JPS6038394B2 - 2−アザエリスリナン誘導体 - Google Patents
2−アザエリスリナン誘導体Info
- Publication number
- JPS6038394B2 JPS6038394B2 JP1758680A JP1758680A JPS6038394B2 JP S6038394 B2 JPS6038394 B2 JP S6038394B2 JP 1758680 A JP1758680 A JP 1758680A JP 1758680 A JP1758680 A JP 1758680A JP S6038394 B2 JPS6038394 B2 JP S6038394B2
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- Japan
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- azaerythrinane
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- oxo
- acid
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次の一般式〔1〕で表わされる2ーアザェリス
リナン誘導体およびその酸付加塩に関する。
リナン誘導体およびその酸付加塩に関する。
ただし、R.,R2,R3は水素又は低級アルコキシを
表わし、R4は水素、低級アルキル、(mは1又は2を
表わ す。
表わし、R4は水素、低級アルキル、(mは1又は2を
表わ す。
)又は−C比CH;C比を表わし、R5は低級アルコキ
シカルポニル又はヒドロキシ低級アルキルを表わす。本
発明化合物は文献禾載の新規物質で中枢抑制作用、特に
鎮痛作用を有し医薬品として有用である。
シカルポニル又はヒドロキシ低級アルキルを表わす。本
発明化合物は文献禾載の新規物質で中枢抑制作用、特に
鎮痛作用を有し医薬品として有用である。
本発明は種々の方法によって得ることができる。一般式
〔 0〕(式中R6=ペンジル、R7=C02C2日5
,R8=アルキル)で示されるピベリドン誘導体と一般
式〔m〕(式中R,,R2,R3は前記と同じ。
〔 0〕(式中R6=ペンジル、R7=C02C2日5
,R8=アルキル)で示されるピベリドン誘導体と一般
式〔m〕(式中R,,R2,R3は前記と同じ。
)で示されるフェネチルアミン類とを不活性な有機溶媒
中で加熱縮合し、縮合物を単離するか又は単離すること
なく、酸性条件下で加熱して閉環せしめることにより得
ることができる。加熱縮合に使用する不活性な有機溶媒
としてはベンゼン,トルエン,キシレン,DMF,ジオ
キサン,セルソルプ,ジグラィム等の高沸点溶媒を使用
し、水分除去器を付して加熱還流するのが好ましい。次
に酸性条件下での閉環反応は、硫酸,臭化水素酸,塩酸
,リン酸等の滋酸類あるし・はギ酸,pートルェンンス
ルホン酸,トリクロル酢酸,トリフルオロ酢酸等の有機
酸類か又はポリリン酸(PPA),ポリホスェートェス
テル(PPE),五酸化リン,酸性イオン交換樹脂等を
単独又は水溶液か有機溶媒中で加熱することにより行わ
れる。反応温度は30〜250qoの温度範囲内で、好
ましくは80〜16ぴ○で行うのがよく、反応時間は3
0分から数時間を要して閉環反応が達成される。一般式
〔1〕のR4が一般式〔ロ〕のR6以外の置換基の場合
は、一般式〔1〕のR4=ペンジル体を脱ペンジル化し
てR4=H体とし、しかる後所望の置換基を導入すれば
よい。脱ペンジル化は一般的な方法、たとえば加水素分
解により還元的に容易に行える。一般式〔 1〕のR4
=H体への置換基の導入も一般的なアルキル化法、たと
えば脱酸剤の存在下に所望の置換基のハラィド類や反応
性ヱステル類を反応せしめるか、対応するァルデヒド類
を用い還元的にアルキル化する方法によって容易に行え
る。一般式〔1〕中R5がオキシメチル基を有する誘導
体は前記閉環反応で得られる一般的〔1〕の化合物、た
だし、R5=ェトキシカルボニル体のェトキシカルポニ
ル基を還元することによって得られる。ェトキシカルボ
ニル基のアルコールへの還元は通常、金属水素化物によ
って容易に還元できるが、この場合は分子内にラクタム
環が存在するため、ェステル(ェトキシカルボニル基)
のみを選択的に還元しなければならない。そのため還元
剤としては、たとえば水素化ホウ素ナトリウム(NaB
凡)や水素化ホウ素リチウム(LIB比)等が好ましい
。反応溶媒としてはアルコール系、エーテル,テトラヒ
ドロフラン(THF),ジオキサン等が好ましく、反応
時間は1時間から十数時間を要す。反応は室温でも十分
進行するが、加熱することにより容易に早く還元できる
。以上のようにして得た化合物〔1〕は塩酸あるいは生
理学的に許容し得る酸によって、その結晶性酸付加塩に
変えることができる。
中で加熱縮合し、縮合物を単離するか又は単離すること
なく、酸性条件下で加熱して閉環せしめることにより得
ることができる。加熱縮合に使用する不活性な有機溶媒
としてはベンゼン,トルエン,キシレン,DMF,ジオ
キサン,セルソルプ,ジグラィム等の高沸点溶媒を使用
し、水分除去器を付して加熱還流するのが好ましい。次
に酸性条件下での閉環反応は、硫酸,臭化水素酸,塩酸
,リン酸等の滋酸類あるし・はギ酸,pートルェンンス
ルホン酸,トリクロル酢酸,トリフルオロ酢酸等の有機
酸類か又はポリリン酸(PPA),ポリホスェートェス
テル(PPE),五酸化リン,酸性イオン交換樹脂等を
単独又は水溶液か有機溶媒中で加熱することにより行わ
れる。反応温度は30〜250qoの温度範囲内で、好
ましくは80〜16ぴ○で行うのがよく、反応時間は3
0分から数時間を要して閉環反応が達成される。一般式
〔1〕のR4が一般式〔ロ〕のR6以外の置換基の場合
は、一般式〔1〕のR4=ペンジル体を脱ペンジル化し
てR4=H体とし、しかる後所望の置換基を導入すれば
よい。脱ペンジル化は一般的な方法、たとえば加水素分
解により還元的に容易に行える。一般式〔 1〕のR4
=H体への置換基の導入も一般的なアルキル化法、たと
えば脱酸剤の存在下に所望の置換基のハラィド類や反応
性ヱステル類を反応せしめるか、対応するァルデヒド類
を用い還元的にアルキル化する方法によって容易に行え
る。一般式〔1〕中R5がオキシメチル基を有する誘導
体は前記閉環反応で得られる一般的〔1〕の化合物、た
だし、R5=ェトキシカルボニル体のェトキシカルポニ
ル基を還元することによって得られる。ェトキシカルボ
ニル基のアルコールへの還元は通常、金属水素化物によ
って容易に還元できるが、この場合は分子内にラクタム
環が存在するため、ェステル(ェトキシカルボニル基)
のみを選択的に還元しなければならない。そのため還元
剤としては、たとえば水素化ホウ素ナトリウム(NaB
凡)や水素化ホウ素リチウム(LIB比)等が好ましい
。反応溶媒としてはアルコール系、エーテル,テトラヒ
ドロフラン(THF),ジオキサン等が好ましく、反応
時間は1時間から十数時間を要す。反応は室温でも十分
進行するが、加熱することにより容易に早く還元できる
。以上のようにして得た化合物〔1〕は塩酸あるいは生
理学的に許容し得る酸によって、その結晶性酸付加塩に
変えることができる。
以下に本発明化合物の一部を例示する。
表 I
以下に本発明化合物の製造に関する実施例を掲げる。
実施例 1
エチル2ーベンジル−8ーオキソ−2−アザエリスリナ
ンー6ーカルボキシレート(化合物番号1)エチル1−
ペンジルー3ーエトキシカルボニルメチル一4ーピベリ
ドン−3−力ルボキシレート700雌と8ーフエネチル
アミン245のoをトルエン20の‘に溶解し、水分除
去器を付したフラスコ中で15時間加熱還流する。
ンー6ーカルボキシレート(化合物番号1)エチル1−
ペンジルー3ーエトキシカルボニルメチル一4ーピベリ
ドン−3−力ルボキシレート700雌と8ーフエネチル
アミン245のoをトルエン20の‘に溶解し、水分除
去器を付したフラスコ中で15時間加熱還流する。
反応液を濃縮し、残留物にポリリン酸(PPA)10夕
を加えて120℃の油裕上で7時間加熱澄拝する。袷後
反応液を氷水に注ぎ、炭酸カリウムで中和、遊離する塩
基を酢酸エチルで抽出,水洗,乾燥して溶媒を蟹去する
。残留物720のpをシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーに付し精製、650爪oの油状塩基を得た。この塩
基をメタンスルホンとの塩により結晶化、エタノールか
ら再結晶する。mp234℃IR〃椿巽肌‐1:240
0〜700,1730,1705,1455,1415
,1230,11熱311451035 773 75
2実施例 26ーエトキシカルボニル−8ーオキソー2
−アザェリスリナン(化合物番号4)(エチル8ーオキ
ソ−2ーアザエリスリナン−6ーカルボキシレート)エ
チル2−ペンジルー8−オキソー2−アザエリスリナン
ー6ーカルボキシレート3.5夕をエタノールに溶解し
、これに20%HCI一EtOHを加えて濃縮して塩酸
塩を得、80%合水エタノール50舵【に溶解、10%
パラジウム炭素1.0夕を触媒にして40oo、常圧に
て接触還元する。
を加えて120℃の油裕上で7時間加熱澄拝する。袷後
反応液を氷水に注ぎ、炭酸カリウムで中和、遊離する塩
基を酢酸エチルで抽出,水洗,乾燥して溶媒を蟹去する
。残留物720のpをシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーに付し精製、650爪oの油状塩基を得た。この塩
基をメタンスルホンとの塩により結晶化、エタノールか
ら再結晶する。mp234℃IR〃椿巽肌‐1:240
0〜700,1730,1705,1455,1415
,1230,11熱311451035 773 75
2実施例 26ーエトキシカルボニル−8ーオキソー2
−アザェリスリナン(化合物番号4)(エチル8ーオキ
ソ−2ーアザエリスリナン−6ーカルボキシレート)エ
チル2−ペンジルー8−オキソー2−アザエリスリナン
ー6ーカルボキシレート3.5夕をエタノールに溶解し
、これに20%HCI一EtOHを加えて濃縮して塩酸
塩を得、80%合水エタノール50舵【に溶解、10%
パラジウム炭素1.0夕を触媒にして40oo、常圧に
て接触還元する。
反応終了後触媒を炉去し、炉液を濃縮して残澄を結晶化
,炉取,エタノールで洗浄して風乾。塩酸塩得量=2.
609(93%)エタノールから再結晶。mp255q
0(dec)IRレ総王の‐1:3400,2950〜
2500,1720・1685 15090,1455
,1440,1425,1300,1272,1195
1050,750,760実施例 3 エチル2−メチル−8ーオキソー2−アザエリスリナン
ー6ーカルボキシレート(化合物番号5)エチル8−オ
キソー2ーアザ・エリスリナン−6−カルボキシレート
塩酸2.0夕を塩基にもどし、これにパラホルムアルデ
ヒド40咳oとギ酸5の‘を加えて2時間加熱錠蓋流す
る。
,炉取,エタノールで洗浄して風乾。塩酸塩得量=2.
609(93%)エタノールから再結晶。mp255q
0(dec)IRレ総王の‐1:3400,2950〜
2500,1720・1685 15090,1455
,1440,1425,1300,1272,1195
1050,750,760実施例 3 エチル2−メチル−8ーオキソー2−アザエリスリナン
ー6ーカルボキシレート(化合物番号5)エチル8−オ
キソー2ーアザ・エリスリナン−6−カルボキシレート
塩酸2.0夕を塩基にもどし、これにパラホルムアルデ
ヒド40咳oとギ酸5の‘を加えて2時間加熱錠蓋流す
る。
反応許度を濃縮し、残留物にエタノール性塩酸を加えて
加熱溶解して濃縮する。残留物を結晶化して炉取、エー
テル洗浄して風乾。粗塩酸塩得量=2.10夕、エタノ
ールから再結晶して1.85夕を得る。mp254〜6
℃(dec.)塩基結晶化mp122〜3℃(酢酸エチ
ルから再結晶)IRレ益鼓仇‐1:(塩酸塩)2900
〜3000,2400〜2600,1720,1690
,1460,1422,1300,1203,1010
,775実施例 4 ′エチル2−アリルー8−オキソー2ーアザエリスリナ
ンー6ーカルポキシレート(化合物番号6)エチル8ー
オキソー2ーアザエリスリナンー6ーカルボキシレート
塩酸塩2.0夕を塩基にもどしアセトン3助けこ溶解、
炭酸カリウム1.6夕を加え室温燈梓下にアリルブロミ
ド0.斑夕を滴加、16時間燈梓する。
加熱溶解して濃縮する。残留物を結晶化して炉取、エー
テル洗浄して風乾。粗塩酸塩得量=2.10夕、エタノ
ールから再結晶して1.85夕を得る。mp254〜6
℃(dec.)塩基結晶化mp122〜3℃(酢酸エチ
ルから再結晶)IRレ益鼓仇‐1:(塩酸塩)2900
〜3000,2400〜2600,1720,1690
,1460,1422,1300,1203,1010
,775実施例 4 ′エチル2−アリルー8−オキソー2ーアザエリスリナ
ンー6ーカルポキシレート(化合物番号6)エチル8ー
オキソー2ーアザエリスリナンー6ーカルボキシレート
塩酸塩2.0夕を塩基にもどしアセトン3助けこ溶解、
炭酸カリウム1.6夕を加え室温燈梓下にアリルブロミ
ド0.斑夕を滴加、16時間燈梓する。
反応液を濃縮し、残澄にクロロホルムを加えて溶解,水
洗して乾燥,クロロホルムを留去し残留物をェタ/ール
性塩酸で処理して塩酸塩として結晶化,炉取,風乾。得
量=2.0夕(90%)エタノールから再結晶。mp2
3ぴ0(dec.)IRレ総支弧‐1:2900〜30
00,2300〜2600,1725,1677,14
90,1460,1420,1350,1300,12
65 1245 1190,1153 1005 76
5実施例 5エチル8−オキソー2−フエネチルー2−
アザェリスリナンー6ーカルボキシレート(化合物番号
7)エチル8−オキソ−2−アザエリスリナン−6−カ
ルボキシレート塩酸塩2.0夕を塩基にもどしてアセト
ン30の【に溶解、これに炭酸カリウム1.6夕とョウ
ドカリウム0.50夕を加え室温縄梓下にフェネチルプ
ロミド1.6夕を添加、後40〜50qoで6時間加熱
蝿拝する。
洗して乾燥,クロロホルムを留去し残留物をェタ/ール
性塩酸で処理して塩酸塩として結晶化,炉取,風乾。得
量=2.0夕(90%)エタノールから再結晶。mp2
3ぴ0(dec.)IRレ総支弧‐1:2900〜30
00,2300〜2600,1725,1677,14
90,1460,1420,1350,1300,12
65 1245 1190,1153 1005 76
5実施例 5エチル8−オキソー2−フエネチルー2−
アザェリスリナンー6ーカルボキシレート(化合物番号
7)エチル8−オキソ−2−アザエリスリナン−6−カ
ルボキシレート塩酸塩2.0夕を塩基にもどしてアセト
ン30の【に溶解、これに炭酸カリウム1.6夕とョウ
ドカリウム0.50夕を加え室温縄梓下にフェネチルプ
ロミド1.6夕を添加、後40〜50qoで6時間加熱
蝿拝する。
反応液を濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解して水洗、
次に10%塩酸に加えて酸抽出し、酸性液を中和して遊
離物を酢酸エチルで抽出,水洗,乾燥して溶媒を蟹去す
る。残留物をエーテルから結晶化,炉取する。得量=2
.15夕(90%),エーテルから再結晶、mpl15
〜6℃ 塩酸塩(50%舎水アルコールから再結晶)
mp270〜2℃(dec.)IRレ総支仇‐1:29
00〜3000,2300〜2600,1730,1筋
7,1600,1492,1453,1410,130
8,1275 1195,1055 772,753
705実施例 62ーベンジル−6−ハイドロキシメチ
ルー8ーオキソー2ーアザェリスリナン(化合物番号9
)乾燥したテトラヒドロフラン10の‘に水素化ホウ素
リチウム44のoをサスベンドし、室温鷹梓下にエチル
2ーベンジルー8ーオキソー2−アザヱリスリナンー6
ーカルボキシレート404のoを添加し、室温で1斑時
間縄拝する。
次に10%塩酸に加えて酸抽出し、酸性液を中和して遊
離物を酢酸エチルで抽出,水洗,乾燥して溶媒を蟹去す
る。残留物をエーテルから結晶化,炉取する。得量=2
.15夕(90%),エーテルから再結晶、mpl15
〜6℃ 塩酸塩(50%舎水アルコールから再結晶)
mp270〜2℃(dec.)IRレ総支仇‐1:29
00〜3000,2300〜2600,1730,1筋
7,1600,1492,1453,1410,130
8,1275 1195,1055 772,753
705実施例 62ーベンジル−6−ハイドロキシメチ
ルー8ーオキソー2ーアザェリスリナン(化合物番号9
)乾燥したテトラヒドロフラン10の‘に水素化ホウ素
リチウム44のoをサスベンドし、室温鷹梓下にエチル
2ーベンジルー8ーオキソー2−アザヱリスリナンー6
ーカルボキシレート404のoを添加し、室温で1斑時
間縄拝する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の一般式〔I〕で表わされる2−アザエリスリナ
ン誘導体およびそのの酸付加塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ただし、R_1,R_2,R_3は水素又は低級アルコ
キシを表わし、R_4は水素、低級アルキル、▲数式、
化学式、表等があります▼(mは1又は2を表わ す。 )又は−CH_2CH=CH_2を表わし、R_5は低
級アルコキシカルボニル又はヒドロキシ低級アルキルを
表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1758680A JPS6038394B2 (ja) | 1980-02-14 | 1980-02-14 | 2−アザエリスリナン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1758680A JPS6038394B2 (ja) | 1980-02-14 | 1980-02-14 | 2−アザエリスリナン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56113785A JPS56113785A (en) | 1981-09-07 |
| JPS6038394B2 true JPS6038394B2 (ja) | 1985-08-31 |
Family
ID=11948002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1758680A Expired JPS6038394B2 (ja) | 1980-02-14 | 1980-02-14 | 2−アザエリスリナン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6038394B2 (ja) |
-
1980
- 1980-02-14 JP JP1758680A patent/JPS6038394B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56113785A (en) | 1981-09-07 |
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