JPS6038324B2 - SF↓5Clの製造方法 - Google Patents

SF↓5Clの製造方法

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JPS6038324B2
JPS6038324B2 JP10980980A JP10980980A JPS6038324B2 JP S6038324 B2 JPS6038324 B2 JP S6038324B2 JP 10980980 A JP10980980 A JP 10980980A JP 10980980 A JP10980980 A JP 10980980A JP S6038324 B2 JPS6038324 B2 JP S6038324B2
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JP
Japan
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sulfur
hydrofluoric acid
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amine compound
chlorine
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JP10980980A
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吉男 小田
真介 森川
政昭 池村
富雄 鑓田
誠 能代
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Priority to GB8122792A priority patent/GB2081694B/en
Priority to US06/286,887 priority patent/US4390511A/en
Priority to IT23389/81A priority patent/IT1138140B/it
Priority to FR8115464A priority patent/FR2488586A1/fr
Priority to DE19813131744 priority patent/DE3131744A1/de
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はSF5CIの製造方法、特に比較的簡単な手段
により、煩雑な分離精製手段を行なうことなく高純度且
高収率でSF5CIを製造する方法に係るものである。
SF5CIは、これを熱分解することにより、高電圧の
絶縁材料として有用なSF5が得られることが知られて
いる。従来SF5CIの製造方法としては、例えばNO
F・幻花に二塩化硫黄を反応せしめ、一旦SF4を製造
せしめ、同時に生成する副生物を除去し、精製せしめた
SF4とNOFと塩素ガスを反応せしめることにより、
SF5CIを創生物と共に得、これから精製してSF5
CIを得る方法が提案されている。
(特関昭52一7398号公報参照)しかしながら、こ
の方法に従うと、一旦SF4を製造し、これを精製した
後更にNOFと反応せしめ、これで得られたSF5CI
中には副生物が混入しているのでこれを精製除去すると
云う煩雑な工程を探るのみならず、NOFは甚だ腐食性
が強く、特に微かな水分の存在によって、極めて高い腐
食性を示し、反応装置等をかなり高価な耐食材料が要求
される等工業的に満足し得る方法とは言い難い欠点があ
った。
本発明者は、これら欠点を除去し、簡単な反応で高純度
のSF5CIを得る手段を見出すことを目的として種々
研究、検討した結果、弗酸のピリジン化合物を用い、こ
れと二塩化硫黄及び過剰の塩素を反応せしめることによ
り、容易にSF5CIを選択的に収率よくガス状として
得られ、前記目的を達成し得ることが見出された。
更に、本発明者の検討によると、ピリジン以外にトリメ
チルアミソ、トリェチルアミン等の第3級アミン、キノ
リン、ピコリン等のピリジン誘導体等のアミンも同様に
用い得ることが見出された。
本発明において用いられるこれらのアミンを含有する弗
酸のアミン化合物は、一般式A(HF)nで表わされる
nの値は通常1〜6であり、このうち2〜4を採用する
場合には、工業的に十分な反応速度が得られるので特に
好ましい。又、上記アミンは、夫々単独若しくは適宜二
種類以上が適宜な割合で混合されていて差し支えない。
本発明に用いられる弗酸のアミン化合物の合成法に特に
制限はなく、適宜公知手段が採用される。
即ち、例えばアミンをポリエチレン等の耐弗酸性の容器
に入れ、外部から冷却しつつ、弗化水素(無水弗酸)を
導入して合成する等の方法が採用される。この様な弗酸
のアミン化合物に対し、塩化硫黄と過剰の塩素が反応せ
しめられる。
反応の実施に際しては、反応器に弗酸のアミン化合物を
予め導入せしめておき、これに塩化硫黄と過剰の塩素と
を所定量づっ導入せしめていくのが適当である。反応に
供せられる塩化硫黄の合成法に特に制限はなく、例えば
一塩化硫黄と塩素を反応させる方法や、不活性な溶媒に
硫黄を懸濁させ、沃度等の触媒を添加し、塩素と反応せ
しめる等適宜公知の方法を採用し得る。本発明方法の実
施に際し、用いられる弗酸のアミン化合物の使用量は、
一般に用いられる弗酸のアミン化合物、即ちA(HF)
nのnの値によって厳密には決定されるが、通常塩化硫
黄中の硫黄1モルに対し、仕込みモル比A/S(S:硫
黄)が1〜1既塁度、好ましくは4〜8程度を採用する
のが適当である。
使用量が前記範囲に満たない場合には、塩化硫黄の反応
率が低く、逆に前記範囲を超える場合には最早やそれ以
上の反応率を期待し得ず、不必要に弗酸のアミン化合物
を用いることになり、又後処理工程でのアミンの取り扱
い量が増えるのみなので何れも好ましくない。又、用い
られる塩素は過剰量であり、その量は、用いられる塩化
硫黄の硫黄1モルに対し、2モルを超え10モル以下程
度に用いるのが適当である。
塩素の使用量が前記範囲に満たない場合には、得られる
SF5CIの収率が工業的に不十分となり、逆に前記範
囲を超える場合には、未反応塩素が反応生成物中に多量
に混入する蓮れがあるので何れも好ましくない。
かくしてこれら反応を実施するには、温度0〜60℃、
圧力1〜10k9/泳−G程度を採用するのが適当であ
る。
このうち、温度が60℃を超えると、原料の塩化硫黄類
やアミンが一部分解を起したり、目的とする反応以外の
反応が進行する塵れがあるので注意を要する。
又、反応は、溶媒の不存在下でも実施し得るが、溶媒を
用いた方が反応を円滑に実施し得るので好ましい。
用いられる溶媒としては、原料や生成物に対し、これ自
身が不活性であることが必要であり、一般にハロゲン化
炭化水素類が適当である。これらのうち、塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素、フロロトリクロロメタン
、トリクロロトリフルオロェタンが好ましく、これらは
単独若しくは適宜混合して用いられる。これら溶媒の使
用量は、前記反応原料の全量に対し、10〜200容量
%程度用いるのが適当である。
又、反応を実施する装置としては、例えば回分式や連続
式の完全混合型の反応器が適当であり、特に原料連続供
給式の完全混合型反応器が工業的な装置として好ましい
本発明方法を採用すると、アミン自体は反応には直接関
与せず、言わば反応媒体としての役割を果すことになり
、反応によって生成した塩酸のアミン化合物は、これに
HFを反応せしめることにより、容易に反応原料として
の弗酸のアミン化合物に再生することが可能であり、本
発明方法を採用すると、高価な弗素ガスを全く用いる必
要がない利点を有する。
次に本発明を実施例により説明する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式A(HF)n(n=1〜6)で表わされる弗
    酸のアミン化合物と二塩化硫黄及び/又は一塩化硫黄か
    らなる塩化硫黄及び該塩化硫黄中の硫黄1モルに対して
    2モルを超えて10モル以下の塩素とを反応せしめるこ
    とを特徴とするSF_5Clの製造方法。 但し、アミン(A)は、ピリジン、キノリン、ピコリ
    ン等のピリジン誘導体、トリメチルアミン、トリエチル
    アミン等の第3級アミンの単独若しくは混合物。 2 反応に供せられる弗酸のアミン化合物は、塩化硫黄
    中の硫黄1モルに対し、仕込みモル比A/S(S:硫黄
    )が1〜15である特許請求の範囲1の方法。
JP10980980A 1980-08-12 1980-08-12 SF↓5Clの製造方法 Expired JPS6038324B2 (ja)

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GB8122792A GB2081694B (en) 1980-08-12 1981-07-23 Sulphur hexafluoride
US06/286,887 US4390511A (en) 1980-08-12 1981-07-27 Process for producing SF6 through SF5 Cl
IT23389/81A IT1138140B (it) 1980-08-12 1981-08-06 Procedimento per produrre sf6 attraverso sf5cl
FR8115464A FR2488586A1 (fr) 1980-08-12 1981-08-10 Procede pour preparer sf6 par l'intermediaire de sf5cl
DE19813131744 DE3131744A1 (de) 1980-08-12 1981-08-11 Verfahren zur herstellung von schwefelhexafluorid

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