JPS6042411A - 含フツ素共重合体の製造法 - Google Patents
含フツ素共重合体の製造法Info
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- JPS6042411A JPS6042411A JP14959283A JP14959283A JPS6042411A JP S6042411 A JPS6042411 A JP S6042411A JP 14959283 A JP14959283 A JP 14959283A JP 14959283 A JP14959283 A JP 14959283A JP S6042411 A JPS6042411 A JP S6042411A
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な含フツ素メタクリル酸エステル共重合体
およびその製造方法に関するものであシ、具体的には、
α−トリフルオロメチルアクリレートとビニルエーテル
全ラジカル共重合することによシ得られる新規な含フツ
素共重合体に関するものである。
およびその製造方法に関するものであシ、具体的には、
α−トリフルオロメチルアクリレートとビニルエーテル
全ラジカル共重合することによシ得られる新規な含フツ
素共重合体に関するものである。
含フツ素メタクリル酸エステルあるいは含フツ素アクリ
ル酸エステル類は工業的に重要なポリマーを与える。特
にフッ素系の機能性が生かされる分野、冬とえばフッ素
の撥水撥油機能を生かした繊維処理剤、耐薬品性を生か
したフッ素系ゴムあるいはプラスチック、低屈折率を生
かしたプラスチック光学繊維、その他レジスト材料やコ
ンタクトレンズおよび歯科用などの医用材料への応用が
検討され、実用化されているものも多い。しかるに1従
来使用されてきた前水素原子またはメチル基、RHはフ
ッ素原子および水素原子を含むアルキル基)で示される
ものが多く、エステル基部分がフッ素原子を含む化合物
であった。たとえば、繊維加工用の撥水撥油剤トして、
パーフルオロアルキル基(Rf基)を含む、含フツ素ア
ク111ノートと炭化水素系他モノマーとの共重合体が
広範に使用されていることは周知のとおりである。
ル酸エステル類は工業的に重要なポリマーを与える。特
にフッ素系の機能性が生かされる分野、冬とえばフッ素
の撥水撥油機能を生かした繊維処理剤、耐薬品性を生か
したフッ素系ゴムあるいはプラスチック、低屈折率を生
かしたプラスチック光学繊維、その他レジスト材料やコ
ンタクトレンズおよび歯科用などの医用材料への応用が
検討され、実用化されているものも多い。しかるに1従
来使用されてきた前水素原子またはメチル基、RHはフ
ッ素原子および水素原子を含むアルキル基)で示される
ものが多く、エステル基部分がフッ素原子を含む化合物
であった。たとえば、繊維加工用の撥水撥油剤トして、
パーフルオロアルキル基(Rf基)を含む、含フツ素ア
ク111ノートと炭化水素系他モノマーとの共重合体が
広範に使用されていることは周知のとおりである。
本発明における含フツ素メタクリル酸エステ系まtはフ
ッ素系アルキル基)で示される。α−トリフルオロメチ
ルアクリレートである。この化合物は、機能性ポリマー
原料として、従来とは異々る特異なポリマーを与えるも
のと期待される。しかし、このモノマーは、n−ブチル
リチウムやピリジン触媒によるアニオン重合が可能であ
るが、過酸化ベンゾイルのようなラジカル開始剤でラジ
カル単独重合を行わない。
ッ素系アルキル基)で示される。α−トリフルオロメチ
ルアクリレートである。この化合物は、機能性ポリマー
原料として、従来とは異々る特異なポリマーを与えるも
のと期待される。しかし、このモノマーは、n−ブチル
リチウムやピリジン触媒によるアニオン重合が可能であ
るが、過酸化ベンゾイルのようなラジカル開始剤でラジ
カル単独重合を行わない。
また、メタクリル酸メチルなどのラジカル共重合により
共重合体が得られているが、α−トリフルオロメチルア
クリレート含有量の大きい共重合体を収率よく得るには
長い重合時間を必要とする。(参考文献: H1ros
hi工しo et、al、。
共重合体が得られているが、α−トリフルオロメチルア
クリレート含有量の大きい共重合体を収率よく得るには
長い重合時間を必要とする。(参考文献: H1ros
hi工しo et、al、。
Macromolecules 15 915〜920
(1982) )以上のような結果をふまえ本発明で
は本来ラジカル単独重合性のないα−トリフルオロメチ
ルアクリレートと他モノマーとの共重合を種々試みた結
果、ビニルエーテル類とよくラジカル共重合することを
見出した。この共重合においては、ビニルエーテル類も
通常カチオン単独重合するのみで、ラジカル単独重合し
ない。このように、ラジカル単独重合性のない二つのモ
ノマーの組み合わせにより、共重合が収率よく進行する
ことは交互共重合体に近いモノマー組成比を有する共重
合体が生成すると共に、共重合体自身も特異な性質を現
出できる可能性がある。
(1982) )以上のような結果をふまえ本発明で
は本来ラジカル単独重合性のないα−トリフルオロメチ
ルアクリレートと他モノマーとの共重合を種々試みた結
果、ビニルエーテル類とよくラジカル共重合することを
見出した。この共重合においては、ビニルエーテル類も
通常カチオン単独重合するのみで、ラジカル単独重合し
ない。このように、ラジカル単独重合性のない二つのモ
ノマーの組み合わせにより、共重合が収率よく進行する
ことは交互共重合体に近いモノマー組成比を有する共重
合体が生成すると共に、共重合体自身も特異な性質を現
出できる可能性がある。
本発明における、α−トリフルオロメJ−ルアクリ1ノ
ートトビニルエーテルとの共重合体は通常のラジカル開
始剤の存在下、溶層重合、乳化重合、懸濁重合または塊
状重合方法によシ該モノマーを共重合させて得ることが
でき、る。該モノマー仕込組成は、通常α−トリフルオ
ロメチルアク’JT/)/ビニルエーテル仕込モル比2
0/80〜80/20モル;チC1、好ましくは40/
60〜60/40モルチが共重合体収率に好結果をもた
らす。このようなモノマー仕込組成で得られる共重合体
中のモノマー組成比は概して、1対1に近い。
ートトビニルエーテルとの共重合体は通常のラジカル開
始剤の存在下、溶層重合、乳化重合、懸濁重合または塊
状重合方法によシ該モノマーを共重合させて得ることが
でき、る。該モノマー仕込組成は、通常α−トリフルオ
ロメチルアク’JT/)/ビニルエーテル仕込モル比2
0/80〜80/20モル;チC1、好ましくは40/
60〜60/40モルチが共重合体収率に好結果をもた
らす。このようなモノマー仕込組成で得られる共重合体
中のモノマー組成比は概して、1対1に近い。
共重合対製造における重合温度は−30℃〜100℃好
ましくは0℃〜70℃が適当である。ラジカル開始剤の
種類としては、油溶性ラジカル開始剤として、例えばジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリイ
ブチルパーオキシピバレート、ジー2−エチルヘキシル
パーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキシド、
プロピオニルパーオキシド、トリクロルアセチルパーオ
キシド、パーフルオロブチリルパーオキシド、パーフル
オロオクタノイルパーオキシド等の過酸化物、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレ
ロニトリル等のアゾ化合物、あるいはトリエチルボロン
−酸素又は過酸化物、トリイソブチルボロン−酸素又は
過酸化物等のボロン系化合物があげられ、水溶性開始剤
として、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸カリウム
およびこれらと金属塩を組み合わせたレドックス系ラジ
カル開始剤があげられる。
ましくは0℃〜70℃が適当である。ラジカル開始剤の
種類としては、油溶性ラジカル開始剤として、例えばジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、ターシャリイ
ブチルパーオキシピバレート、ジー2−エチルヘキシル
パーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキシド、
プロピオニルパーオキシド、トリクロルアセチルパーオ
キシド、パーフルオロブチリルパーオキシド、パーフル
オロオクタノイルパーオキシド等の過酸化物、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレ
ロニトリル等のアゾ化合物、あるいはトリエチルボロン
−酸素又は過酸化物、トリイソブチルボロン−酸素又は
過酸化物等のボロン系化合物があげられ、水溶性開始剤
として、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸カリウム
およびこれらと金属塩を組み合わせたレドックス系ラジ
カル開始剤があげられる。
4し
溶媒は限定しないが、重合方法により水あるいは通常の
有機炭化水素系化合物あるいはフッ素系有機化合物が使
用される。水系の場合は分散安定剤として懸濁剤あるい
は乳化剤を使用するのが通常である。
有機炭化水素系化合物あるいはフッ素系有機化合物が使
用される。水系の場合は分散安定剤として懸濁剤あるい
は乳化剤を使用するのが通常である。
α−トリフル寸ロメチルアクリレートとしてはメチル
α−トリフルオロメチルアクリレート、エチル a−ト
リフルオロメチルアクリレート、n−7’口ビル α−
トリフルオロアクリレート、イングロピル a−)リフ
ルオロメチルアクリレート、tf3rt−ブチル a−
)リフルオロメチルアクリレート、イソブチル a−)
リフルオロメチルアクリレートのような低級脂肪族系ア
ルコールとQ )リフルオロメチルアクリル酸とのエス
テル、高級脂肪族系アルコールとのエステル、2価アル
コールとのエステル、あるいは2,2.2−)リフルオ
ロエチル a−)リフルオロメチルアクリレート、工H
,XH−へブタフルオロブチル α−トリフルオロメチ
ルアクリレート、IH,IH,7H−ドデカフルオロへ
ブチルα−トリフルオロメチルアクリレート、IH,I
H−ペンタデカフルオロオクチル α−トリフルオロメ
チルアクリレート、ヘキサフルオロイングロビル a−
)リフルオロメチルアクリレートのようなフッ素アルコ
ールとのエステルがあげられる。
α−トリフルオロメチルアクリレート、エチル a−ト
リフルオロメチルアクリレート、n−7’口ビル α−
トリフルオロアクリレート、イングロピル a−)リフ
ルオロメチルアクリレート、tf3rt−ブチル a−
)リフルオロメチルアクリレート、イソブチル a−)
リフルオロメチルアクリレートのような低級脂肪族系ア
ルコールとQ )リフルオロメチルアクリル酸とのエス
テル、高級脂肪族系アルコールとのエステル、2価アル
コールとのエステル、あるいは2,2.2−)リフルオ
ロエチル a−)リフルオロメチルアクリレート、工H
,XH−へブタフルオロブチル α−トリフルオロメチ
ルアクリレート、IH,IH,7H−ドデカフルオロへ
ブチルα−トリフルオロメチルアクリレート、IH,I
H−ペンタデカフルオロオクチル α−トリフルオロメ
チルアクリレート、ヘキサフルオロイングロビル a−
)リフルオロメチルアクリレートのようなフッ素アルコ
ールとのエステルがあげられる。
ビニルエーテル類としては、 ビニルメチルエーテル、
ビニルエチルエーテル、ビニル−nブチルエーテル、ビ
ニル−イソブチルエーテル、ビニル−2−クロルエチル
エーテル、ビニルシクロヘキシルエーテル、ビニル−2
エチルヘキシルエーテル、ビニル−インオクチルエーテ
ル、ビニル−nオクタデシルエーテル、ビニルステアリ
ルエーブルのような炭化水素系ビニルエーテル類があげ
られる。
ビニルエチルエーテル、ビニル−nブチルエーテル、ビ
ニル−イソブチルエーテル、ビニル−2−クロルエチル
エーテル、ビニルシクロヘキシルエーテル、ビニル−2
エチルヘキシルエーテル、ビニル−インオクチルエーテ
ル、ビニル−nオクタデシルエーテル、ビニルステアリ
ルエーブルのような炭化水素系ビニルエーテル類があげ
られる。
モノマーの純度は通常のラジカル重合に支障ない不純物
を含まなければ98%ガスクロマトグラフィー純度でよ
い。
を含まなければ98%ガスクロマトグラフィー純度でよ
い。
また、共重合体の分子量は特に規定はなく、オイル、グ
リース状の低分子量のポリマーからゴムあるいはプラス
チックへ到る高分子量のポリマーまで、共重合条件を制
御することによシ得られる。
リース状の低分子量のポリマーからゴムあるいはプラス
チックへ到る高分子量のポリマーまで、共重合条件を制
御することによシ得られる。
以上のような含フツ素共重合体の用途例としては、撥水
撥油剤、レジスト材料、光学繊維用クラッド相特殊オイ
ルおよびグリース等の高機能性用途があげられる。
撥油剤、レジスト材料、光学繊維用クラッド相特殊オイ
ルおよびグリース等の高機能性用途があげられる。
以下、実施例によって本発明の詳細な説明する。
1施側1
2.2.2− トリフルオロエチル α−トリフルオロ
メチルアクリレ−) 11.5 f、 エチルビニルエ
ーテル5.6t、トリクロルトリフルオロエタン(溶媒
)150S’、過酸化ベンゾイルO,I5fをガラス製
反応缶に入れ振とう下、60℃で20時間の重合を行っ
た。重合溶液を大量のメタノール中に注いでポリマーを
析出させ、ついでメタノールで洗浄後真空乾燥を行い、
秤量した。
メチルアクリレ−) 11.5 f、 エチルビニルエ
ーテル5.6t、トリクロルトリフルオロエタン(溶媒
)150S’、過酸化ベンゾイルO,I5fをガラス製
反応缶に入れ振とう下、60℃で20時間の重合を行っ
た。重合溶液を大量のメタノール中に注いでポリマーを
析出させ、ついでメタノールで洗浄後真空乾燥を行い、
秤量した。
ポリマー収率は89%であった。生成ポリマーの赤外吸
収スペクトルは、1795cfnK O= 0 。
収スペクトルは、1795cfnK O= 0 。
1200〜I 300−6 ’にC−’F 、1120
fi’ に(!−0−Cの吸収が認められた。重水素化
アセトン溶液の’u−NMyベクトル(:TI)は−0
4,OF、4 、 lppm。
fi’ に(!−0−Cの吸収が認められた。重水素化
アセトン溶液の’u−NMyベクトル(:TI)は−0
4,OF、4 、 lppm。
−0n20H13、lppm、−OH*0HsO,4T
)pmに吸収を示した。
)pmに吸収を示した。
元素分析によるポリマー中の2.2.2− )リフルオ
ロエチル α−トリフルオロメチルアクリレ−トドエチ
ルビニルエーテルのモノマー組成比は53:47モル%
であった。
ロエチル α−トリフルオロメチルアクリレ−トドエチ
ルビニルエーテルのモノマー組成比は53:47モル%
であった。
比較例1
2.2.2− ) リフルオロエチル (1−)リフル
オロメチルアクリレート2Of、 )リクロルトリフル
オロエタンtso4酸化ベンゾイル0,15Vをガラス
製反応缶に入れ、振とう下60′Ctl″20時間の重
合を行ったが、ポリマーは得られなかった。
オロメチルアクリレート2Of、 )リクロルトリフル
オロエタンtso4酸化ベンゾイル0,15Vをガラス
製反応缶に入れ、振とう下60′Ctl″20時間の重
合を行ったが、ポリマーは得られなかった。
比較例2
文献(Macromolecules、 15915〜
920(+982))に従い、2,2.2−トリフルオ
ロエチル−α−トリフルオロメチルアクリレ−)22.
2f、ビリジン0.11 、テトラヒドロ7ラン90f
をガラス製反応缶に入れ、振とう下20℃で24時間重
合を行った8生成ポリマーはメタノールで洗浄後真空乾
燥を行い秤負した。ポリマー収率は76%であった。
920(+982))に従い、2,2.2−トリフルオ
ロエチル−α−トリフルオロメチルアクリレ−)22.
2f、ビリジン0.11 、テトラヒドロ7ラン90f
をガラス製反応缶に入れ、振とう下20℃で24時間重
合を行った8生成ポリマーはメタノールで洗浄後真空乾
燥を行い秤負した。ポリマー収率は76%であった。
実施例2
2.2.2− トリフルオロメチル α−トリフルオロ
メチルアクリレート11.IP、イソブチルビニルエー
テル5.IP、 )リクロルトリフルオロエタン(溶媒
) 1509.過酸化ベンゾイルO,I59をガラス製
反応缶に入れ、振とう下60℃で20時間の重合を行っ
た。メタノールで再沈後生成ポリマーを洗浄および真空
乾燥の結果71%の収率であった。ポリマーの赤外吸収
スペクトルは1770cm−’にCE == 0 、1
200−1300crrL’にC−F 、 lI20c
m ’にa−O−aの吸収が認められた。重水素化アセ
トン溶液の’H−、NMRスペクトル(:TMs)はで
あった。元素分析によるポリマー中の2 、2 、2−
トリフルオロエチル α−トリフルオロメチルアクリレ
ートとインブチルビニルエーテルのモノマー組成比は6
2:38モル%であった。
メチルアクリレート11.IP、イソブチルビニルエー
テル5.IP、 )リクロルトリフルオロエタン(溶媒
) 1509.過酸化ベンゾイルO,I59をガラス製
反応缶に入れ、振とう下60℃で20時間の重合を行っ
た。メタノールで再沈後生成ポリマーを洗浄および真空
乾燥の結果71%の収率であった。ポリマーの赤外吸収
スペクトルは1770cm−’にCE == 0 、1
200−1300crrL’にC−F 、 lI20c
m ’にa−O−aの吸収が認められた。重水素化アセ
トン溶液の’H−、NMRスペクトル(:TMs)はで
あった。元素分析によるポリマー中の2 、2 、2−
トリフルオロエチル α−トリフルオロメチルアクリレ
ートとインブチルビニルエーテルのモノマー組成比は6
2:38モル%であった。
実施例3
2.2.2−トリフルオロエチル α−トリフルオロメ
チルアクリレート11.1グ、n−ブチルビニルエーテ
ル5.Op、)リクロルトリフルオロエタン(溶媒)
150 r、過酸化ベンゾイル0,15fをガラス製反
応缶に入れ、振とう下60℃で20時間の重合を行った
。再沈後の生成ポリマーはメタノール洗浄および真空乾
燥の結果62%の収率であった。ポリマーの赤外吸収ス
ペクトルは1795cm’ にc = o 、1200
−t3oo、7’にa−o−cの吸収が認められた。重
水素化アセトン溶液のIHNMRスペクトルは一〇H2
CF、 4 、2 ppm 。
チルアクリレート11.1グ、n−ブチルビニルエーテ
ル5.Op、)リクロルトリフルオロエタン(溶媒)
150 r、過酸化ベンゾイル0,15fをガラス製反
応缶に入れ、振とう下60℃で20時間の重合を行った
。再沈後の生成ポリマーはメタノール洗浄および真空乾
燥の結果62%の収率であった。ポリマーの赤外吸収ス
ペクトルは1795cm’ にc = o 、1200
−t3oo、7’にa−o−cの吸収が認められた。重
水素化アセトン溶液のIHNMRスペクトルは一〇H2
CF、 4 、2 ppm 。
−OH,OH,OH,CH33,1ppm 、 −CH
岨H20H1(!H,0,9ppm 、 −CH2OH
2CH20H10,35ppmであった。元素分析によ
るポリマー中の2.2.2−トリフルオロエチル α−
トリフルオロメチルアクリレートとn−ブチルビニルエ
ーテルのモノマー組成比は65:35モル%であった。
岨H20H1(!H,0,9ppm 、 −CH2OH
2CH20H10,35ppmであった。元素分析によ
るポリマー中の2.2.2−トリフルオロエチル α−
トリフルオロメチルアクリレートとn−ブチルビニルエ
ーテルのモノマー組成比は65:35モル%であった。
実施例4
ヘキサフルオロイングロビル a−hリフルオロメチル
アクリレート14.9f’、エチルビニルエーテル3.
6F、)リクロルトリフルオロエタン(溶媒)1501
F、過酸化ベンゾイル0,15fをガラス製反応缶に入
れ、振とう下6o℃で20時間の重合を行った。重合溶
液を大量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、
っ−でメタノール洗浄後真空乾燥したところ、71%の
収率であった。ポリマーの赤外吸収スペクトルは179
0Cm’にa==、o、12oo〜】3ooc1rLに
O−F。
アクリレート14.9f’、エチルビニルエーテル3.
6F、)リクロルトリフルオロエタン(溶媒)1501
F、過酸化ベンゾイル0,15fをガラス製反応缶に入
れ、振とう下6o℃で20時間の重合を行った。重合溶
液を大量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、
っ−でメタノール洗浄後真空乾燥したところ、71%の
収率であった。ポリマーの赤外吸収スペクトルは179
0Cm’にa==、o、12oo〜】3ooc1rLに
O−F。
1060ctrL−K O−0−0の吸収が藤められた
。
。
重水素化アセトン溶液の’H−NMRスペクトルl\。
F3
ppm 、 −0)(l 0H30j ppmに吸収を
示した。元素分析による小すマー中のへキサフルオロイ
ソプロピル α−トリフルオロメチルアクリレートとエ
チルビニルエーテルのモノマー組成比ハ59:41モル
%であった。
示した。元素分析による小すマー中のへキサフルオロイ
ソプロピル α−トリフルオロメチルアクリレートとエ
チルビニルエーテルのモノマー組成比ハ59:41モル
%であった。
実施例5
実施例4と同様にして、ヘキサフルオロイソグロビル
q−トリンルオロメチルアクリL/−トドエチルビニル
エーテルの仕込みモノマー組成を変化させて重合を行っ
た。モノマー仕込み組成とポリマー収率およびポリマー
中のモノマー組成比の関係を図1に示した。
q−トリンルオロメチルアクリL/−トドエチルビニル
エーテルの仕込みモノマー組成を変化させて重合を行っ
た。モノマー仕込み組成とポリマー収率およびポリマー
中のモノマー組成比の関係を図1に示した。
この結果よりポリマーは交互性のよい共重合体であると
考えられる。
考えられる。
実施例6
ヘキザフルオロイングロビル α−トリフルオロメチル
アクリレート14.51F、インブチルビニルx −チ
ル5.Of、) ’) クロルトリフルオロエタン(溶
媒)150?、過酸化ベンゾイル0.152をガラス製
反応缶に入れ、振とう下60’Cで20時間の重合を行
った。生成ポリマーはメタノール洗浄後真空乾燥の結果
56%の収率であった。ポリマーの赤外吸収スペクトル
は1rqo、、;’にO”” 01200〜+300J
’にO−F 、 +200cWi”にC−0−Cの吸収
が認められた。重水素化アセ・トン溶液の’ H−NM
RスペクトルC: T M S )はに吸収を示した。
アクリレート14.51F、インブチルビニルx −チ
ル5.Of、) ’) クロルトリフルオロエタン(溶
媒)150?、過酸化ベンゾイル0.152をガラス製
反応缶に入れ、振とう下60’Cで20時間の重合を行
った。生成ポリマーはメタノール洗浄後真空乾燥の結果
56%の収率であった。ポリマーの赤外吸収スペクトル
は1rqo、、;’にO”” 01200〜+300J
’にO−F 、 +200cWi”にC−0−Cの吸収
が認められた。重水素化アセ・トン溶液の’ H−NM
RスペクトルC: T M S )はに吸収を示した。
元素分析によるポリマー中のへキサンルオロイングロビ
ル α−トリフルオロメチルアクリレートとイソブチ/
lビニルエーテルのモノで一組成比は65:35モル%
であった。
ル α−トリフルオロメチルアクリレートとイソブチ/
lビニルエーテルのモノで一組成比は65:35モル%
であった。
第1図は実施例5におけるモノマー仕込組成と、けリマ
ー収率およびポリマー中のモノマー組成比の関係を示し
たものである。 特許出願人 セントラル硝子株式会社 財団法人 相模中央化学研究所
ー収率およびポリマー中のモノマー組成比の関係を示し
たものである。 特許出願人 セントラル硝子株式会社 財団法人 相模中央化学研究所
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 は7ツ素系アルキル基)で示される含フッ素R′ 化水素系アルキル基)で示されるビニルエーテルをラジ
カル重合開始剤の存在下共重合させることを特徴とする
含フツ索具重合体の製造法 ポリフルオロアルキル基 111は低級アルキル基、水
素原子、またはRf基)で示される含フツ素メタクリル
酸エステルを用いる、特許請求の範囲第1項記載の方法
。 3)式 OH,=CHにおいてR−’ −CnH2n+
1 (’ nは1 整数)で示されるビニルエーテル類を用いる特許請求の
範囲第1項記載の方法。 4)式 (R,R’Fi特許請求の範囲第1項と同称)のモノマ
ー単位からなることを特徴とする特許請求の範囲第五項
記載の方法によって得られた含フツ素共重合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14959283A JPS6042411A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | 含フツ素共重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14959283A JPS6042411A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | 含フツ素共重合体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042411A true JPS6042411A (ja) | 1985-03-06 |
| JPH0333169B2 JPH0333169B2 (ja) | 1991-05-16 |
Family
ID=15478568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14959283A Granted JPS6042411A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | 含フツ素共重合体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042411A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6354411A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-08 | Kao Corp | ワツクス状フツ素含有共重合体 |
| WO2006016649A1 (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-16 | Kuraray Medical Inc. | 歯科用重合性組成物 |
| US7060771B2 (en) | 2000-12-28 | 2006-06-13 | Central Glass Company, Limited | Transparent fluorine-containing copolymer |
| US7354693B2 (en) * | 2004-08-05 | 2008-04-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymer, resist protective coating material, and patterning process |
| US7358027B2 (en) * | 2002-03-04 | 2008-04-15 | International Business Machines Corporation | Copolymer for use in chemical amplification resists |
| US9709891B2 (en) | 2005-12-09 | 2017-07-18 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition |
-
1983
- 1983-08-18 JP JP14959283A patent/JPS6042411A/ja active Granted
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6354411A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-08 | Kao Corp | ワツクス状フツ素含有共重合体 |
| US7060771B2 (en) | 2000-12-28 | 2006-06-13 | Central Glass Company, Limited | Transparent fluorine-containing copolymer |
| US7417100B2 (en) | 2000-12-28 | 2008-08-26 | Central Glass Company, Limited | Transparent fluorine-containing copolymer |
| US7358027B2 (en) * | 2002-03-04 | 2008-04-15 | International Business Machines Corporation | Copolymer for use in chemical amplification resists |
| US7479364B2 (en) | 2002-03-04 | 2009-01-20 | International Business Machines Corporation | Copolymer for use in chemical amplification resists |
| US7354693B2 (en) * | 2004-08-05 | 2008-04-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymer, resist protective coating material, and patterning process |
| WO2006016649A1 (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-16 | Kuraray Medical Inc. | 歯科用重合性組成物 |
| US7683103B2 (en) | 2004-08-11 | 2010-03-23 | Kuraray Medical Inc. | Dental polymerizable composition |
| US9709891B2 (en) | 2005-12-09 | 2017-07-18 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition |
| EP1795960B1 (en) * | 2005-12-09 | 2019-06-05 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition, pattern forming method using the positive resist composition, use of the positive resit composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0333169B2 (ja) | 1991-05-16 |
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