JPS6039239U - 紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6039239U JPS6039239U JP12984583U JP12984583U JPS6039239U JP S6039239 U JPS6039239 U JP S6039239U JP 12984583 U JP12984583 U JP 12984583U JP 12984583 U JP12984583 U JP 12984583U JP S6039239 U JPS6039239 U JP S6039239U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet lamp
- cleaning equipment
- support base
- ultraviolet
- abstract
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
図面は本考案実施例の断面図である。
１・・・装−箱、２・・・灯体、３・・・紫外線ランプ
、４・・・ミラー、６・・・被洗浄体、７・・・支持台
、８・・・測温計、９・・・制御ボックス、１０・・・
吸入孔、１１・・・排気孔。
、４・・・ミラー、６・・・被洗浄体、７・・・支持台
、８・・・測温計、９・・・制御ボックス、１０・・・
吸入孔、１１・・・排気孔。
Claims (1)
- 紫外線ランプと、この紫外線ラン／の背後に近接配置さ
れるミラーと、紫外線ランプによって照射される位置に
配置され、ペルチェ効果−子からなる温度制御部材が組
込まれた被洗浄体支持台と、この支持台の近傍に酸素を
含むガスを供給する機構とを備えてなる紫外線洗浄装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12984583U JPS6039239U (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12984583U JPS6039239U (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6039239U true JPS6039239U (ja) | 1985-03-19 |
Family
ID=30294073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12984583U Pending JPS6039239U (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6039239U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63299335A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS503958A (ja) * | 1972-08-18 | 1975-01-16 | ||
| JPS5832410A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-25 | ザ・パ−キン−エルマ−・コ−ポレイシヨン | ガス状減圧環境下で構造物を処理する方法及び装置 |
| JPS5858726A (ja) * | 1981-10-05 | 1983-04-07 | Hitachi Ltd | 半導体処理装置 |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP12984583U patent/JPS6039239U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS503958A (ja) * | 1972-08-18 | 1975-01-16 | ||
| JPS5832410A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-25 | ザ・パ−キン−エルマ−・コ−ポレイシヨン | ガス状減圧環境下で構造物を処理する方法及び装置 |
| JPS5858726A (ja) * | 1981-10-05 | 1983-04-07 | Hitachi Ltd | 半導体処理装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63299335A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 |
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