JPS6041678A - インド−ル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

この発明は新規なインド−／Ｉ／誘導体およびＦＲ−９
００２２０物質の新規な製造法に関するものである。 ＦＲ−９００２２０物質はアマウロアヌカス・エヌヒ−
／ｌｂ、　６２３７株の培養物よシ単離された、血圧降
下作用、感染防禦作用および胃液分泌抑制作用（Ｃ有す
る新規な楽理活性物質であり、本発明者等により、既に
特許出願（特願昭５７”−３５６９２１済でめる。その
後本発明者等は、ＦＢ−９００２２０物質の構造４：ｄ
［究の結果、ＦＢ−９００２２０物質の構造全欠の通り
と推定した。 ｃｔ５ａｓ、７ａｓ、８ａＲ，１ろａｓ、１５ａ３゜１
６ａＲ＋−８ａ　、　ｉ　６ａ−ビス（１，１−ジメチ
ル−２−プロペニルｌ−５，５ａ　、　ａ、ａａ　、　
１３゜１３ａ、１６．１６ａ−オクタヒドロピラジノＣ
Ｉ　、　：２−１．５　：　４　、５−１，５　）ジピ
ロロ〔２，６−ｂ：２，３−ｂ）ジインドール−乙１５
ｔ７ａＨ。 １５ａａ　】−ジオン） 次いで、ＦＢ−９００２２０物質を化学合成により製造
する方＝Ｗ初めて確立すると共に、下記一般式中で示さ
れる新規インドール誘導１本およびそれの製造法全確立
した。 この発明の新規インドール誘導体は下記一般式により示
てれる。 （式中人は、２−プテンシイリデン基ｌたはテトラメチ
レン基、Ｒは水素、低級アルキル基Ｉたは低級アルケニ
ル基、Ｒ２は水素、低級アルキル基、低級アルケニル基
またはアシル基ならびにＲ３およびＲ４はそれぞれ水素
ｌたはＲ３とＲ４とがいっしょになってオキソハケそれ
ぞれは味する）ＦＲ−９００，２２０物質およびインド
ール誘心体（１１ならびにそれらの塩類は次に図示する
ような方法で製造される。 １ まｆ？：、はその塩 製造法２： 製造法６： １ ぼたはその塩 １ またはその塩 製造法４： １ 製造法５： １ 製造法６： 製造例７： 製造法８： ↓Ｘ５Ｒ０（ＸＸＩＩ］ （式中、Ｒ、Ｒ、ＲおよびＡは前と同じ意味。 Ｒ＾およびＲａはそれぞれ低級アルケニル基、Ｒｂおよ
びＲｂはそれぞれ低級アルキル基、ＲｏおよびＲｏはそ
れぞれ低級アルキル基または低級アルケニル基、Ｒｄは
アシル基、Ｒｏは水素または低級７ｔ”ｒニル基、樽は
水素または低級アルキル緬、Ｆ　は低級アルキル基、ア
ル（低級）アルキル基葦たはアリール基、Ｒｄはアミノ
保訊拭、Ｘ４およびＸ　はそれぞれハロゲンヲ惹味する
】原料化合物（ｌｌおよび（Ｘ〜’ｌｉｔ　＋は新規化
合物であり、例えば次に図示するような方法またはこれ
らと同様な方法によ！ｌｌ製造することができる。 Ａルート またはその塩 α１１） 丑たは七〇Ｊ鬼 ＋Ｘ１ｌｌ＋ またはその塩 Ｒたはその塩 （ｌｌｂ） ぼたはその塩 Ｂル−ト （式中、Ｒ入、ＲＥ、　ＲｂおよびＲ１１１は前と同じ
意味、Ｒｏはアルキル基、Ｒｏはエステル化されたカル
ボキシ基、Ｘｌはアミン保護基、Ｘ２およびＸ３はハロ
ゲンをそれぞれ意味する） この明＃１山、における種々の定義について以下に詳利
Ｉに説明する。 インドール誘導体（１１および種々の原旧化合物の塩類
の好適な例としては、例えば塩酸塩、硫酸塩等の酸イ」
加塩が挙げられる。 「低級」とは、特に指示のない眠シ伏索数１〜６個を有
する基を意味する。 低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イングチル、第三級ブチ
ル、１，１−ジメチルグロビル、６−メチルジチル、ペ
ンチル、ヘキシル等が挙げられる。 低級アルケニル基としては、例えばビニル、アリル、イ
ソプロペニル、６−メチル−２−ブテニル、１ｊ−ジメ
チル−２−プロペニル、２−へキセニル等の灰累数２〜
６個のアルケニル基が挙げられる。 アシ）ｖ基とはイ」］幾酸の残基、好１しくはイＪ（幾
カルボン酸の残Ｍｋ意味し、そのような好適な例として
は、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、ペンタノイル、ヘキサノイ／Ｉ／等の低級アルカノ
イル基が挙げられる。 アル（低級）アルキル基としては例えばベンジル等が挙
げられる。 アリール基としては例えばフエニｌし、トすｌし等が挙
げられる。 エヌテル化されたカルボキシ基としては、例えばノドキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロボキシカルボ
ニ）Ｖ等の低級アルコキシカルボニル基が挙げられる。 アミン保護基としては一般に慣用のアミノ基の保護基が
その１１挙げられ、そのような例としては１例エバベン
ジルオキシカルボニル切のアル（低級）アルコキシカル
ボニル基が挙ケラｆｌる。 ハロゲンとしては、弗素、塩素、臭素、沃累等が挙げら
れる。 次に、上記製造法１〜８について以下に詳述する。 製造法１　： 化合物＋ｌａ＋−５たはその塩は、化合物（Ｉｌ＋−！
たはその塩を脱硫閉環反応に伺して製造することができ
る。 この反応は、例えばラネーニッケル、四塩化チタンと水
素化アルミニウムアルカリ金属

【例えば、水素化アルミ
ニウムリチウム等］との組合せ、アルカリ金属と液体ア
ンモニアとの組合せなどの触媒の存在下に行なうのが好
ましい。 この反応は通常１例えばテトラヒドロフラン、エーテル
、ベンゼン、トルエン、メタノール、エタノール、アセ
トン等のこの反応に悪影響を与えない溶媒中で冷却下な
いし加熱下に行なわれる。 上記触媒、溶媒等の反応条件は原料化合物（１１）の′
Ｍｉ類に応じて倣宜最逸条件を選択して通用すればよい
。 製造法２： 化合物＋ｌｂ＋は化合物＋Ｘ’ｌ順を接触還元に（＝Ｉ
すことにより、製造することができる。接触還元用の好
適な触媒としては、白金板、白金海綿、白金黒、コロイ
ド白金、酸化白金、白金線のような白金触媒；パラジウ
ム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−
炭素、またはコロイドパラジウムのようなパラジウム触
媒；イリジウム、コロイドイリジウム、酸化ルテニウム
、コロイドロジウム、ロジウム−アルミナのような白金
属金属触媒；還元ニッケル、酸化ニッケルまたはラネー
ニッケルのようなニッケル触媒１罰元コバルト、ラネー
コバルトのようなコバルト触媒；還元鉄、ライ・−鉄等
の鉄触媒；ｌたは血元銅、ラネー銅またはウルマン銅等
の銅触媒が挙げられこの１女触還元は通常、水素雰囲気
中大気圧下ｆたは加圧下に室＆１′Ａで行なうことがで
きる。 コノ反応は通常、例えばメタノール、エフノーＩし、酢
酸エチＩＶ、ジオキサン、テトラヒドロンラグＳのこの
反応に悪影響？ｆ−与えない溶媒中で行なわれる。 製造法６： 化合物ｔｌｃ＋またほその塩ば、化合物ｔｌａ＋ｉたは
その塩に水素化アルミニウムを作用させることにより製
造することができる。 この反応は通常、例えはエーテル、テトラヒドロフラン
、ベンゼン、トルエン等のこの反応ニ悪影響葡与えない
溶媒中で、冷却下〜室温稈反で行なわｒしることが多い
。 製造ｍ４： 化合物（１ｅ）は、化合物＋ｌｄ＋葦たはその塩に化合
物＋ＸＩＸ＞ｒ作用させることによシ製造することがで
きる。 この反応は、例えば炭酸カリウム等の塩基の存在下に１
１なうのが好ましい。 こノ反応は、通常、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルヌルホキシト、ジオキサン等この反応に悪
影響を与えない溶媒中で室温ないし加熱下に行なわｎる
。 製造法５： 化合物（ｉｆ］は、化合物＋ｌａ＋またはその塩に化合
物ｔＸＸ＋ｉたはその反応性誘導体を作用させることに
より製造することができる。 化合物（ＸＸＩの反応性誘導体としては、例えばｍ無水
物、酸ハロゲン化物、酸アシド、活性アミド、活性エス
テル等が挙げられる。 この反応は例えば水素化すＩ−Ｕラム、水酸化カリウム
、トリエチルアミン、ピリジン等の有（晟または無機塩
基の存在下に行うのが好〕しい。 反応溶媒としては、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジ
オキサン、ジメチルヌルホキシト的、のこの反応に悪影
で厨ケ与えないものが挙げられる。 反応ｆｆｎ４度は特に限定されることはないが、連常冷
Ｊ、口・ないし加熱下にイ１なわれる。 製１告法６： 化合物（１旧は化合物ｔ１ｇｌｋ接触還元にイ１］ずこ
とにより製造できる。 この度ｂｃ、における接触還元の反応条件は、Ｕ佑告法
２のそ７’Ｌと実質的に同様であるので、製造法２の説
明全参照されたい。 なお、一般式＋１ｇ＋においてＡか２−プテンシーグテ
ンシイリデン基も同時に還元されてＡがテトラメチレン
八である化合物ｔ１ｇｌｋ与えることがあるが、このよ
うな場合もこの製造法の範囲に含１れる。 製造法７： 化合物＋ｌｊｌは化合物（１１）を接触還元に（＝１丁
ことにより製造できる。 この反応における接触還元の条件も製造法２における接
触還元の反応条件に実質的に同じであるので、製造法２
の説明を参照されたい。 製造法８： 化合物（１ｋ）に化合物［ＸＸＩ　ｌ　’Ｆたはその塩
に化合物【Ｘ■）を作用させることによりロリ造するこ
とができる。 原料化合物（ＸＸＩ＋は例えば、テトラヘドロン・レタ
ーズ５０９〜５１２ページ＋　１９７４年″ｆｆに記載
されている公知物質である。 この反ｊ１Ｌζは例えば炭酸水素す）　ＩＪウム等の塩
基の存在下に行なうのが好寸しい。 コノ反応は、通常、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジノチルスルホキシド、ジオキサン等この反見、に
悪影響を与えない溶媒中で室温程度の温度で行なわれる
ことが多い。 」二記製造法１〜８の目的化合物は兇゛法によって単離
、精製され、所望の塩に導くことができる。 次に、上記原ｔ１物質の製造ルー）［Ａルート、Ｂルー
ト］について詳述する。 方法１ 化合物ｑｖはたけその塩は、化合物ｉｌｌ　１寸たはそ
の塩に酸化剤を作用させることにより製造することがで
きる。 この反応の酸化剤としてはジノチルスルホキシドと濃塩
酸との組合せが繁用される。 この反応は、通常この反応に悪影響を与えない溶媒中ぼ
たは溶媒なしで、室温ないし加温下に行なわれる。 方法２ 化合物（ｖけたはその塩は、化合物（ｌｊｒｌ−Ｅたば
その塩にアルキルエヌテｌしくヒ斉１１にイ乍月コさせ
るか、あるいｉ４多量のア・・カッ；・・存在下酸触ｂ
ｊ＆＆＋作用させることにより、製造することができる
。 この反応のアルキルエステル化剤としては、アルカノー
ルおよびその誘導体が挙げら庇る。アルカノールの誘導
体としては例えば、沃化メチル等のハロゲン化アルキル
が挙ケラれる。 この反応は、通常例えばジメチルホルムアミド、ジオキ
サン、アセトン等のこの反応に悪影響ヲ与えない溶媒中
、室温程度の温度で行なわれることが多い。 方法６ 化合物（ｖｉ＋　’！たけその塩は、化合物（■）また
ほその塩に硫化剤を作用させることにより製造すること
ができる。 この反応の硫化剤としては、近値化リンが繁用される。 この反応はピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基の
存在下に行なうのが好ましい。 この反応は通常、例えばベンゼン、トルエン、塩化メチ
レン等のこの反応に悪影響會与えな？ｉＶ媒中または溶
媒なしで室温ないし加熱還流下に行なわれる。 方法４ ゛　化合物（５）Ｉｌｌ壇たはその塩は、化合物ＱＩＩ
ｌ＝Ｅたはその塩に化合物Ｑ’ｌｌｌ　’！ｒ作用させ
ることにより製造することができる。 この反応は通常、例えばアセトン等のこの反応に悪影響
を与えない溶媒中で室温程度の温度で行なわれると々が
多い。 方法５ 化合物αにたはその埴に、化合物（■）またはその塩を
塩基の存在下に加水分解することによシ行なわれる。 ここで塩基としては、水酸化ナトリウム等の水酸化アル
カリ金属が繁用される。 この反応は、通常、例えば水、メタノール、エタノール
、テトラヒドロフラン、等のこの反応に悪影響ヲ与えな
い溶媒中で室温ないし加熱下に行なわれる。 方法６ 化合物（Ｘはたはその塩は、化合物１　ｒｉｌｌ　）′
１′たはその塩を酸の存在下に加水分解するかまたは接
触還元に（＝Ｉすことにより製造することができる。 この反応で使用される酸としては、臭化水素酸と酢酸の
混合物が繁用される。 また接触還元は例えば白金黒等の常用の接触還元用触媒
ｒ用い、常圧〜６気圧程没の加圧下に行なわれる。 この反１もは通當、無浴媒または例えば、メタノール、
エタノール、ジオキサン、６Ｆ酸エチル等のこの反応に
憑影靭１を与えない溶媒中で室温程度の温度で行なわハ
ることが多い。 方法７ 化合物ωはたはその塩は、化合物（１ｘ）１ｆ？ニー＆
よその塩と化合物（Ｘ）またはその塩とをペプチド結合
形成反応に（＝Ｉすことにより製造することができる。 この反応は一般のペプチド結合形成反応のすべてが通用
できるが、通常はへ、Ｎ−シンクロヘキシルカルボジイ
ミド等の縮合剤の存在下に、例えば酢酸エチル、ジオキ
サン等のこの反応に悪影習全与えない溶媒中、冷却下な
いし加温下にイ１なわれる。 反応中のラセミ化を防止するためには、例えばＮ−ヒド
ロキシヌクシンイミド等のラセミ化防＋Ｊ二ｉｌｌ　ｋ
使用することが好ましい。 方法８ 化合物（ｉｌｌ＋またはその塩は、化合物α１）またに
その−を酸の存在下に加水分解するか葦たは接触還元す
ることにより行なわれる。 この反応は上記方法６の反応と実質的に同一でめるので
、反応条件については上記方沃乙の説明ケ会ｊ！＜１さ
れたい。 方法９ 化合物（Ｘ１ｌｌ　）−ｔたはその塩は、化合物へｉｔ
たはその」ムを閉環反応に（＝Ｉすことにょシ製造する
ことができる。 との閉環反応の好適な例としては、例えばアンモニア飽
和メタノール等のアンモニア性アルコールの存在下に行
う閉環反応が挙げられる。 この反応（徒、通常、無溶媒ないし、例えばメタノール
、エタノール、テトラヒドロフラン等この反応に悪」杉
臂全与えない溶媒中で冷却下ないし室む、品程没の温度
で行なわれる。 方法１０ 化合物ｔｌａ＋−Ｈたはそのり、４Ｈ１化合物［Ｘ１ｌ
ｌ”Ｅたはその塩に化合物［ＸＩＶ　］を作用させるこ
とにょシ製造することができる。 この反応に、通常、例えばジオキサン、ジメチルホルム
アミド、アセトン等のこの反応に悪影響ｒ与えない溶媒
中冷却下ないし室温程度の温度で行なわれる。 方法１１ 化合物（ｌｌｂｌまたはそのＬｊＡは、化合物（…ａは
たはその塩を接触還元に付すことにより製造てれる。 この反応における接触還元用触媒としては、例えば二酸
化白金等の常用の接触還元用触媒が含まれる。 コノ反応は、通常、例えばメタノール、エタノール、酢
酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフランへ９・のこ
の反応に悪影響を与えないｆｆＪ−ｗｒ民冷冷却下いし
室温程度の温度で行なわれる。 方法１２ 化合物（ＸＶＩＩは、化合物（ＸＶＩ−１たけその塩に
化合物（ＸＩＶ　）＊作用させることにより製造される
。 原）１化合物（ｘ■）のうち、Ｎａ−ペンジルオキシカ
ルボニルーＬ−１−リグトフ７ジメチルエヌテルはケミ
カル・アンド・フ７−マシューティヵル・プレチン第２
６巻第３１０６〜３１１６頁＋１９７５年】記載の方法
で製造されその他の化合物もこれと同様な方法で製造で
きる。 この反応の条件は、製造法４の場合と実質的に同じなの
で、製造法４の説明を参ｊ１αされたい。 方法１６ 化合物（Ｘ■）またはその塩は、化合物［Ｘ■］　’（
ｒ脱エステル化反応（（付すことにより製造される。 この脱エステル１ヒ反応は通常、水酸化ナトリウム等の
塩基の存在下化合物＋ＸＶＩｆ）−！たばその基金加水
分解することにより行なわれる。 この反応は通常、例えば水、メタノール、エタノール等
この反応に悪影響ヲ与えない溶媒中で室温程度で行なわ
れることが多い。 方法１４ 化合物！　Ｘｌ’ｌｌｌ　）　Ｕ、化合物（ＸＶＩＩ　
ｌ　’！　ｆｒＭ−’ｆ：ａ：４ｇＮ−ヒドロキシスク
シンイミド全作用−Ｓ＜ることにより製造される。 この反応は、通常、例えばジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド等の）容媒中、Ｎ　、　Ｎ−シンクロヘ
キシルカルボジイミド等の縮合剤の存在下、冷４却下な
いし室温程度の温度で行なわれることが多い。 この発明のインドール誘導体（１）は上記のように、血
圧降下作用を有し、血圧降下剤として有用である他、病
原菌に対する感染防禦作用葡有し、感染症予防治療剤と
しても有用である。インドール誘導体重およびその医薬
として許容はれつる塩はそれをその１１人間を含む哺乳
動物に投与することもできるが、一般には医薬として許
容されうる種４の担体と組み合わせて製剤として投与さ
れる。 そのような製剤の例としてはカプセル剤、錠剤、粒剤、
粉剤、溶液等が挙げられる。また医薬として許容をれう
る塩としては、塩酸塩、硫酸塩等酸付加塩が挙げられる
。さらに医薬として許容されうる担体としては例えば、
シュークロース、でん粉、マンニット、ツルヒツト、う
’／）−ス、クルコース、セルロース、タルク、リン酸
カルシウム、炭酸カルシウム、メチルセルロース、ヒド
ロギシプロビルセルロース、ゼラチン、アラビアガム、
カルボキシメチルセルロース、７テアリン酸マグネシウ
ム、界面活性剤、水等のほか上記製剤に通常使用はれて
いる担体が挙げられる。 インドール誘導体（１）およびその医薬として許容され
うる塩類の投与量は病気の拙類、患者の体重、年令、投
与方法によシ異なるが、通常は１０μｆ〜１０　Ｄ〃ｌ
／／／ｋｇ／ｄａｙの範囲内から最適投与量が選択され
ることが多い。 次に上記ＡルートおよびＢルートで示した原料物質の製
潰汰の具体例を製造例により説明する。 製造例１ （１）Ｎａ−１ペンジルオキシ力ルボニ）Ｖ　ｌ−Ｌ　
−トリプトファン５０ｇのジメチルスルホオキサイド１
０５ｍ１の溶液に、かく押下、濃塩酸２５０ｍ１ｒ一度
に加える。激しい発熱とガスの発生全件う。 反応ｒｉさらに６０分間かく押抜、水１ｇを加え、［！
ｌｉ’酸エチ”６００ｍ１で６回抽出する。合わせた有
機層？水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥する。 溶媒を減圧下に留去して、２−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−６−（２−オキソ−６−インドリニル）プロ
ピオン酸２９ｇｋ得る。 工Ｒシ訂妥”ｔ７ｎ　１；　３２５０．１７２０〜１６
８０．’１６２０゜１５２０．１２３０．１０５０ （２）　２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−６−（
２−オキソ−６−イントリニ）ｖ）プロピオン酸１８ｇ
ｋ乾燥したメタノール１００ｍＪＫ溶かした溶液に、無
水１０％塩酸−メタノール浴液１００ｍ１ｋ加える。こ
の反応液を室温で一夜放置する。 減圧下に溶媒を留去し乾固して、２−ペンシルオキシカ
ルポニノ乃ミノ−３−ｃ２−オキソ−６−インドリニル
）プロピオン酸メチルエフチル１８ｆｌ’Ｌ油状物とし
て得る。 ＩＲ叶股０１（Ｊ　１ｉ３２５０．１７３０〜１６８０
．　、１６２０　。 １５２０．１２２０．１１８０．１０５ＯＮＭＲ（Ｃ１
０５ＯＮ、ｐｐｍ　弓９．２〜９．１　ｔ　ＩＨ、ブロ
ード］。 ７゜４〜６．８＋９Ｈ，ｍ１．６．３７ｔＱ、５Ｈ，ｄ
。 Ｊ＝９Ｈｚ）、６．１５［０，５Ｈ，ｄ、Ｊ＝８ｎｚ］
。 ５．１２ｔ１Ｈ，８）、５．０３ｔＩＨ，ｓ＋、４．８
〜４−５’ｌＨ９ｍ）＋３．７ｔ１．５ａ、ｓ＋。 ３．６７（１，５Ｈ，ｓ　］　、３．６〜３．４＋　Ｉ
Ｈ，ｍ　）。 ２．５〜２．２＋２Ｈ，ｍ＋ ＭＳ；３６８（Ｍ＋１ ＜３）　２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−６−（
２−オキソ−６−インドリニル）プロピオン酸ノチルエ
ヌテル１８ｇｋピリジン１１６＋＋＋Ｊに７容カし、五
Ｇコ比リン５．８ｆｋ加える。この混合物をアルゴン気
流中にて６詩間かく拌しながら還流きせる。反応液を冷
却後、ａ縮して得られた残留物に冷水１ｇを加えＤ塩酸
でｐＨｆｆ１２とする。酢酸エチル５００ｍ１で４回抽
出し、合わせた有機層會水で４回洗浄後乾像する。溶媒
を留去すると、２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
３−［２−チオキソ−３−インドリニル）プロピオン酸
ノチルエステｊＶｋ得る。本化合物は精製することなく
次の反応にイ＼１す。 アセトン１００ｍ１ＶＣ浴かし、無水炭酸カリウム１３
ｇｋ加えかく拌下にヨウ化メチル２．２ｍ１ｋ滴下する
。室温ででらに５分１１ノかく拌ケ続けた後。 溶媒を留去する。得られた残留物に水５００＋ｙｔｋ７
ＪＬＩ　ｚ、−、クロロホルム２００　ｒｙｅにて２回
抽出し、合わせたイ１機層孕乾燥する。溶謀葡留去する
と粗生成物１８　ｆ　ｋ得る。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー圧（＝１’Ｌ、　ｎ−ヘキサン：　Ａ１１
ｌｆｆエチル（５：　２　］　ｆ俗ｆｆｌＩ　Ｌで２−
ベンジルオキ７カルボニルアミノー６−（２−メチルチ
オ−ろ−インドリル）プロピオン酸メチルエステル６．
２ｇ？得る。 丁ｎ　ｖ　Ｃ”’３ｃ１１ｔ　１；３４８０．３４５０
．３３５０．３０３０　。 ＡＸ ２９７０．２９４０．１７２Ｄ、１５１０，１４５０，
１４４０゜１３５０．１２２０．１０６０．７０ＯＮＭ
ＲｆＣＤＣ（１３，ｐＨ”’ｉ８．５３　［１Ｈ、Ｓ　
］　、　７．５〜７．０［９Ｈ，ｍｌ、５．４３＋ｉＨ
，ｔｉ、Ｊ＝３Ｈ２ｌ。 ５．０５Ｆ２Ｈ，ｓ　１．４．８７〜４．５ｃＨ１Ｈ１
ｍ　＋。 ３．６３＋３ｎ、ｓ　＋、３．３３＋２ｎ、ｄ、Ｊ＝＝
６Ｈｚ　＋。 ２．６ｔ３ｎ　、ｓ＋ （４）　２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−ロー

【
２−メチルチオ−６−インドリル】プロピオン１規定の
水上化ナトリウム水ｍＭ　１１　ｖｔｌと水６ｍｌを加
え、アルゴン気流中、−夜室温でかく拌する。 減圧下、有機溶媒を留去して得らｎる残留物に水を加え
、クエン酸で酸性とし１′咋酸エチルで抽出する。有機
層を飽和食塩水で洗浄後、無水瞳酸マグネシウムにて乾
燥した後、浴Ｗ、ヲ留去して、２−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−３−［２−メチルチオ−６−インドリル
）プロピオン酸５．８ｇ孕油伏物として得る。 ■Ｒν３２　〆３（：ノノＩ　”１３４６０．３［］０
０．２９２０．１７２０〜１７１０．１５００．１４５
０．１３４０．１２２１：Ｊ、ＩＯ６ＯＮＭＲ＋ｃＤｃ
／（３，ｐｐｍ＋；８．３〜８．０［２Ｈ，ブロード）
。 ７．５〜６．８　Ｆ　９　Ｈ、ｍ　ｒ　、　５．５６〜
５．３７　ｔ　Ｉ　Ｈ。 ｍｌ、４．９７＋２Ｈ，ｓ＋、４，７６〜４．５７　（
Ｉ　Ｈ。 ｍｌ、３．３３ｔ２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｉ（ｚ＋、２．２＋
３Ｈ，Ｓ］ （５）　２−ベンジルオキシカフレボニルアミノ−５−
（２−メチルチオ−６−インドリル１プロピオン酸メチ
ルエステＪｖ６ｇを酢酸１０ｍ１に浴かし、冷却かく拌
下に；１ｊｊＥ水臭化水素酸（６０％酢酸溶液）２３　
ｙｒｌ　ｋ加える。かく拌をさらに室温で６０分間１続
けた後、ｎ−ヘキサン５００ｍ４中に反応液を注ぎ、し
ばらくの間装置する。上澄みを棄てて得られる残留物に
、冷やした飽和炭酸す）Ｕラム水溶液？加えて、岨：酸
エチルにて２回抽出する。抽出ｊ蕾を飽和食塩水で洗浄
後、無水灰暇カリウムにて乾燥した後、溶媒を留去して
、２−アミノ−５−（２−メチルチオ−６−インドリル
）プロピオン酸メチルエステル３．９　ｇｋ？Ｌ６゜工
Ｒシ瞭〆３ｃｍ　１；　３４７０　、３３７０．３００
０　、２９６０　。 １７５０　、１４５０　、１４４０　、１３４０．１２
８０．１２２ＯＮＭＲＩＣＤＣ（Ｉ３．ｐｐｍ１；８．
８６ｆ　ｉ　Ｈ、ブロードＳｌ。 ７．５６〜７．４４　［Ｉ　Ｈ、ｍ　］　、　７．２〜
７．０　＋ろＨ１ｍ＋、３．９６〜３．８２ｔ１ａ、ｍ
ｌ、３．６８ｔ３Ｈ。 ８】、６．４〜６．０（２Ｈ８ｍ）、２，３２（３ＴＩ
。 Ｓ　）、１．７２Ｌ２Ｈ，ブロード５）（６）　２−ペ
ンシルオキシカルボニルアミノーロー（２−メチルチオ
−６−インドリル）フ和ピオン酸５．６ｇと２−アミノ
−６−（２−メチルチオ−６−インドリル１プロピオン
酸メチルエステル６．９ｇ、：Ｎ−ヒドロギシスクシン
イミＹ　１．７５　ｉｉ’　２、酢酸エチル１００ｍ１
とジオキサン１００ｍｔの？ｌｊ？（りに溶かした溶液
に、水冷かく拌下に、Ｎ、Ｎ−シシクロへキシルカルボ
ジイミド２．８！Ｍ’に浴かした顔で酸エチル浴液２０
ｙａｔを滴下する。 室１１□Ａで一夜か＜１１！後、反応液を減圧濃縮して
得られる残留物に、酊はエチＪＬ／（ｉｌ−加え沖過す
る。 ρ叡ｔ１規定塩酸水溶Ｒｋ、５％灰酸水素ナトリウム水
浴液、飽和食塩水で順次洗浄後乾燥する。 溶媒を留去して得られる油状物１１ｇ−！ｚシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにイ＋Ｉ’Ｌ、ベンゼン二配
酸エチＪｌ／（５：１）で溶離して、２−５２−ペンシ
ルオギシ力ルボニルアミノ−３−１２−ノチルチオー６
−インドリル）プロピオンアミド〕＝６−（２−メチル
チオ−６−インドリル）プロピオン１゛肢メチルエヌテ
ル４．５ｙｗ得る。 工Ｐシ歌要（ｌｓＣＩｒ＋　１；３４６０．３４４０，
３０００．１７２０゜１６７０．１５００，１４５０．
１４４０．１３４０．１２．２０゜９Ｏ Ｎｕｎ＜ｃＤｃｎ３　、ｐｐｍ１；８．１３ｔ　２１−
１　、　ｓ　）、　７．３〜７．０ｔ１３Ｈ，＋ｒ＋＋
、６．３＋１Ｈ，ｄ、Ｊ二８Ｈｚ）。 ５．４［ＩＨ，ｄ、、Ｔ−４３Ｈｚ１．４．９７Ｌ２Ｈ
。 ｓｌ、４．８−４．４ｔ２ｕ、＋ｎ＋、３．５＋３Ｈ，
ｓ）。 ３．３〜３．１７ｔ４ａ、ｍ、３２．２ｔ６ａ、ｓ＋＋
（７）２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−３
−（２−メチルチオ−６−インドリル）プロピオンアミ
ド）−３−（２−メチルチオ−６−インドリル）プロピ
オン酸メチルエヌテル４．５ｆ奮酢酸９ｍｌに溶かし、
水冷かく押下に無水臭化水素酸

【６０％酢酸溶液１１１
１Ｉ＋ｆｆを加える。かく拌？さらに室温で５０分間続
けた後、ｎ−ヘキサン５０Ｄｍｌ中へ江ぎ、しばらくの
間装置する。 上澄みを棄てて得ら扛るガム状の残留物（（、冷やした
飽和炭酸すｌ−ＩＪウム水溶液を加え、酢酸エチルにて
２回抽出する。抽出層を飽和食塩水で洗ｆＩｌ後、無水
仄酸カリウムにて乾燥した後、溶媒を留去して、２−（
２−アミノ−６−１２−メチルチオ−５ｆンドリル）グ
ロシ°オンアミド〕−６−（２−メチルチオ−６−イン
ドリｌし］プロピオン酸メチルエステ７１／３．３　’
ｉ　ｋ得る。 ＩＲν翻％１３ｃｒｒｔ　１；３４７０．３３５０，３
０００．２９３０゜１７３０．１６６０．１５１０．１
４５０．１４４０．１３４０゜２５Ｏ ＮＭＲ（ＣＤ０ｇ３　、ｐｐｍ’ｉ８．４７Ｌ２　Ｈ，
ブロード）。 ７．８〜７．０（９Ｈ，ｍ　＋　、４．９３＋　ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝８Ｈ２ｌ　、３．７〜５．５ｔ　８Ｈ、ｍ　ｌ
　、２．５７＜　３Ｈ。 Ｓｌ、２．３０１ろＨ，Ｓｌ、１．８３（２Ｈ，ブロー
ド（８）　２−〔２−アミノ−６−（２−メチフレチオ
−６−インドリル）プロピオンアミド）−３−＋２＝メ
チルチオ−６−インドリル）プロビメーン酸ノチルエス
テル３．１に無水メタノール１０ＤｍＪに洛かし、水冷
かく押下に乾燥アンモニアガヌ會通じて、アンモニアガ
スを飽和させる。 室温に４時間放置後減圧乾固して得られる残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに伺し、５パーセント
のメタノ−）Ｖ　ｆ含ムクｏ　ロホ／ｌ／　ムｉＣて浴
部して、６．６−ビス〔（２−メチルチオ−６−インド
リｌし］メチｌし）−２，５−ピペラジンジオン２．２
９′に得る。 ＩＲＶ’４’Ｊ、０１Ｃ）ｌ　’；３４１０．３３９０
．３２０［］、３０５０゜１６７０．１３３０．７５０
．７４Ｏ ＮＭＲ（ａＤ３ｏＤ、ｐｐｍ　）；７．３〜６．８　ｔ
　８Ｈ、ｍ　＋　、　４．２〜４．０（２Ｈ，ｍｌ、３
．３３〜３．１７ｔ４Ｈ，ｍ１２．５５（６Ｈ、８１ ＮＭＢ（ピリジン−４５，ｐｐｍ１；１１．７ｔ２Ｂ、
ブロード）。 ８．０２〜７．３　（２Ｈ、ｍ　）　、　４．６７−４
．４３ｔ　２Ｈ。 ＝１　、　ｍｌ、３．５７ｔ２Ｈ，ｄａ、Ｊ＝＝４．５
Ｈｚおよび１８Ｈｚ）、２．８８ｔ２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１
［］ＩＨおよび１８Ｈ２］ （９）　５，６−ビス〔（２−メチルチオ−３−インド
すｔ＋ｚ＋メチル〕−２，５−ピペラジンジオン０．４
１をジオキサン１．６ｍ１ＶＣ浴かし、炭酸カリウム１
ｇと１−ブロモ−６−メチ）ｖ−２−ブテン１．６ｍｌ
を加え、アルゴン気流下、室温にて４８時間かく拌する
。 反応混合物に酢酸エチル１００Ｎｔｋ加え、水、飽和食
塩水で順次洗浄後、無水硫１浚マグネシウムにて乾燥す
る。 溶媒を留去して得られる油状物會７１ツカゲル薄層外ロ
マトグラフイ−１３％のメタノールに含ｂクロロホルム
で展開】にイ」シて精製し、（６Ｓ。 ６Ｓ）−６，６−ビス〔いＲ３＋−６−（１，１−ジメ
チル−２−プロベニｌし）−２−メチルチオ−３Ｈ−イ
ンドール−６−イル ラジンジオン３　０　０　ｌｄノケ得る。 ｘｎ　ν駄ｉ（１　３ｃツノ「１；ろ３Ｂ０，２９７０
，２９２０．１６８０。 １５００、１４６０，１４５０，１３８０．１３７０．
１３３０。 ２０ （ｌｉ　ろ、６ービヌ（〔ｌ−Ｆｌｊ−ジメチル−２−
プロベニ／１．７〕−２−メチルチオ−３Ｈ−インドー
ル−６−イル〕メチル）−９２，ｓ−ピペラジンジオン
２　２　０　ｍｌケ酢酸エチル５房ｌに）容かし，二酸
化白金４　０ＭＱ　ｆ加え、室温１気圧にて５時間接触
還元する。白金触媒を沖去した戸欧葡減もＺ固して得ら
ノＬるｌ山状物音シリカゲルハ幻曽クロマトグラフィー
（ろ％のメタノールを含むクロロホルムにて展開）にイ
・］シて粕製し，　ｔ　３ｓ　、　６ｓ　）−３．６ー
ビス［　［　（ＲＳＩ−３−＋　１．１−ジメチルプロ
ピル）＝２−メチルチオ−３Ｈ−インドール−３−イ１
し〕ノチル〕２．５ーピペラジンジオン２０、Ｏ　ｌ〃
９　ｋ得る。 ＩＲ　ｖ歌３ｅｓａｎ　’；３３６０．２９７０．２９
２０．２８７０。 １６８０、１５００．１４６０，１４５［］、１３９０
．１３７０。 １３３０、１２６０．１１６０．１１３０装迫し１」２ （１）　Ｌ３Ｓ．６Ｓｌ−３．６ービス（（２−メチル
チオ−６−インドリル）メチル）−２．５−ピペラジン
ジオン＋　５　［１　０１１１ｙｌをシオギザンＩ　２
　１１１６１に浴かし、炭酸カリウム’１２０Ｑ＋＋ｌ
ｙ）と１−プロモー６−メチル−２−ブテン（　２．１
　ｌＩｔ　］を加え、アルゴン気流下，室温にて７８１
！Ｉかく拌する。 反応故に水に７ＪＩＩえ、酉「酸エチル抽出、抽出層全
水洗後乾燥する。溶媒全留去して得た油状物音シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにイて１し、６％のツタノ
ー１ｖｋ含むクロロホルムにて溶離する。 目的物全台む一分を集めて減圧乾固、得られた残留物を
薄層クロマトグラフィー（展開剤：酢酸エチル）にイ声
ｊし精製して、ｔ　３ｓ　、　６Ｓ　）−３．６　−ビ
ス〔〔（ト）ヒ，５−［１．１−ジメチル−２−プロペ
ニル）−２−メチルチオ−３Ｈ−インドール−３　′ー
イル〕メチル）−２．５−ピペラジンジオン（１１３ｍ
ｙ）ｘ得る６ ｕＶ　λＦ′”Ｉ（ｎｍ；２８５．２９３．３００ＡＸ 丁Ｒ　ｖＭＡＸ’３ＣＩＩ＋　１１３３８０−２９６０
　、１６７５　、１５０１］　。 １３８０、、１３６０．９２Ｏ ＮＭＦＨ　ＣＤＣ．Ｑ３　ｌＩＩＩｌｍ　ｌ　；　７．
５　６〜７．０ｋ　８Ｈ　、ｍ　＋　。 ６、０６ｔ２Ｈ．ｄｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚおよび１７１
（Ｚｌ。 ５、２　［　２Ｈ　、　ｄａ　、　Ｊ＝１　０．５Ｈ　
Ｚおよび１Ｈｚ＋。 ５、０８＋２Ｈ．ｄａ，Ｊ＝１７ＨｚおよびＩＨｚＩ。 ４、８８　（　２Ｈ　、　ｄ　、　Ｊ＝３ｎ　Ｚ　ｌ　
、　３．２４　〜３．Ｑ＋　２Ｈ　、ｍ　）　、２．７
２＋　６Ｈ，　ｓ　ｌ　、２．８−２．７（４Ｈ）、１
．０８（６Ｈ，８］．１．０４Ｆ６Ｈ，８１ＭＳ　ｍ／
Ｚ　；６００ｉ　Ｍ＋］ （２）（ろＳ　、　６Ｓ　ｌ−３．６ービス（〔碩）−
ろ−（１，１−ジメチル−２−プロペニル）−２−メチ
ルチオ−３Ｈ−インドール−６−イル〕メチル〕−２．
５−ヒ“ペラジンジオン［３Ｍｌ自１：酸エチ）ｖ７ｖ
ｒｌＫ溶解し，二酸化白金（２０Ｉ）−ｙ）を加え、常
温常圧にて５　１１’を間接触還元する。 触媒をｐ去し、戸液を減圧乾固して得られる残留物を薄
層クロマトグラフィーに付して精製し、＋　３ｓ　、　
６３　］　−３．６ービ７　（　Ｃ（Ｒ１−３　−　［
　１，１−ジメチルプロピル）−２−メチルチオ−６Ｈ
−インドール−６−イル〕メチル）　−　２．　５−ヒ
ベラジンジオン＋２０’ｆｆｌ會得る。 ＣＨＣｅ　−１ １Ｒ　ｖＭＡｘ３ＣＩ１１　ｉ３３８０．２９６０，１
６８０．１５００。 ４５０ ＋ｕｘｒｕｃＤｃｆｆ３，ｐｐｍ＋；７．６〜７．０ｔ
　８）１　、ｍ　）　、　５．０〜４．９（２Ｈ．ブロ
ード１．２．７３（６Ｈ．ｓ＋。 ３、３　〜２．７１　６Ｈ　）　、　１．３　〜０．６
Ｆ　２２Ｈ，ｍ　ＩＭＳ　ｍ／ｚ；６Ｑ４ｔＭ＋１ 製造例６ （１）Ｎａ−１ベンジルオキシカルボニルｌ−Ｌ−トリ
プトファンメチルエステル＋１５ｇ）’にアセトン（１
０＊＋ｔ′）に浴１＋＋イし、灰賑水嵩ナトリウム１１
８．７１と１−プロモー６−メチル−２−ブテン（２６
πｌ　］　奮加え、アルゴン気流中−夜￥温でか＜１１
″する。反応γ俟に７１（ｗ：加え、酢酸エチルで抽出
、抽出Ｉ曽を水洗後乾燥する。次いで、反応液を減ｎ二
濃ポ１］１シ得られた残ン青ｒシリカゲｌしカラムクロ
マ１゛クラフイーに（”ｊ’Ｌベンゼント酢酸エチルの
混？（？２０：１］で溶出し、＋２３，３ａＳ。 ３ａＳ）　−１−ペンシルオキシカルポニル−２−メト
キシ力ルボニｗ−”、ａ　、８−ビス（乙−メチル−２
−プテニｗ　）　−１，２，３，３ａ　、　８．８　ａ
−ヘキサヒドロピロロ（２，３−１））インドール［６
，０！　＋、ＩＲｖｙｔ、ｘ”３ｃｔｎ’−１；　２９
２０．１７４　Ｄ　、１７００．１６００　。 ４１Ｏ ＮＭＲｆＣＤＣｆｉ３．ｐｐｍ１ｉ７．３２（５Ｈ、８
］　、　７，６〜６．４（４Ｈ，ｍｌ、５．５〜４．９
Ｆ５Ｈ，ｍｌ。 ４．３６〜４．１　Ｆ　２Ｈ、ｍ　）、　３．８４〜３
．７２ｔ　Ｉ　Ｈ。 ｍｌ、３．４６＋３１（、Ｓ）、２．６〜２．１Ｆ４Ｈ
。 ｍｌ、１．７６（３Ｈ，８１，１，６６＋６Ｈ，８１゜
Ｉ＝　１．５６＋　３Ｈ、Ｓ　ｌ および＋２ｓ、３ａＲ，３ａＲ＋−１−ベンジルオキシ
カルボニル−２−メ１−ギシカルボニルー６ａ、８−ビ
ヌ（６−メチル−２−ブテニル）−１，２，３，３ａ　
、　８，８　ａ−へキサヒドロピロロ〔２，６−ｂ）イ
ンドール（４，４πｌを得る。 ＩＲνＣＨＣ／　３Ｃ）ｆｆ　１；２９２０．１７２０
，１７００．１６００゜４１Ｏ ＮＭＲＬＣＤＣｇ３．ｐｐｍ１ｉ７．３２［５Ｈ、ｓ　
）、　７．６〜６．３（４Ｈ，ｍｌ、５．４〜５．３（
５Ｈ，ｍｌ。 ４．７６〜４．５２　ｔ　Ｉ　Ｈ、ｍ　）、　４．２４
〜５．８８（２Ｈ，ｍ　＋　、３．２４［３Ｈ，ｓ　ｌ
　、２．５〜２．３ｉＨ１ｍ１．ｉ、６８（９Ｈ，８１
，１，５４［３Ｈ，Ｓ］（２）　（２３，３ａ３．３ａ
Ｓ　１−１−ペンシルオキシカルボニｔｖ−２−メトキ
シカルボニル−３ａ。 ８−ビス（６−メチル−２−プテニ／ｌ’　ｌ−１，２
，３゜３ａ、８．８ａ−ヘキサヒドロピロロ〔２，３−
ｂ）インド−／Ｌ’Ｌ　２４０ＴｒｒＱＩｆ）り／−／
Ｌ／［３ｎ、Ｊ＋［溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム浴液
（０，６πｌ）を加え、アルゴン気流中−夜、室（ｎｕ
でかく拌する。 反応液ｒ酸性に調整した後、ジエチルエーテルで抽出、
抽出層を乾燥後、減圧濃１Ｍ　Ｌ、て、

【２Ｓ。 ３ａ８．３ａＳ＋−１−ベンジルオキシカルボニル−６
ａ、８−ビス（６−メチル−２−ブテニル］１．２，３
．３　ａ　、　Ｆ３．Ｆ３　ａ−ヘキサヒドロピロロ〔
２，６−ｂ）インド−１ｖ−’ｌ−カルボン［ｆｆ（２
２８１１！！／）を得る。 ＩＲν悶呈（１３ｏｒ＋　１；２９２０．１７１０．１
７００．１６００゜４１０ （３）　【２３．３ａＳ、３ａＳ＋−１−ペンシルオギ
シカルボニルーろａ、８−ビス（ろ−メチルー２−ブテ
ニル）−１，２，３，３ａ　、　８．８　ａ−ヘキサヒ
ドロピロロし２．３−Ｌ）インドール−２−カルボン酸
２２５　ＭｇトＮ−ヒドロキシメクシンイミド５５ｍｇ
ｋジオギザン２０Ｍ／４に浴解し、Ｎ、Ｎ−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド９８１１１７に水冷かく押下庁加
後、−夜蚕温でかく拌する。反ｊ芯欣を濾過後、θ４岐
に酢酸エチルを加え、水洗後乾燥し、減圧製紐１して（
２３，３ａＳ　、８ａＳ　ｌ−１−ベンジルオキシカル
ボニル−３ａ、３−ビス【６−メチル−２−）Ｔニル）
−２−７，クシンイミドオキシカルボニル−１，２，３
，３ａ、　８．８　ａ−へキサヒドロピロロ［２，３−
ｂ）インドール２２８＋＋Ｉｇｋ得る。 ｘＲ’　ｍハｅ３Ｃ２Ｉ「１逼２９６０．１８２０．１
７８０．１７４０　。 ７１０ イ列 舊ψ造久４ Ｎａ−、ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−１１７”）ファ
ンメチルエステル１ｇをアセトン２１〃ｔに浴解し、伏
酸水素ナトリウム２．６ｇと１−プロモー６−メチル−
２−ブテン４　ｌｘｌ　ｋ加え、アルゴン気流中、室温
で一夜かく拌する。反応液ｖこ水を加え、酢酸エチルで
抽出し、抽出層全水洗後、乾燥し、溶媒を留去して得ら
れる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに（＝
ｉＬ、ベンゼント酢酸エチルの混液（２０：１）で溶出
し、各両分より、＋２ｓ、３ａＳ、８ａＳｌ−１−ｔ−
ブチルオキシカルボニル−２−メトキシカルポニＪｖ−
３ａ。 ８−ビス（６−メチル−２−ブテニル）−１，２，３゜
３ａ、８．Ｅ３ａ−へキサヒドロピロロ〔２，ろ−℃〕
インドール４１５ｍ！／、 ＩＲν認’；（１３ｃＩｎ　１；２９８０．１７４Ｄ、
１６９０．１６００゜られる油伏物全薄ノ曽クロマトグ
ラフィー（ベンゼ　−ン：白酸エチル１０：１にて展開
）に伺して４Ｊ製し、＋５ａ３．７ａＳ、８ａＲ，１３
ａＳ、１５ａＳ、　−１／）ａｎ　ｒ−３ａ　、　１６
ａ−ビアー【１，１−シメチ　−ルー２−プロペニルｌ
−５，５ａ　、　８，８　ａ　、　１３．　ス１３ａ、
１６．１６ａ−オククヒドロビラシノ〔１゜２−１．５
　：　４．５−１，５　）シピロロ［２，３−ｂ：２．
３−１））ジインドール−乙１５ｔ７ａＨ，１５ａＨ１
ｅ−ジオン６ｍｙ？得る。 ｕｖ　λＭＡＸｉ２４５．３００ｎｍ ＭＳ：５０８（Ｍ”＋ 氷晶のその他の各種機器分析値［ＩＲ、ＩＱ＋１１Ｒ］
も椋品ノＦ　Ｒ９００２２０物質のそれらと一致した。 実力鉋例２ 虻、＋３３．６Ｓ］−３，６−ビヌ（Ｃ（Ｒ５Ｉ−３−
１１，１−ジメチルプロピル）−２−メチルチオ−３Ｈ
−インドール−６−イル〕メチル、）−２，５−ピペラ
ジンジオン９０１／ｆｋ溶がしたアセ１゛ン５ｖｔ″溶
故に加え、２時間かく拌還流する。冷却後、フネーニソ
ケルをｐ表し、溶媒を留去して得られ乙残留物？沖層ク
ロマトグラフィー（ベンゼン：１１三酸エチル１０：１
にて展開）にイχｊして精製すると、［５ａＳ　、７　
ａＳ　、　８ａＲ，１３ａＳ、１５ａＳ。 １６ａＲ］　−８ａ　、１６ａ−ビス（１，１−シメチ
ーレブロヒ”ルｌ−５，５ａ、８．８ａ、１３．１３ａ
。 １６．１６ａ−オクタヒドロピラジノｉ、２−１，５：
　４，５−１．５　）ジビロロ（２２，３−ｂ：　２，
３−ｂ）ジインドール−乙１５（７ａａ、１５ａＨ＋−
ジオン９　ｍＱを得る。 ＩＲシ歌２ｇカＦ１．易ＩＤ、２９６Ｄ、２８７０．１
６６０゜１６１０．１４８０．１４６５．１４２Ｄ、１
３９０，１３７０゜１３４０．１３００，１２９０．１
２４０，１１５０．１０８０゜０６０ −ｂ）ジインドール−乙１５（７ａＨ，１５ａＨ）−ジ
オン５００キ紮エタノ−）’　５０　ｔｌＦｔに浴解し
、二酸化白金１４０＃Ｉ／’に加え、室温、常圧で４１
１す間接触還元する。次いで反応液よシ触媒を炉去し、
ｐ液を減圧濃縮して得た残泄をシリカゲルクロマトグラ
フィーに伺し、クロロホルムで１容出する。 溶出液を減圧濃縮して目的物の結晶を得る。これ全エタ
ノールよシ再結晶して、ｔ５ａ８．７ａｓ。 ８ａＲ，１３ａＳ、１５ａｓ、１６ａＲ＋−８ａ。 １６ａ−ビヌ（１，１−ジメチルプロピｚ＋／ｌ−５，
５ａ　。 ８．８ａ、１３，１３ａ、１６，１６ａ−オクタヒドロ
／／−ＩＩ ピラジノ（１，２−１，５：　４，５−１．５　〕ジビ
ロロＣ２，３−ｂ　：　２，３−　ｂ　）ジインドール
−乙１５ｔ７ａＨ，１５ａＨ＋−ジオン４００　ｌｒｌ
’ｒ得る。 このものの機器分析鎮は実施例２の目的物質のそれらと
一致した。 実施例５ ］ ｔ５ａＳ、７ａＳ、１３ａＲ，１３ａＳ、１５ａＳ。 １６ａＲ１−８ａ　、　１６ａ−ビヌ（１，１−ジメチ
ルプロピル）−５，５ａ、８，８ａ、１３，１３ａ。 １６．１６ａ−オクタヒドロピラジノ（１，２−１，５
：　４，５−１．５　）ジピロロ（２，３−ｂ　：　２
’、”；−ｂ　）ジインドール−乙１５ｔ７ａＨ，１５
ａＨ］−ジオン５０”１９’ｒピリジン１πｔに溶解し
、無水酢酸０、９　ｍｌ　ｋ加え、１００°Ｃで５時間
反応する。冷却後メタノールを加え、無水酢酸を分解後
、反応液に１　ｐ５Ｊ４酸を加え、クロロホルムで抽出
する。抽出層を１１塩酸、５％炭酸水素す）　ＩＪウム
水溶液および水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
する。次いで、減圧濃縮して得られる残漬をシリカゲル
薄層クロマトグラフィー〔展開溶媒：ベンゼン：酢酸エ
チル（１０：１１）にイ；Ｉ’　Ｌ、５，１６−ジアセ
チル−８ａ　、１６ａ−ビス（１，１−ジメチル）０ロ
ピル　ｌ−５，５ａ　、８．８ａ’、１　３．１　３ａ
　。 １６．１６ａ−オクタヒドロピラジノＣＩ、２’−１，
５：　４．５−１．５　〕ジピロロＣ２，３−ｂ　：　
２，３−ｂ　、：］ジインドール−７，１５ｔ　７ａＨ
，１５ａｕ　】−ジ、ｔ　７３０　ｒ’ｒｌ　［ジアセ
チル体）と５−アセチル−８ａ　、１６ａ−ビス（１，
１−ジメチルプロピ／ｌ／１−５．５ａ　、　８．８ａ
　、　１６．１３ａ　、　ｉ　６，１６ａ−オクタヒド
ロピラジノ（１，２−１，５：　４，５−１．５　〕〕
ジピロロ２．ろ−ｂ：２’、３’−ｂ）ジインドール−
乙１５１７ａＨ，１５ａＨｌ−ジオン７　ｔｒｉ（１（
（７アセチル体）？得る。 （イ）ジアセチル体の物性： 〔σ）Ｄ−１６５°（Ｃ＝２．０　、　ＣＲＣ１１３］
ＣＤ１１．０〕１＋１０５，０００（２４９ｎｍ）、−
９，０００

【２８ＤｎｍＩＲνＢ汗”３Ｇ　１；２９６
０．１６６Ｄ、１５９０．１３８ＯＮＭＲ［ＣＤＣ［、
、ｐｐｍ　ｌ　；７．９６〜７．８＋　２Ｈ、ｍ　］　
。 ７．４〜７．０（６Ｈ、ｍ　ｌ　、６．０７　ｔ　２Ｈ
，８１。 ３．８４　＋　２Ｈ、ａａ　、　：ｒ＝７．０および１
Ｑ、５Ｈｚ＋２．６０（６Ｈ，ｓ　）、２．７〜２．４
ｔ４Ｈ，ｍ＋　。 １．３２Ｌ　４Ｂ、［ｌ　、Ｊ＝７．５Ｈｚ　ｌ　、０
．９５＋１２Ｈ，ｓｌ、０．８３ｔ６Ｈ，ｔ、Ｊ＝−７
，５Ｈｚ＋（口〕　モノアセチル体の物性： ＮＭＲｔｃＤｃ、５３．ｐｐｍ＋；７．８４ｔ　ＩＨ，
ｍ　＋　、７．４〜７．０［５Ｈ，ｍｌ　、６．７０ｔ
　１Ｈ，ｄ　ｌ　、６．４６（ＩＨ。 ｄ）、６．０７Ｎｎ、ｓｌ、５．４６＋ＩＨ，ｓｌ。 ４．９ｔＩｎ、ｓｌ、３．８４（２Ｈ，ｍｌ、２．６０
＋３Ｈ，８＋、２．５＋４Ｈ−，ｍ３１．３ｔ４ａ。 ｍｌ、０．９６＋　１２Ｈ，ｓｌ、［１，８２ｔ６Ｈ，
ｔ。 Ｊ＝７Ｈ２ｌ 実施例６ 塩化アルミニウム４０１１１ｉ／に含む無水ジエチルエ
ーテル（２０Ｍｌ）中に、水冷かく押下、窒素気流中、
水素化リチウムアルミニウム６４りを少量ずつ加える。 添加後、室温でさらに４０分間かく拌する。 これに、（５ａｓ、７ａｓ、（３ａＲ，１３ａｓ。 １５ａＳ　、　１６ａＲ）−８ａ　、１６ａ−ビス（１
，１−ジメチルプロピン）−５，５ａ　、　８．８ａ　
、　１３゜１３ａ、１６．１６ａ−オクタヒドロピラジ
ノ〔１，２−１，５：　４，５−１．５　〕ジピロロ（
２，３−ｂ　：　２，３−ｂ）ジインドール−７，１５
ｔ　７ａＨ、１５ａｎ　＞−ジオン１５０７１７１／ｋ
Ｊ＃水ジ工チルエーテル５ｍｌに溶解した溶液葡、水冷
かく押下滴下し、さらに６０分間水冷かく拌する。次い
で反応液ケ減圧濃縮し、残漬をシリカゲル薄層クロマト
グラフィー（６％のメタノールを含むクロロホルムで展
開）に付シて精製し、８ａ　、１６ａ−ビス【１，１−
ジメチルプロピルＩ−５，５ａ、７，７ａ、８，８ａ、
１３．１３ａ。 １５、’１５ａ　、　１６．１６ａ−ドデカヒドロピラ
ジノ（１，２−１，５：　４，５−１．５　、ｌシピロ
ロ〔２，３−’ｂ：２．５−ｂ、：ｌジインドーＪｖ７
　’ｌ　Ｉｑ　ｆ　ｉ４る。 （ａ）Ｄ−２０７，１°Ｉ　Ｃ＝１．２８．ｃＨｃＢ３
）Ｃ１０）；−８７，１ｏｏ（２４７ｎｍ＋＝１１，６
００（２９６ｎｍｌＵｖ　λＭ００Ｈ；２４５．６０１
ｎｍＡＸ ｘ　ＲνＭ　ｔ、　ｘ　’　３ｃｍ　１；　３４２０．
２９５０．１６　Ｄ’０．１４８０　。 ４６０ Ｈ−ＮＭＲ［ｃＤｃｇ３．ｐｐｍ　）；７．２〜６．４
＋３８．ｍｌ。 ４．６３［２Ｈ，ｓｌ、４．０８（２Ｈ，ｓ）、３．０
〜１．２［１４Ｈ，ｍｌ、１．０〜０．７Ｆ１８Ｈ，ｍ
１Ｍ５　ｍ／ｚ；４８４ｔｕ”＋ 実施例７ ｔ５ａＳ、７ａＳ、８ａＲ，１３ａＳ、１５ａＳ。 １６ａＲ］−３・ａ　、１６ａ−ビス（１，１−ジメチ
ル−２−プロペニルｌ＝５，５ａ　、　ｓ、ａａ　、　
１３゜１３ａ、１６．１６ａ−オクタヒドロピラジノ〔
１，２−１，５：　４，５−１．５　：）ジピロロＣ２
，３−ｂ：　２，３−ｂ）ジインドール−７、ｉ　５ｔ
　７　ａＩｉ　、　１５ａＨ）−ジオン７０　ｍｙを酢
酸０．７肩ｌｖＣ溶解し、二酸化白金１６０１１−加え
、室温、４気圧にて接触還元する。次いで、触媒ヲ沖去
し、減圧乾固して得られる残漬全シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー（５％メクノールを含むクロロホルムで展
開］に（＝Ｉ’　Ｌ、８ａ、１６ａ−ビス【１，１−ジ
メチルプロピル）−１，２，３，４，４ａ　、　５，５
ａ　、　ｓ、ｓａ　、　８１）　、　９，１０゜１１、
’ｌ−２，１２ａ、１３．１３ａ、１６．１６ａ、１６
ｂ−エイコサヒドロピラジノＣＩ、ｌ’ｌ、５　：　４
．５−１．５〕ジピロロＣ２，３−ｂ　：　ｉ、６′−
龜シインドールー乙１５Ｆ７ａＨ，１５ａＨ）−ジオ：
／３３．５ｒｎｙ全得る。 ＩＩ　ａ　）Ｄｌ　７５−９°［Ｃ＝１．４．ｅＨｃｈ
、）Ｉｒ（νｃ７　〆３Ｃ）ｎ　１；３３００．２９２
０．１６６０．１４０ＯＮＭＲ１ｃＤｃｇ３．ｐｐｍ１
；５．３８［２Ｈ，ｓ　）、４，３ろ＋２Ｈ，ｄｄ、Ｊ
−６Ｈ２および１［］Ｈｚ］。 ３．５〜３．３ｔ　２Ｈ，ｍ　］　、３．０［２Ｈ，ｄ
ｄ。 Ｊ＝４５Ｈｚおよび１５Ｈｚ　＋、２．３ｔ２Ｈ，ｓ　
＋。 ２．２〜１．１　＋　２４Ｈ、ｍ　Ｉ　、　１．０〜０
．６（１８Ｈ、ｍ　）ＭＳ　ｍ／ｚ；４２７，４５３，
４９５．５２４ｔＭ＋１５ ＮＭｒｕｐｙｉ、ｐｐｍ＋；５，６８＋　２Ｈ、Ｓ　］
　、４．５４（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝６Ｈ２および１ＱＨｚ
ｌ。 ４．２〜４．０［２Ｈ，ｍｌ、３．５６〜３．４４［２
Ｈ。 ｍｌ、３．２（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝６Ｈ２および１５Ｈｚ
１２．０６−１．１６　ｔ　２４Ｈ、ｍ　）　、　０．
９６〜０．６４＋１８１（、＋ｒ＋＋ ｔ５ａｓ、７ａＳ、８ａｌ’ｔ、１３ａＳ、１５ａＳ。 １６ａＲ）−３ａ　、１６ａ−ビス（１，１−ジメチル
１０ピルｌ−５，５ａ　、　ａ、ｓａ　、　１３．１３
ａ　。 １６．１６ａ−オクタヒドロピラジノ（１，２−１，５
ジインドール−乙１５ｔ　７ａＨ，１５ａＨｌ−ジオン
１３　ＤｍＹｋｈ　、　Ｎ−ジメチルホルムアミド５π
ｔＫｉ解し、伏酸カリ２ム１８０＋１１／と１−ブロモ
−６−メチル−２−ブテン０．４π／ｆ加える。次いで
反応面を７０°Ｃで５時間かく拌する。反応欧全冷却後
、水を加え、酢酢エチルで抽出する。抽出層を水、飽和
食塩水で洗浄後乾燥し、減圧濃縮して、得られた残渣を
得る。これをエタノール１０ｍ１″に溶解し、二酸化白
金３０ｆｆｇｋ加え、室温常圧にて６時間接触還元する
。触媒全ｐ去して得られる１ｒ３液葡減圧ＩＡλイ目し
、残置をシリカゲルねす層クロマトグラフィーにイτＪ
して精製し、８ａ　、１６ａ−ビス（１，１−ジメチル
プロピルｌ−５，１３−ジイソベンチルー５．５ａ　、
　８．８ａ　、　１５．１３ａ　、　１６゜１６ａ−オ
クタヒドロピラジノＣＩ、２−１，５　：４．５−１．
５）ジピロロＣ２，，５−１）　：　２，３−１）　）
ジインドール−７＋　１５　’　７　ａ　Ｈｌｌ　５　
ａ　ａ　）−ジオン１１０１１Ｊｇを得る。 （ａ　）Ｄ４７０−８°ｔ　Ｃ＝Ｏ，Ｂ　、　ＣＨＣｆ
ｉ３１ＣＤ（（７）ｉ−１２５，０００１２５５ｎｍｌ
、−３６，８００Ｌ３１１ｎＩＲｖ’Ｑ’ｊ’ｉ”１ｃ
ｍ　１ｉ２９６０．１６５５．１６００．１４３０１Ｈ
−ＮＭｎ＋ｃＤＪ３．ｐｐｍ１；７．１２〜７．０［４
Ｈ、ｍ　］。 ６．６６〜６．５２　［２Ｈ、ｍ　］　、　６．３２〜
６．２４＋２Ｈ，ｍ＋、５．８０［２Ｈ，ｓｌ、４．０
６ｆ２Ｈ２ｄｃｌ、Ｊ＝６および１１　Ｅｌ　Ｚ　）　
、　３．４６〜３．２０ｔ４Ｈ，ｍ３２．５６［２Ｈ，
ｄａ、Ｊ＝６Ｈｚおよび１１Ｈｚ＋、２．２３＋２Ｈ４
ａ、Ｊ−＝１１Ｈｚおよび１１Ｈｚ　＋　、　１．７−
１．２１１ＤＨ。 ｍ　＋　、　１．０〜０．８　＋　３０ａ　、　ｍ　）
λ ｍ】 十 （３Ｓ、６Ｓ］−３，６−ビメ【インドール−６−イル
メチルｌ−２，５−ピペラジンジオン３００屑ｙ’ｉＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミドＱ、７ｍ１ＶＣ溶解し、Ｊ
ｉ４酸水素ナトリウム６８０　ＩＩＱ　ト１−フロモー
ろ−メチル−２−ブテン０．９５ｔｘｔ′に加工、アル
コン気流中室温で８時間かく拌する。反応液に水會加え
、（！ｌ：ｎエチルで抽出し、抽出層を水洗緩乾燥する
。次いて反応液全減圧濃縮し、得られる残置をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにイ」シ、１０％のジエチ
ルエーテ）ｖケ含む四塩化炭素で溶出し、各両分より、
ｔ　５ａＳ　、７ａＳ、３ａＳ　。 １３＋ａＳ、１５ａＳ、１６ａＳ］−５，８ａ、１３゜
１６ａ−テトラキス（６−メチル−２−ブテニ／Ｌ／］
−５，５ａ　、　８．８ａ　、　１３．１３ａ　、　１
６，１６ａ−オクタヒドロピラジノ（１，２−１，５：
　４，５−１．５　）ジビロロ（２，３−ｂ　：　２，
３−１）　）ジインドール−７，１５＋　７ａＩ（，１
５ａＨ＋−ジオン５６１１）ｇ〔（１〕Ｄ　４０６．４
°（Ｃ＝０．９６．ｃＨｃ（１３）工Ｒνｃ２ｃｌ　３
．ツノ＋　１；３０［］０，１６６０，１６００．１４
９０゜１４ろ０ ’Ｈ−ＮＭＲｆ　ｃＤＲ３、ｐｐｍ　）　；７．２〜６
．６ｔ　８Ｈ、ｍ　）　。 ５．５０Ｌ２Ｈ，ｓ　ｌ　、５．３〜４．９＋４Ｈ，ｍ
ｌ。 ４．３〜３．９１６　Ｈ、ｍ　＋　、　２．８−２．０
１８　Ｈ。 ｍ　＋　、　１．８〜１．６＋２４Ｈ，ｍｌおよびｆ５
ａｓ、７ａ３．８ａＲ，１３ａＲ。 １５ａＳ　、　１６ａＳ　＋−５，３ａ　、　１３，１
６ａ−テトラキス（６−メチル−２−プテニ／１／ｌ−
５，５ａ。 ８．８ａ　、　１３．１３ａ　、　１６．１６ａ−オク
タヒドロピラジノＣＬ２−１５　：　４，５−１．５　
）ジビロロ〔２，３−ｂ　：　２，６′−ｂ′〕ジイン
ドール−７，１５（７ａａ　、’１５ａＨ］−ジオン２
４０　ｌＩｌｇ（−，２）Ｄ−１１５，４°（Ｃ＝１．
［］６．ＣＨＣｊ／３１１Ｒν肱’ｚ’３ｏｎ　１；３
ＤＤ０．１６７０．１６００．１４８ＯＮｌ／ＲｆＣＤ
Ｒ３，ｐｐｍ１ｉ７．２〜６．４＋　８）（、ｍ　）、
５．３５＋１Ｈ，ｓｌ、５．３２＋１Ｈ，ｓｌ、５．３
〜４．９＋　４Ｈ、ｍ　ｌ　、４．５〜４．Ｑ（６Ｈ、
ｍ　＋　、２．７〜２．２ｆ８Ｈ，ｍｌ、１．９〜１．
５［２４Ｈ，ｍｌおよびｔ５ａＲ，７ａＳ、８ａＲ，１
３ａＲ。 １５ａｓ　、　１６ａＲ＋−５，８ａ　、　１３．１６
ａ−テトラキス（６−メチル−２−ブテニＪｖ）−５，
５ａ。 ａ、ａａ　、　１３．１３ａ　、　１６ｊ　６ａ−オク
タヒドロピケジノＣ１，２−１，５：　４，５−１．５
　）ジビロロＣ２，３−ｂ　：　２，３−ｂ　）ジイン
ドール−乙１５ｔ　７ａａ　、１５ａｕ　＋−ジオン６
３＋”／’を得る。 （α）、＋１５６．２°（Ｃ＝１．２　、　ｃＩ（ｅβ
３）ＩＲシ駄メ３Ｃツノｌ　”１３０００．１６７５．
１６０Ｄ、１４８０１Ｈ−ＮＭＥＨＣＤＣ＃３．１）Ｉ
ｌｍ　ｌ；７．３〜６．４　＋　８Ｈ、ｍ　＋　。 ５．４０＋　２Ｈ、ｓ　）、　５．３〜４．９［４Ｈ、
ｍ　］。 ４．６＋〜４．０１６　Ｈ、ｍ　＋　、　２．６〜２．
３　Ｆ　８　Ｈ、ｍ　］　。 ］１８〜１゜６　Ｆ　２４Ｈ］ 実施例１０ ｔ５ａＲ，７ａＳ、３ａＲ，１３ａＲ，１５ａＳ。 １６ａＲ＋−５，８ａ　、　１３．’ｌ　６ａ−テトラ
キス（３−メチル−２−ダテ”−）’　）−５，５ａ　
、　８．８ａ　。 １３．１３ａ　、　１６．１６ａ−オクタヒドロピケジ
ノ［１，２−１，５：　４．５−１，５　）ジビロロＣ
２，３−１）：２，３−ｂ〕ジインドール−乙１５［７
ａＨ。 １５ａＨ］−］ジオン６５Ｉｎｙｋエタノー／’５　ｍ
ｌに溶解し、二酸化白金２０ｆｆｉ＆を加え、室温、常
圧にて４５分間接触還元する。触媒をＰ去し、ｐ液を減
圧乾固して得た残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー（展開溶媒：クロロホルム）に（＝Ｊ’　して稍製し
、Ｌ　５ａＲ，７ａｓ　、８ａＲ、１３ａＲ。 １５ε、Ｓ　、　１６ａＲ＋−５，８ａ　、　１３．１
６ａ−テトライソベンチルー５．５ａ　、　８．８ａ　
、　１３．１３ａ　。 １６．１６ａ−オクタヒドロピラジノ［１，２−１，５
／ｌ／／ｌ／ ：４，５−１．５）ジピロロＣ２，３−１）　：　２．
）−１）　〕〕ジインドールー乙１５＋７ａｎ、１５ａ
ａ＋ジオン１７．５１１１＆を得る。 （ａ）Ｄ＋２０２．４°Ｉ　Ｃ＝０．８７５　、　ｃＨ
Ｂ３）ｕｖλＥｔ０Ｈｎｍｔεｌ；２５２（２３，６１
１０＋、３０３（５，９０［］　ＩＡＸ 工Ｒｖ：星’３Ｃｓ”；２９５０．１６７５．１６０５
．１４８０゜５９０ ｔｎＭＲｔｃＤｃ／（３，ｐｐｍ１；７．１〜６．３ｔ
　８Ｈ、ｍ　＋　、　５．５５［２Ｈ，ｓｌ、４．３８
ｔ２Ｈ，ｔ、Ｊ＝９ｒ＋ｚ＋。 ３．４〜３．３［４Ｈ、ｍ　＋　、２．３７＋　４Ｈ、
ｄ　、Ｊ＝９Ｈ２１，２，０〜１．１＋１６Ｈ，ｍ＋、
１．Ｄ　〜０．７５＋２４Ｈ，ｒｒ＋＋ ＭＳ　ｍ／ｚ　；　５８１−５９５−６５２　（Ｍ＋１
（５ａＳ　、７　ａＳ　、３ａｓ　、　１３ａＳ、　１
５ａｓ。 １６ａＳ　＋−５，８ａ　、　１３．１６ａ−テトラキ
ス【５−メチル−２−ブテニ）Ｖ　ｌ−５，５ａ　、　
８．３ａ　。 １３．１３ａ　、　１６．１６ａ−オクタヒドロピラジ
ノ（１，２−１，５：　４，５−１．５　）ジビロロ［
２，３−ｂ：２．３−ｂ）ジインドール−７，１５（７
ａＨ。 １５ａＩ（ｌ−ジオン４０■を酢酸エチル５ｍＪに浴解
し、二酸化白金５０Ｑ７’（ｒ加え、室温、常圧にて６
０分間接馳還元する。触ｔＪＸ全沖去し、ろ液會減圧乾
固して得らｎた残渣をシリカゲル４層クロマトグラフィ
ー【展開剤クロロホルム）に付して粕製し、ｔ５ａ３．
７ａｓ、３ａ３．１３ａ３゜１５ａ３　、１６ａＳ　＋
−５，３ａ　、　１３．１６ａ　−−ｒｌ−ラインベン
チ）Ｖ−５，５ａ　、　８．８　ａ　、　１３．１３　
ａ　。 １６．１６ａ−オクタヒドロピラジノＣＩ、２−１．５
：４．５−１，５）ジビロロ（２，３−ｂ　：　２．３
−１）　）ジインドール−７，１５＋　７ａＨ，１５ａ
ａ　］−ジオン２８Ｍｙ′ｆｆ：得る。 ［ａ）Ｄ−４’５５．３°Ｉ　Ｃ＝１．２５．ＣＨＣｇ
３１ＵＶ　２””０Ｈｎｍｔ　Ｅ　ｌ　；２５４（２０
，４Ｄ［］　］　、３１０（５，３００１ＡＸ 工Ｅｔ　１’：：財３Ｇ＋　１；２９５０．１６５５．
１６００．１４９ＯＮＭＲ［ＣＤＣ１１３，１）Ｉｌｍ
ｌ　ｉ７．１〜６６２　（３Ｈ、ｍ　＋　、５．５７ｔ
２Ｈ１ｓ＋、４．１１＋２ｎ、ｄｄ、Ｊ＝６ｕｚおよび
１ｉＨｚ１．３．５−３．３＋４ａ、ｍ＋。 ２．７ｆ２Ｈ６ｄｄ、、Ｊ−６Ｈｚおよび１１Ｈｚ］。 ２．１　（２Ｈ、ｄｄ　、　Ｊ＝１１　Ｈｚ　＋　、　
１．９〜１．０７＋　１６Ｈ，ｍ＋、１．０〜０．７７
＋２４Ｈ，ｒｒ＋＋ＭＳ　ｍ／ｚ；６５２＋Ｍ＋１ 実施例１ろ （２ｓ、、３ａ８．３ａＳ　１−１−ベンジルオキシカ
ルボニル−３ａ、８〜ビス＋３−メチル−２−〕゛テテ
ニル２−ヌクシンイミドオギシ力ｌレボニル−１，２，
３，３ａ　、　８．８　＆−へキサヒドロピロロ（２，
３−ｂ）インドール２２８ｑを凸ト酸エチルに溶解し、
パラジウム黒５０　ｒＨｆｌと二酸化白金５０　Ｍ９葡
加え、室６ｉｌＸ□、４気圧で４時間接Ｉ（ｌＶ１１還
元する。触媒紫ｐ太し、ｊｊ液ケ減圧乾固して鍔られる
残渣ケシリカゲル薄層クロマトグラフィーにイス］シて
イｔＪ製して、＋５ａＳ、７ａＳ、８ａＳ、１３ａＳ。 １５ａｓ　、　１６ａｓ　）−５，８ａ　、　１３．１
６ａ−テトライソベンチルー５．５ａ　、　８．８ａ　
、　１３．１３ａ　。 １６．１６ａ−オクタヒドロビラジノ［４，２−１，５
：　４．５−１．５　、）ジビロロ［２，３−ｂ　：　
２’、ｉ−ｂ′〕ジインドール−乙１５ｆ７ａＨ，１５
ａＥ（ｌ−ジオン５１　Ｍ’ｊをれ）る。 このものの２ａ１層クロマトグラムおよび１浅器分伍１
＋ｉＬは、実施例１２の目的物質のそれらと一致した。 実施例１４ て Ｆ　２Ｓ　、３ａＲ、８ａＲ１−ｉ−ペンシルオキシカ
ｔｖホニルー２−メトキシ力！レポニ！レ−６ａ。 ８−ビス−（６−メチル−２−グチニルｌ−１，２゜３
．３　ａ　、　８．８　ａ−ヘキサヒドロピロロｃ２．
ろ−ｂ〕インドール２５　Ｄ　”、’／をメタノール５
ｍｌに溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウムυ６４ｔｌｌｋ加
え、アルゴン気流中−夜室温でかく拌する。反応面奮！
１２注とした後、ジエチルエーテルで抽出し、抽出層會
氷洗後乾燥する。反応面を減圧濃縮し、＋　２８．３ａ
Ｒ。 ３ａＲ＋−１−ペンシルオキシカルボニｔｌ／−３ａ。 ８−ビス−１６−メチル−２−ブテニ）ｖ＋　１．２＋
３．３　ａ　、　８．８ａ−へキサヒドロビロロロ２．
３−１））インドール−２−力７レボン酸６　Ｄ　ＩＩ
ＩＬＬ−得る。これと１９−ヒドロキシスクシンイミド
４０　’Ｉｋジオキサン５ａ＋ｅと酢酸エチル５肩ｅの
？Ｍ１４χに溶解し、水冷かく押下にＮ、Ｎ〜ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド７０肩１／に加える。次いで、
室温で一夜かく拌する。反応面を′／Ｊｊ過し、炉液を
減圧乾固して得られる残渣全呻畝エチルに浴解し、パラ
ジウム黒５０〃なと二酸化白金５０　”９ケ加え、室温
４気圧で５１１ｑ間接触還元する。反応液全濾過し一力
ｊ故を減圧乾固して摺られる残ン青を７リカゲルン！９
九゛ηクロマトグラフィーに付して精製して、ｔ５ａＲ
，７ａＳ。 ８ａＲ、ｉ　３ａＲ、１５ａＳ　、ｉ　６ａＲ）−５゜
８ａ、１３．１６ａ−テトライソベンチルー５．５ａ。 ８．８ａ　、　１３．１３ａ　、　１６．１６ａ−オク
タヒドロピフジＩＣ１，２−１，５：　４，５−１．５
　〕ジビロロＣ２，３−ｂ　：　２，３−’ｂ　〕ジイ
ンドール−乙１５（７ａＨ，１５ａＨ１−ジオン１０１
１１得る。 このものの薄層クロマトグラムおよび機器分析値は実施
例１０の目的物質のそれらと一致した。 特許出願人藤沢薬品工柴株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 （式中Ａは、２−ブテンシイリデン基またはテトラメチ
   レン基、Ｒは水素、低級アルキル基または低級アルケニ
   ル基、Ｒは水素、低級アｒ＆’ｔｔＶ基、低級アルケニ
   ル基またはアシル基すらびにＲ３およびＲ４はそれぞれ
   水素１１辷はＲ３とＲ４とがいっしょになってオキソ基
   ケそれぞれ、＠；味する１ で示キｆしるインドール誘導体またはその医薬として許
   容される塩（ただし、ＦＲ−９００２２０物質およびそ
   の医薬として許容される塩を除く］、（２１（ａ）　一
   般式 （式中へは、２−プテンジイリデン基ｌたはテトラメチ
   レン基、Ｒは水素、低級アルキル基、低級アルケニル基
   またはアシル基、Ｂｂは低級アルキル基をそれぞれ意１
   床するＪで示される化合物筐たはその塩會脱硫閉環反応
   に伺して一般式 （式中、ＡおよびＲ１は前と同じ℃、味）で示はれる化
   合物またはその塩を得るか、（式中、弓およびＲζはそ
   扛ぞれ低級アルケニルＬ　ＥＣ１はアミノ保護基をそれ
   ぞｔ託味する） で示きれる化合物音接触還元に何して、一般一友 （式中、ｎ％および峠は低級アルギル基を意味する） で示さ扛る化合物乞得るか、 （ｃｌ　一般式 （式中、ＡおよびＲ１は前と同じ意味）で示される化合
   物に水素化アルミニウムを作用させて、 一般式 （式中、ＡおよびＲはそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物を得るか、 （ｄ−＋　一般式 （式中、ＡおよびＲはそれぞれｎ：Ｊと同じ、Ｕ、味、
   ＲおよびＲｉｄそれぞれ水素またはＲ３とＲ４とがいっ
   しょになってオキソ基をそれぞれ意味する） で示される化合物またはその塩に一般弐ｏＸ （式中、Ｒ２は低級アルキル基筐たは低級アルケニル基
   、Ｘ　はハロゲンをそれぞれ意味する） で示される化合物を作用させて １ （式中、Ａ、　Ｒ１、Ｒ２Ｒ３およびＲ４は前と１ 同じ■味） で示される化合物葡得るか、 （ｅｌ　一般式 【式中、Ａ、　Ｒ１、Ｒ３およびＲ４は前と同じ意味） で示される化合物またはその塩に一般式【式中、Ｒ２は
   アシルハケ意味する】 で示さｎる有機１浚またはその反応性誘導体を作用させ
   て一般式 （式中、Ａ、Ｒ，Ｒ，、ＲおよびＲｉｂそれぞれ前と同
   じ意味） で示される化合物を得るか、 Ｃｆ）　一般式 （式中、Ａ、Ｒ１Ｒ３およびＲ４はそれぞれ１ 前と同じ意味、Ｒ２は水素または低級アルダニル基を意
   味する］ で示される化合物を接触最尤にイマ１して、一般式 （式中、Ａ−Ｒｂ、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ前と同じ
   意味、樽は水素または低級アルキル基ケ意味する） で示される化合物を得るか、 （式中、Ａ、Ｒも、Ｒ２，Ｒ３およびＲ４ばそれぞれ１
   ″＋ｉＪと同じ石、味） （式中、Ａ、Ｒも、ＲしＲ３およびＲ４はそれぞれ前と
   同じ怠■未） で示される化合物欠得るか、または （ｈ１式 で示される化合物またはその塩に一般式ｘ　５　Ｒｅ （式中、Ｒｏは低級アルギル基または低級アルケニル基
   、Ｘ５はハロゲンをそれぞれ意味する） で示される化合物音作用させて、一般式（式中、Ｒａお
   よびＲ２Ｕそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物を得ることを特徴とする一般式 （式中、Ａ、Ｒ１、Ｒ３およびＲはそれぞれ前と同じ意
   味、Ｒ２は水素、低級アルキル基、低級アルケニル基ま
   たはアシル基を意味する）で示される化合物なたはその
   塩類の製造法。