/c
m’のアルミニウム減少が達成されるまで上記箔に約2
〜5 ^/cm2 の電流密度のDC処理を施すことに
よりアルミニウム箔を腐食する。
このように、最初に塩酸溶液中でアルミニウム箔をAC
予備腐食し、次いで箔から塩酸を除去することなく該箔
を塩化ナトリウムと硫酸ナトリウムとを含む水溶液に浸
漬し、Hつ高密度[]Cを用いることによって該箔を腐
食することにより、かかる箔が工業的巻回速度下に置か
れるキャパシタロールに使用するに十分満足な箔強度を
維持すると同時に高度の腐食が得られることを見出した
。この箔を、アルカリ清浄溶液またはトリクロロエタン
の如き脱脂剤を使用することにより糺予備腐食前に清浄
にするのが好ましい。
また、予備不可工程において用いる糺電流密度は0.1
〜2A/cm2 であるのが好ましい。更に、予備腐食
工程に使用する酸溶液にリン酸を含める場合には、かか
る溶液にリン酸を0.5〜2重量%含めるのが好ましい
DC腐食は、少量で7〜14 mg/cm2 のアルミ
ニウムが箔から除去されるまで行うのが好ましい。
次に本発明を例に基づき説明する。
例−1− +(−1!l硬度、1196純度および100 ミクロ
ンの摩さを有する、1.5%のアルカリ溶液で脱脂した
後のアルミニウム箔試利を、50℃に加熱した塩酸1.
5重量%の水溶液に浸漬し、この溶液に浸漬中、電流密
度1.2A/cm2 の30HzACで腐食した。この
予備腐食操作を3秒間行ったところ、約0.34 mg
/cm2の箔の平均重量減少を得た。
次いで、予備腐食したアルミニウム試料を塩酸溶液から
取り出し、しかる後に箔から塩酸を除去することなしに
22重量%のNaC1と2.0 重量%のNazS[l
+とを含む95℃に維持された水溶液に浸漬した。この
溶液に浸漬中、かかる試料を2.5へ/cm2の電流密
度の旧:で腐食した。このDCによる腐食を97クーロ
ンが消費されるまで続けた。この結果、9、2mg/ 
cm2 のアルミニウムが箔から除去され、これにより
総量で9.54 mg/cm2 のアルミニウムが箔か
ら除去された。
第1表に、本例に従い腐食した2種の試料と、既知の代
表的方法に従い腐食したアルミニウム試料とについての
種々の結果を示す。尚この既知方法においては、アルミ
ニウム箔を予備腐食することなく電流密度1.3A/c
m2 のDCで腐食した。この表は、AC予備腐食とI
Ic腐食工程との組合せにより得られたアルミニウムの
全重量減少く重量減少量g/cm’)と、試料が破壊さ
れるまで行う90°曲げの回数と(曲げ強度(Mech
anical Fiends)) と、形成後ノキャパ
シタンス(キャパシタンスμf/cm2)とを示す。
尚、キャパシタンスはアンモニア酒石酸溶液中において
下記電圧で、形成した試料に対して測定した。
(l!D。
租− 井一 田 例 2 アルミニウム箔の追加試料を、I]C腐食工程で112
クローン/C1112を用いた以外は例1と同様にして
腐食した。本例に従い腐食した試料について得られた結
果を第2表に示す。
1 弓− 井一 田 采 算 罵 C″− 2 硫酸塩を用いる標準的な従来技術の腐食法に従い腐食し
たアルミニウム箔は、この型中減少値では機械的強度を
示さなかった。
例 3 H,19硬度、]、 ] 99純度および100μの厚
さを有するアルミニウム箔試料を1%のリン酸中で脱脂
し、次いでこの試料を60℃まで加熱した6重量%塩酸
含有水溶液に浸漬した。この溶液に浸漬中、試料を電流
密度]、2 八/ cm2 の30 It z A C
で予備腐食した。この予備腐食操作を17秒間行なった
ところ、約2 mg/cm2 の平均重M減少を得た。
次いで、予備腐食した試料を予備腐食用溶液から取り出
し、しかる後にこの試料を酸を除去することなしに20
重量%のNaClと3%のホウ酸とを含む水溶液に浸漬
し93℃に維持した。この溶液に浸漬中、試料を2.8
へ/cm2 の電流密度のIICで腐食した。このDC
による腐食を84クローンが消費されるまで継続した。
次いで試料を525 ℃で20分間アニールし、アジピ
ン酸アンモニウ11溶液で形成した。
3 咥− 峠一 田 4

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 酸による第1予備腐食工程と、高電流密度の直流
    で処理する第2陽極工程とから成るアルミニウムキャパ
    シタ箔の電解腐食方法において、上記第を1〜6重量%
    のHCI と0〜2重量%のH3P0. と0〜2重量
    %のIt N O3とを含む第1水性電解液浴に浸漬し
    、この間少なくとも約0.05 mB/c+n2 の上
    記第の重量減少が達成されるまで上記第1電解液浴を3
    0〜60℃の温度に維持し乍ら上記第に0.1〜2.O
    A/cm2の電流密度および15〜10011zの周波
    数のAC処理を施すことにより上記第を腐食し、次いで
    上記第から11C1を除去することなしに上記第を18
    〜26重量%のNaC1と0.3〜2重量%のNa25
    O,かまたは1〜4重量%のホウ酸のいずれか一方とを
    含む第2電解質水溶液中に浸漬し、この間少なくとも約
    7 +ng/ctn2 の上記第の総重量減少が達成さ
    れるまで上記第2電解質溶液を80〜1(Hl tの温
    度に維持し乍ら」−記箔に2〜5^/cm’の電流密度
    のDC処理を施すことにより上記第を腐食することを特
    徴とすルアルミニウムキャパシタ箔の電解腐食方法。 2、 AI’:予備腐食工程に用いる浴が0.5〜2重
    量%のH3P0.を含む特許請求の範囲第1項記載の電
    解腐食方法。 3、 予備腐食工程を約0.05〜2.0mg/ cm
    2 の箔の重量減少が達成されるまで継続し、腐食工程
    を約7〜14mg/cm2 の上記第の総減少が達成さ
    れるまで継続する特許請求の範囲第2項記載の電解腐食
    方法。
JP59137401A 1983-07-05 1984-07-04 アルミニウムキャパシタ箔の電解腐食方法 Granted JPS6036700A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/510,530 US4437955A (en) 1983-07-05 1983-07-05 Combined AC and DC etching of aluminum foil
US510530 1995-08-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6036700A true JPS6036700A (ja) 1985-02-25
JPS6229519B2 JPS6229519B2 (ja) 1987-06-26

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ID=24031137

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JP59137401A Granted JPS6036700A (ja) 1983-07-05 1984-07-04 アルミニウムキャパシタ箔の電解腐食方法

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EP (1) EP0133714B1 (ja)
JP (1) JPS6036700A (ja)
KR (1) KR850001314A (ja)
BR (1) BR8403273A (ja)
CA (1) CA1239900A (ja)
DE (1) DE3468444D1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1233432A3 (en) * 2001-02-14 2006-01-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electrode foil for aluminum electrolytic capacitor and method of manufacturing the same

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3222967A1 (de) * 1982-06-19 1983-12-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur abtragenden modifizierung von elektrochemisch aufgerauhten traegermaterialien aus aluminium nd deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplatten
ATE87672T1 (de) * 1985-04-12 1993-04-15 Luigi Salvadori Verfahren zur herstellung einer aluminiumfolie fuer elektrolytkondensatoren und elektrolytkondensator aus so hergestellten aluminiumfolien.
DE4001466A1 (de) * 1990-01-19 1991-07-25 Hoechst Ag Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger
US5143591A (en) * 1991-06-11 1992-09-01 U.S. Philips Corporation Method of producing ultra stable aluminum oxide for high volt electrolytic capacitors and product thereof
DE4129909A1 (de) * 1991-09-09 1993-03-11 Hoechst Ag Verfahren zum aufrauhen von aluminium bzw. von aluminiumlegierungen als traegermaterial fuer druckplatten und eine druckplatte
DE4232636C2 (de) * 1992-09-29 1996-04-11 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen von Elektrodenfolien für, insbesondere Hochvolt-, Elektrolytkondensatoren
US5405493A (en) * 1994-01-26 1995-04-11 Kdk Corporation Method of etching aluminum foil
US6224738B1 (en) 1999-11-09 2001-05-01 Pacesetter, Inc. Method for a patterned etch with electrolytically grown mask
CN103774205A (zh) * 2014-01-06 2014-05-07 广西贺州市桂东电子科技有限责任公司 中高压阳极铝箔二次纯化学侵蚀扩孔方法
CN109609997B (zh) * 2018-12-06 2020-10-09 东莞东阳光科研发有限公司 铝箔腐蚀方法及铝箔

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52141444A (en) * 1976-05-21 1977-11-25 Hitachi Denkaihaku Kenkyusho Method of etching aluminum

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB966627A (en) 1962-04-09 1964-08-12 British Dielectric Res Ltd Improvements in or relating to the electrolytic etching of anodisable metal foil
US3779877A (en) 1972-02-22 1973-12-18 Sprague Electric Co Electrolytic etching of aluminum foil
US3935080A (en) 1974-10-02 1976-01-27 Polychrome Corporation Method of producing an aluminum base sheet for a printing plate
US4297184A (en) 1980-02-19 1981-10-27 United Chemi-Con, Inc. Method of etching aluminum
US4374710A (en) 1982-03-18 1983-02-22 American Hoechst Corporation Electrolytic graining of aluminum with nitric and oxalic acids

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52141444A (en) * 1976-05-21 1977-11-25 Hitachi Denkaihaku Kenkyusho Method of etching aluminum

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1233432A3 (en) * 2001-02-14 2006-01-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electrode foil for aluminum electrolytic capacitor and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR850001314A (ko) 1985-03-18
US4437955A (en) 1984-03-20
BR8403273A (pt) 1985-06-11
CA1239900A (en) 1988-08-02
EP0133714A1 (en) 1985-03-06
DE3468444D1 (en) 1988-02-11
EP0133714B1 (en) 1988-01-07
JPS6229519B2 (ja) 1987-06-26

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