JPS60403A - 薄膜形成方法 - Google Patents
薄膜形成方法Info
- Publication number
- JPS60403A JPS60403A JP58107663A JP10766383A JPS60403A JP S60403 A JPS60403 A JP S60403A JP 58107663 A JP58107663 A JP 58107663A JP 10766383 A JP10766383 A JP 10766383A JP S60403 A JPS60403 A JP S60403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- film
- roller
- base plate
- coating liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/233—Manufacture of photoelectric screens or charge-storage screens
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、例えば単管式カラーテレビカメラ用の色分済
ストライプフィルタを構成する感光性樹脂膜を形成する
場合のように、基板上に高分子物質からなる薄膜を平滑
に形成する薄膜形成方法に関するものである。
ストライプフィルタを構成する感光性樹脂膜を形成する
場合のように、基板上に高分子物質からなる薄膜を平滑
に形成する薄膜形成方法に関するものである。
上述した色分解ストライプフィルタのように、フォト加
工によって薄膜を所望の図形に形成する場合、はじめの
感光性樹脂膜塗布状況の均一性は、露光・現像後の残留
樹脂膜の所望図形に対する寸法誤差の原因となシ、図形
精細度が上がるにしたがってその影響が大きくなる。例
えば上記スト２イブフィルタ製作に際しては、ストライ
プフィルタ線幅の誤差および加工面内のむらの原因とな
シ、このようなフィルタを使用してカラーテレビ撮像を
行なった場合、撮像再生画面に、ストライプフィルタ線
幅のむらに基く再現性のむらや輝度むらが発生してしま
う。また、線幅のむらとは別に、厚さ自体のむらも生じ
、これが原因の不都合も生じる。
工によって薄膜を所望の図形に形成する場合、はじめの
感光性樹脂膜塗布状況の均一性は、露光・現像後の残留
樹脂膜の所望図形に対する寸法誤差の原因となシ、図形
精細度が上がるにしたがってその影響が大きくなる。例
えば上記スト２イブフィルタ製作に際しては、ストライ
プフィルタ線幅の誤差および加工面内のむらの原因とな
シ、このようなフィルタを使用してカラーテレビ撮像を
行なった場合、撮像再生画面に、ストライプフィルタ線
幅のむらに基く再現性のむらや輝度むらが発生してしま
う。また、線幅のむらとは別に、厚さ自体のむらも生じ
、これが原因の不都合も生じる。
このような色分解フィルタは、通常透明なガラス基板に
天然高分子を主体とした感光性の溶液を平坦に塗布・乾
燥後、所定の原版を用いて絽光−現像を行ない、次いで
、当該□天然高分子材料に対して染着性を有する染料ｆ
ｔ溶解した染色液に浸演し、所望の分光透過率となるよ
うに染色して形成する。必要があれば、さらに他の色の
ストライプ状色分解フィルタを同様の工程によシ繰り返
し形成する。
天然高分子を主体とした感光性の溶液を平坦に塗布・乾
燥後、所定の原版を用いて絽光−現像を行ない、次いで
、当該□天然高分子材料に対して染着性を有する染料ｆ
ｔ溶解した染色液に浸演し、所望の分光透過率となるよ
うに染色して形成する。必要があれば、さらに他の色の
ストライプ状色分解フィルタを同様の工程によシ繰り返
し形成する。
ここで、従来天然高分子感光剤としては、例えばゼラチ
ン、カゼイン、卵白等に、重クロム酸塩やその他の感光
性伺与剤を添加した水溶液を用い、これを、塗布面側を
上にして回転台に固定した透明基板のほぼ中央に静かに
流下させる。次いで、当該基板を塗布面の中央を通る法
線を軸として回転させ、その遠心力をもって、上記感光
剤からなる産布液を延展宮せるとともに、余剰の液を振
シ切る。その後、乾燥させることにより、平坦な薄膜を
得る。
ン、カゼイン、卵白等に、重クロム酸塩やその他の感光
性伺与剤を添加した水溶液を用い、これを、塗布面側を
上にして回転台に固定した透明基板のほぼ中央に静かに
流下させる。次いで、当該基板を塗布面の中央を通る法
線を軸として回転させ、その遠心力をもって、上記感光
剤からなる産布液を延展宮せるとともに、余剰の液を振
シ切る。その後、乾燥させることにより、平坦な薄膜を
得る。
このような塗布法は、スピニング法と称されるが、はじ
めの感光液の流下の方法、量および流下時の基板面にお
ける原曲の仕方等が、膜の形成に′＃妙な影−１を及は
し、完成した感光膜の厚さむらの原因となる。このため
、液の鏝度および粘度、流下片および速度、基板の温度
ならびに回転数とそのプログラムなどに種々工夫をこら
してはいるが、むらの発生を完全に防止することが可能
な条件を維持することは一離であった。
めの感光液の流下の方法、量および流下時の基板面にお
ける原曲の仕方等が、膜の形成に′＃妙な影−１を及は
し、完成した感光膜の厚さむらの原因となる。このため
、液の鏝度および粘度、流下片および速度、基板の温度
ならびに回転数とそのプログラムなどに種々工夫をこら
してはいるが、むらの発生を完全に防止することが可能
な条件を維持することは一離であった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであシ、
その目的は、基板上に高分子物質からなる欣を薄く均一
に塗布形成することが可能なＲ膜形成方法を提供するこ
とにある。
その目的は、基板上に高分子物質からなる欣を薄く均一
に塗布形成することが可能なＲ膜形成方法を提供するこ
とにある。
このような目的を達成するために、本発明は、塗布液の
最終的な延展参振Ｌａシはスピニング法によって朽なう
が、基板面への最初の液の供給は流下によらず、ローラ
ー塗布によって行なうものである。
最終的な延展参振Ｌａシはスピニング法によって朽なう
が、基板面への最初の液の供給は流下によらず、ローラ
ー塗布によって行なうものである。
高分子溶液のローラーによる塗膜は、それ自体独立の薄
」ら形成方法として、例えは電子（幾器の配線基板製作
などで周知であるが、その寸法精度は低く、カラーテレ
ビ噂撮像用ストライプフィルＨのように精細で許容誤差
の少ない精密工程には適さない。本発明はこのローラー
塗布を、スピニング塗布のための塗布液の供給法として
利用し、均一な薄い膜の形成に成功したものである」〔
発明の実施例〕 高分子溶液をロー２−によシ基板面に供給するには、予
めゴムローラー表面になるべく均等に塗布液を展開し、
これを目的とする基板上にころがせばよい。具体的には
、２台の四−２−をわずかな隙間をおいて対向回転させ
、その隙間を通して塗布液を一方のローラー表面に塗シ
付け、これをそのまま基板面に転写する方法や、さらに
別の第３のローラー表面に転写した後、第２のローラー
から基板面に転写する方法など、所望の膜厚や賛求され
る厚さの均一度、ｉ賀に応じて、一般のローラー塗布法
と内球に多様な方法を用いることができる。
」ら形成方法として、例えは電子（幾器の配線基板製作
などで周知であるが、その寸法精度は低く、カラーテレ
ビ噂撮像用ストライプフィルＨのように精細で許容誤差
の少ない精密工程には適さない。本発明はこのローラー
塗布を、スピニング塗布のための塗布液の供給法として
利用し、均一な薄い膜の形成に成功したものである」〔
発明の実施例〕 高分子溶液をロー２−によシ基板面に供給するには、予
めゴムローラー表面になるべく均等に塗布液を展開し、
これを目的とする基板上にころがせばよい。具体的には
、２台の四−２−をわずかな隙間をおいて対向回転させ
、その隙間を通して塗布液を一方のローラー表面に塗シ
付け、これをそのまま基板面に転写する方法や、さらに
別の第３のローラー表面に転写した後、第２のローラー
から基板面に転写する方法など、所望の膜厚や賛求され
る厚さの均一度、ｉ賀に応じて、一般のローラー塗布法
と内球に多様な方法を用いることができる。
このようなローラー塗布法で基板の全面に比較的厚く高
分子群成を重布した後、引き続きスピニングを行なって
、塗布液企さらに薄く均等な膜厚金有する塗膜に展開す
る。これは前述したと同様に、、基板を回転台に固定し
、塗布面にほぼ垂直な中心Ｋｋ回転軸として回転させる
ことにょシ行なう。その後、従来と同様に乾燥して薄膜
を完成する。
分子群成を重布した後、引き続きスピニングを行なって
、塗布液企さらに薄く均等な膜厚金有する塗膜に展開す
る。これは前述したと同様に、、基板を回転台に固定し
、塗布面にほぼ垂直な中心Ｋｋ回転軸として回転させる
ことにょシ行なう。その後、従来と同様に乾燥して薄膜
を完成する。
これによシ、はじめに液？流下にょシ供給する従来のス
ピニング法に比較し、膜厚をよシ芥易に均−洗制御でき
る。のみならず、従来は液流下の際に、ともすれば基板
の外淵よシ流れ落ち、基板の側面や裏面Ｋまわシ込んで
基板や装置を汚し、さらにはその不要な塗布液が後続の
プロセスにおいて装置を汚したシ、または塗膜が切れテ
にちて製品の品位を害し歩留シを低下させるようなこと
があったのに対し、この方法によれば、液ははじめから
それ程過剰には供給されないため、裏面にまわシ込むよ
うなことはなくなる。
ピニング法に比較し、膜厚をよシ芥易に均−洗制御でき
る。のみならず、従来は液流下の際に、ともすれば基板
の外淵よシ流れ落ち、基板の側面や裏面Ｋまわシ込んで
基板や装置を汚し、さらにはその不要な塗布液が後続の
プロセスにおいて装置を汚したシ、または塗膜が切れテ
にちて製品の品位を害し歩留シを低下させるようなこと
があったのに対し、この方法によれば、液ははじめから
それ程過剰には供給されないため、裏面にまわシ込むよ
うなことはなくなる。
塗布液の裏まわシ事故を、さらに徹底して防止するため
には、上述した第２のローラーもしくはさらに第３のロ
ー２−に凹部または凸部を設け、第２のローラーによ＃
）基板に転写される塗布液が、基板の外周部には付着し
ないようにするととが有効である。この場合、それだけ
口〜ラーによる塗布量を大きくすることができるため、
スピニング後の膜厚の均等性はさらに改曽される。
には、上述した第２のローラーもしくはさらに第３のロ
ー２−に凹部または凸部を設け、第２のローラーによ＃
）基板に転写される塗布液が、基板の外周部には付着し
ないようにするととが有効である。この場合、それだけ
口〜ラーによる塗布量を大きくすることができるため、
スピニング後の膜厚の均等性はさらに改曽される。
上記第２のローラーは、印刷形式名になぞらえて、最終
転写ロー２−の凹部の宣布液を転写する凹板形式のもの
でも、凸版形式のものでもよいが、大量の液を供給する
には凹版ローラーの方が好適である。なおこの方法を適
用する場合には、当初において液が’ＩＩＳ ；Ａｓさ
れない（稜にスピニングにより延展されるにしても）基
板外周部は、無効部ないし低品位で良い部分であること
が条件となることは９うまでもない。
転写ロー２−の凹部の宣布液を転写する凹板形式のもの
でも、凸版形式のものでもよいが、大量の液を供給する
には凹版ローラーの方が好適である。なおこの方法を適
用する場合には、当初において液が’ＩＩＳ ；Ａｓさ
れない（稜にスピニングにより延展されるにしても）基
板外周部は、無効部ないし低品位で良い部分であること
が条件となることは９うまでもない。
ローラーによる転写を行なった段階では、従来一般のロ
ーラー塗布による場合と同様の液層むらが存在し得るが
、スピニングによる延展によシ均等化し解消する。又、
従来のスピニング法やローラーコート法に於ても行なわ
れるように感光剤のｐＩ！ＡＮｔ大としたり、ビンボー
ル欠陥を解消するため、禎斂回の塗布工程を繰シ返すこ
とも必要に応じて配慮すべきである。 − 〔発明の効果） 以上説り」したように、本発明によれば、はじめに基板
面に咋布液をローラー転与した後、スピニングを豹なう
ことによシ、基板上に高分子物質からなる膜を薄く均一
に形成するととができる。また、過剰な液の供給がない
ために、基板の側面や誂向、さらＫはまわりの装置等を
汚すこと、あるいはそれを洗浄する必要もないという利
点ｔも有する。
ーラー塗布による場合と同様の液層むらが存在し得るが
、スピニングによる延展によシ均等化し解消する。又、
従来のスピニング法やローラーコート法に於ても行なわ
れるように感光剤のｐＩ！ＡＮｔ大としたり、ビンボー
ル欠陥を解消するため、禎斂回の塗布工程を繰シ返すこ
とも必要に応じて配慮すべきである。 − 〔発明の効果） 以上説り」したように、本発明によれば、はじめに基板
面に咋布液をローラー転与した後、スピニングを豹なう
ことによシ、基板上に高分子物質からなる膜を薄く均一
に形成するととができる。また、過剰な液の供給がない
ために、基板の側面や誂向、さらＫはまわりの装置等を
汚すこと、あるいはそれを洗浄する必要もないという利
点ｔも有する。
Claims (1)
- 高分子溶液を基板に平滑に塗布して当咳高分子物質から
なる薄膜を形成する方法において、基板に、予めロー２
−表面に展開した塗布液を転写し、次いで基板を上記塗
布液の塗布面にｔヨは垂直な軸を中心に回転して塗布膜
を平滑薄膜化した後、乾燥することを特徴とする薄膜形
成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58107663A JPS60403A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 薄膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58107663A JPS60403A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 薄膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60403A true JPS60403A (ja) | 1985-01-05 |
Family
ID=14464855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58107663A Pending JPS60403A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 薄膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60403A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4913934A (en) * | 1987-05-06 | 1990-04-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Process for making laser Q-switch |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP58107663A patent/JPS60403A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4913934A (en) * | 1987-05-06 | 1990-04-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Process for making laser Q-switch |
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