JPS6038731A - 磁気記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 久　磁気ドラム、磁気テープ等の磁気記録体にかかる。

近年、高密度磁気記録体として、記録媒体（磁性層）に
磁性金属薄膜を用いた（Ｖｉ＆気ディスク等が用いられ
始めた。記録媒体にａｌ性金属薄膜を用いる利点は、飽
和磁束密度が大きいので媒体の薄膜化が可能であり、ま
た高保磁力が得られるだめ高密度記録に適することであ
る。磁性金属薄膜の他の利点は、無電解メッキ、電気メ
ッキ、スパッタ蒸着等の方法で薄膜作製が容易なことで
ある。

ところで、磁気記録装置における高記録密度化への要Ｍ
は、年々高まりつつあり、これを実現するために磁気記
録体の媒体特性の改善、媒体の薄膜化および磁気ヘッド
の特性改善とともに、へｙドー媒体分離長の減少が不可
欠となっている。

磁気テープ、フロッピディスク等の磁気記録体は記録密
度を最大限に高めるだめに磁気ヘッドと接帥状態もしく
はそれに近い状態で使用される。

また、磁気ヘッドを磁気記録体から微小間隔浮上させて
使用する磁気ディスクの場合には、磁気記録装置の高性
能化に伴ないこの浮上間隔を小さくするために磁気ヘッ
ドの荷重を小さくすると同時に接融始動・停止（コンタ
クト・スタート・ストップ，ＣＳＳ）型のヘッド浮揚シ
ステムが採用されている。このため磁気ヘッドによる磁
気記録体の損傷がしばしば生じる。これを防ぐ有効な方
法として磁性金属薄膜の表面に保護層を設ける方法があ
り、耐久性の改善がはかられてきた。保護層としては耐
摩耗性を有するとともに、−磁性、平？ｊｔ性と強固な
密着力をもち、可能な限り薄膜化が図られねばならない
。これらの目的のために従来、抽々の険討が、なされた
が、いづれも不十分であった。

従来、提゛案された方法としてＲｈ、Ｃｒ等の高硬度の
金１・４を電気メツキ法によって媒体表面に被覆する方
法があるが、電解液浸漬時に受ける媒体の侵食、寸たけ
それを避けるだめに設ける中間層による保護層の実質的
な膜厚増大という欠点がある。

別の方法としてＣｒ、Ｗ等の金属、Ｓ　ｉ　０２．　ｋ
ｌｔ　Ｄ＊等の酸化物を蒸着、スパッタなどの手段で媒
体表面に被覆する方法があるが密着力が不十分であり真
空系内で作製するため化Ｐａ性に問題があった。

耐摩耗性と密着力に優れた保般層として、ｃｏまたはＣ
ｏ−ＮｉのＢ１性金飼バｊ膜の表面′！ｉｌ−酸化して
Ｃｏ。

−〇４の酸化膜を形成する方法が提案された。

例えば、特公昭４２２００２５号では、描度および湿度
を制御した酸化雰囲気中で金属薄膜の表面にに存在する
ＣＯを酸化し、保護酸化皮膜を形成する方法が提案され
た。より強固な酸化皮膜を得るだめに陽極酸化による方
法、酸処理による方法さらに空気中で焼成する方法等が
提案された。しかし、上記の方法では広い処理面積にわ
たって均一なＣＯＯ化皮膜を得ることは困卸であり、保
護酸化皮膜の厚さのバラツキと歿存磁性層の厚さのバラ
ツキによつ°Ｃ１再生出力のＪＱ−件が損われ、時には
ビットエラーの多発を生じるといつ間１．Ｑがあった。

このためとれを改善する方法として、ＵＳ１？４．１２
４，７３６に示される様に記憶媒体の毒性層と保護酸化
皮膜を得るだめの金属層の間に酸化処理の障壁となる中
間層を形成する方法が提案された。

との様な中間層を設けることによって、崎化処浬による
反応が磁性層にまで達することが妨げらノ１かつ、均一
な膜厚の保護醸化皮膜がイ尋られやすいという利点があ
るが、同時に以下の様な間″、看点を含んでいた。

先ず、第一に記憶媒体と保護酸化皮膜の間に酸化処理の
障壁となる中間層を形成することは、保獲膜厚の実質的
な増大となり、記録密度の低下を招く。第二に記録媒体
、中間層、保護層と薄膜の積層数が増加する程、工程が
俣雑化し生産性が損われる。また、中間層にＮｉ住金を
用い酸化処理に高編銑成を伴なう場合、中間層が帯磁し
再生出力の著しい低下を招くおそれがある。

本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を改善して、
実用的な耐久性を備えた高密度記録用の磁気記Ｈ体を提
供することにある。

本発明の他の目的は、保護酸化皮膜を有する磁気記録体
のＰｊ生比出力一様性を保持するとともに製作工程の簡
素化をはかることにより、高品質かつ安価な磁気記録体
を提供することにある。

本発明によれば、基体上に磁性層および保護層が、この
順に設けられた磁気記録体において、前特徴とする（ｉ
気記録体が提供嘔する。

本発明の磁気記録体の基体には、ディスク状、ドラム状
、テープ状等従来公知の櫃々の形状が適用される。基体
の材質とＱては、アルミニウム合金、黄銅等の金属、マ
イラー、ポリイミド等の樹脂あるいは、それらの上にＮ
１−Ｐメッキ膜、Ｃｕ。

Ｃｒ等の蒸着膜、スパッタｊ漠などが記ｔ（Ｊ媒体のト
地として被覆さ〕ｔたものが用いら、１する。

本発明の磁気記録体の磁性層としては、ＣＯ全全万有た
磁性金属薄膜が望ましい。他の二伏的ＩＮ、分としてＮ
ｉ、　Ｆｅ等の金属、Ｐ、１１等の非金属が含仔されて
いてもよいが、磁性層がａｏｏ　Ｏｅ以上の保磁力を有
するためには、−）：りにｔ、久性金属簿ｊ］ス中に５
０％以上のＣｏが含有さＪｔ−Ｃいる夕要がある。磁性
１市の厚みは、均一性を確深するために０．０１μｎ１
以上とする必要があり、面内記シ方式でｔｏ、０００Ｂ
ｆ’ｌ　（１インチ当りのビット環）以上の記録密度を
得る７・こめには、１．０μｍ程度以下Ｌ′こする必要
がある。

しかし、垂直記録方式公使用する場合にｒよ、１．０μ
ｍ以上の膜厚の磁性層な用いること・もてきる。

本発明による磁り層は無電解メッキ法によって形成され
ることが；生産性と膜厚の一様性の点で墜ましいが、電
気メツキ法、蒸着法、スパッタ法等を用いてもよい。

本発明の保愚層の酸化物を形成するだめの金属薄膜とし
ては、記録媒体の磁性層よりも耐酸化性の弱い金属薄膜
でｚ５ることが要求され、Ｃｏを含イＪ″し一様な組成
と膜厚を有する連続した金属薄膜であることが要求され
る。十分な耐久性の保詣層を得るためには、この金属薄
膜の膜厚は０．０１μｍ１以上である必要があり、この
金属薄膜は５０％以上のＣＯを含有していることが皇ま
しＩ／′２ｏこの金山薄膜は５０％以上のＣＯヲ含有し
ていることが望ましい。この金属ｉ；ｌ膜の耐酸化性が
磁性層のそノＬよりも大でＪ’＋れぼ、Ｃｏ以外にどの
柱な二次的元素が含有さ！していて・もよいが、金属薄
ｊ換と磁性層の９“１寸酸化性の差が大きい程艮好な品
質の磁気記録体が得られやすい。金属薄膜は一様な組成
と膜厚ｒ有する連続しプこ薄膜が容易に得られる無−解
メツキ法によって形成することか％ｉしいが、電気メツ
キ法、恭着法、スパッタ法等を用いてもよい。

保、ｉ！！！層は金属薄ｊ漢を恒’１ｌｉＡ・恒湿場境
中放置、陽極酸化による方法、酸処理による方法、δら
に空気中で焼成する方法等によって形成さｈる。

次に実施例によって本発明による妨気記φ９休の特徴を
説明する。下記の実ｊｉＩｌｉ例！’、ｆ’、　／１”
光１１：ｊの４１ｊ呆を示す一例で２．って、とこに示
す成分、膜厚、４・σ・理方法等を適宜変ヴし、でもそ
の目的を達成しうろことは当然である。

一実施例 機械ＪＪＴＩ工により表面を平坦かつ平？１月Ｃ、ｆＩ
：　、にｌ・ｒ／゛、ニアルミ合金円板（Ｕ径２１０Ｆ
ｉＦＬ　１７．さ１．９　ＴＩ、Ｉ＋　）　、−にに下
記のメッキ液】ｆ用いて１−１さ３４）μ［１］のＮ１
−Ｐメツ、キ膜を形成しプこ後、二／：、面宛閤千ノ１
ノ１１工Ｉｔ（，１：す：ｉｊ’χ而（１，上げし、磁
気ディスク−Ｘ３板を？：！　〕こ。

メソ八へ泊′１゜ 無電解Ｎ１−Ｌ’メッキ液シ＝−マーＢＯ（日本カニゼ
ン社（（Ｈ，ｇ　） 次に、この；１一体Ｆに下＾ＩＩＪのメッキＭ２を用（
ハて膜厚０．０８μｍのＣｏＪＪｉ　−Ｐ　Ｊ　ツヤｊ
ｉＧａかＣ−＞　ｈ、　ルＵ３訃層を形成した後、下記
のメッキ液３を用い（ｌｌ’Ｊ　ｌ’＋ｔ　Ｏ，００５
０，０１，０，０２，Ｏυ４．０．１）６ないしは００
８μＩｌｌのｃｏ−１’メツ−■膜からなる金属薄膜を
Ｊ−成した。

メッキ液２゜ 無′Ｉｔ解Ｃｏ−Ｎ１−Ｐメッキ液 硫酸コバルト　０．０６　ｍｏ　１／Ｉ！硫酸ニツケル
　０．０４　ｔｔ 次唾リン酸ナトリウム　０．２Ｑ　ｔｔ硫酸アンモニウ
ム　０１０〃 マロン酸ナトリウム　０．３０　” リンゴ酸ナトリウム　０，４０　ｔｔ　ｐＨ−１，２コ
ハク酷ナトリウム　０．５０　’　浴温８０℃メッキ液
３゜ 無電解Ｃｏ−Ｐメッキ液 硫酸コバルト　０．０５ｍｏ＋／′！！次亜リン酸ナト
リウム　０，２〃 硫醸アンモニウム　０５　ｔｔ　ｐ）Ｉ−９，０泊石酸
ナトリウム　０．５〃　浴烏８０°Ｃさらに、これを３
０°Ｃ希硫ｍ（濃度３％）溶液に浸潤した後、空気中２
５０°Ｃで１時間）Ｍ熱した。浸？１時間はＣｏ−Ｐメ
ッキ膜厚にｌｉぷじて表１の様に変化させ渇表１゜ こうして得られた磁気ディスクの表面には、Ｃｏ−Ｐメ
ッキ膜が酸化されて生じた一様な酸化物保護層が形成さ
れており、表２のＣ８８試験結果に示す様にｃｏ−Ｐメ
ッキ膜厚０．０１μｍ以上のサンプルについては実用上
十分な耐久性が得られた。

表２．０ＳＳ試験結果（Ｎｉｎ　−Ｚｎフェライトヘッ
ド使用）本実施例で得られたｆｉ１気ディスクを下記の
条件で記録再生試験を行なった結果、表３に示す様に均
一な再生出力を示し、磁性層の特性は実用上十分な一様
性が保たれていることが認められた。

測定条件 ディスク回転数：　３０００ｒｐｍ 使用ヘッド：トラックｒｉｌ１８．５μｍ、キャップ長
０゜８μｍコイル巻数１６＋１６゜ ヘッド浮上量−〇、２μｍ 記録周波数（２Ｆ）　：　６．０８ＭＨｚエラー・スラ
イスレベル＝６０％ 表３．記録碍生試験結果 基体および磁性層は本実施例と同様に作製し、磁性層の
上にメッキ液１を用いてＮ１−Ｐメッキ膜よりなる中間
層を形成した後、メッキ液２を用いて膜厚０．０２μｍ
のＣｏ−Ｎ１−Ｐメッキ膜よりなる金属薄膜を形成し、
この金属薄膜を酸化して保護層とした磁気ディスクを作
製した。この場合、金属薄膜、磁性層ともにＣｏ−Ｎ１
−Ｐメッキ膜であり、両者の耐酸化性が同等であるため
、金属薄膜の酸化により保護層を形成する工程における
ｊ５．？浸漬処理にはサンプル１〜６で用いた処理液よ
りも高濃度の酸溶液を必要とした。このためサンプル１
〜６の記録再生試験と同じ測定条件において一面当りの
エラー数が１００個以下となる磁気ディスクを得るため
には、厚さ０．０４μｍ以上の中間層を必要とし、保護
層の厚さがほぼ同等のサンプル３の場合にくらべて再生
出力が２５多程度減少した。

以上の実施例により明らかなように基体、磁性層および
保護層の順に設けられた磁気記録体において、前記保護
層となる酸化物形成に用いる金属薄膜に前記磁性層より
も耐酸化性の弱い金属膜を用いることにより、実用的な
耐久性を有１−一様な再生出力の得られる磁気記録体が
得られる。特に磁性層と保護層の間に中間層を形成した
従来の磁気記録体に比べ、ヘッド−媒体分離長低減によ
る再生出力の増大が図れるとともに、製作工程の簡素化
がｉｉＪ能となり、本発明の実用的、工業的価値は極め
て高い。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基体上に磁性層および保護層が、この順に設けられた磁
   気記０体において、前記保護層が前記磁性層よりも耐酸
   化性の弱い金属薄膜を酸化することにより形成された層
   であることを特徴とする磁気記録体。