JPS6043341B2 - カルボスチリル誘導体 - Google Patents

カルボスチリル誘導体

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JPS6043341B2
JPS6043341B2 JP9353377A JP9353377A JPS6043341B2 JP S6043341 B2 JPS6043341 B2 JP S6043341B2 JP 9353377 A JP9353377 A JP 9353377A JP 9353377 A JP9353377 A JP 9353377A JP S6043341 B2 JPS6043341 B2 JP S6043341B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
compound
general formula
acid
dihydrocarbostyryl
Prior art date
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Expired
Application number
JP9353377A
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English (en)
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JPS5427574A (en
Inventor
孝夫 西
敬 上田
量之 中川
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なりルボスチリル誘導体に関する。
本発明の化合物は新規化合物であつて、一般式 、 〔
I〕 〔式中Rは水素原子、低級アルキル基又はピリジルアル
キル基を、カルボスチリル骨格の3.4位の結合は一重
結合又は二重結合を夫々示す。
〕で表わされる。該化合物は消炎作用、血小板凝集抑制
作用、抗菌作用及び血液中の脂質含有量特にコレステロ
ール、ホスホリピド、トリグリセリド等の含有量を低下
させる作用を有し、消炎剤、血栓予防剤、抗菌剤、動脈
硬化症の治療及ひ予防薬等として有用である。上記一般
式〔I〕に於て、Rで示される低級アルキル基としては
炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状アルキル基を挙げる
ことができ、具体的にはメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、sec−ブチル基等を例示でき、
またピリジルアルキル基としては炭素数1〜4の直鎖も
しくは分枝状のアルキレン基とピリジル基とが結合した
基を挙げることができ、具体的には3−ピリジルメチル
、2−(ピリジンー3−イル)エチル、3−(ピリジン
ー4−イル)プロピル、1・1−ジメチルー2−(ピリ
ジンー3−イル)エチル、2−メチルー3−(ピリジン
ー2−イル)プロピル、4−(ピリジンー2−イル)ブ
チル基等を例示できる。
本発明化合物のうち代表的なものを以下に掲げる。
06−カルボキシー 3.4−ジヒドロカルボスチリル
06−カルボキシカルボスチリル○6−エトキシカルボ
ニルー3●4−ジヒドロカルボスチリル○6−エトキシ
カルボニルカルボスチリル06−(3−ピリジルメトキ
シカルボニル)−3・4−ジヒドロカルボスチリル06
−(3−ピリジルメトキシカルボニル)カルボスチリル
06−(Sec−ブトキシカルボニル)−3●4−ジヒ
ドロカルボスチリル○6−イソプロポキシカルボニルカ
ルボスチリル○6−ブトキシカルボニルー3●4−ジヒ
ドロカルボスチリル06−〔2(ピリジンー3−イル)
エトキシカルボニル〕−3●4−ジヒドロカルボスチリ
ル06−〔2−メチルー3−(ピリジンー2−イル)プ
ロポキシカルボニル〕カルボスチリル06−〔3−(ピ
リジンー4−イル)プロポキシカルボニル〕−3●4−
ジヒドロカルボスチリノレ06−〔1●1−ジメチルー
2−(ピリジンー3ーイル)エトキシカルボニル〕一カ
ルボスチリZノレ上記一般式〔1〕で表わされる本発明
の化合物は種々の方法により製造されるが、例えば下式
に示す如くして製造される。
(上記に於てXはハロゲン原子を示す。
)即ち一般式〔■〕で表わされる公知のアセチルカルボ
スチリル誘導体とハロゲンとを反応させて一般式〔■〕
で表わされるα−ジハロゲノアセチルカルボスチリル誘
導体を得、次いでこれに塩基性化合物を反応させて本発
明の一般式〔1−1〕で表わされるカルボスチリル誘導
体が製造される。
また一般式〔1−1〕の化合物をエステル化して下記一
般式〔1−2〕で表わされるカルボスチリル誘導体が製
造される。〔式中R″は低級アルキル基又はピリジルア
ルキル基〕一般式〔■〕の化合物とハロゲンとの配合割
合は特に限定されず広い範囲内で適宜選択されるが、通
常前者に対して後者を2〜5倍モル、好ましくは2〜3
倍モル量用いるのがよい。
一般式〔■〕の化合物とハロゲンとの反応は通常溶媒中
で行なわれる。用いられる溶媒としてはテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸、プロピオン酸
等のカルボン酸類、ベンゼン等の芳香族炭化水素、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を例示でき
る。該反応に於ては副生するハロゲン化水素を除去する
ために脱酸剤として炭酸カルシウム等を添加してもよい
。該反応は通常0〜50℃で行なうのがよく、通常数時
間〜2麟間程度で反応終了する。一般式〔■〕の化合物
から一般式〔1−1〕の化合物を得る反応は塩基性化合
物の存在下水溶液中にて行なうのがよい。
塩基性化合物としては公知のものを広く使用でき、例え
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム等のアルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類金属
水酸化物等を挙げることができる。塩基性化合物の使用
量としては特に限定されず広い範囲内で選択されるが、
一般には一般式〔■〕の化合物に対して2倍モル〜大過
剰量使用するのがよい。該反応は通常50〜150℃、
好ましくは70〜120℃で行なうのがよく、通常1〜
1満間程度で反応は終了する。一般式〔1−1〕で表わ
される化合物と一般式〔式中R″は前記に同じ〕で表わ
されるアルコール類とのエステル化反応は、通常のエス
テル化反応の条件下で行なわれる。上記反応は通常触媒
の存在下に行なわれる。触媒としてはエステル化反応に
慣用の触媒がいずれも用いられる。その具体例としては
、塩酸ガス、濃硫酸、リン酸、ポリリン酸、三フッ化ホ
ウ素、過塩素酸などの無機酸、トリフルオロ酢酸、トリ
クロロメタンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、p−
トシル酸、ベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸など
の有機酸、トリクロロメタンスルホン酸無水物、トリフ
ルオロメタンスルホン酸無水物などの酸無水物、塩化チ
オニル、アセトン、ジメチルアセタールなどが挙げられ
る。また酸性イオン交換樹脂も用いられる。また上記反
応は無溶媒もしくは溶媒の存在下で実施される。溶媒と
してはエステル化反応に慣用の溶媒が用いられる。その
具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、
クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテ
ル類などが挙げられる。更に上記反応は無水塩化カルシ
ウム、無水硫酸銅、油水硫酸カルシウム、五酸化リンな
どの乾燥剤の使用により有利に行われる。上記エステル
化反応において一般式〔1−1〕および〔■〕で表わさ
れる化合物の使用割合は、特に限定されず適宜に選択で
きるが、無溶媒の場合は前者に対して後者を大過剰用い
、溶媒を使用する場合は、前者に対して後者を等モル〜
5倍モル、好ましくは等モル〜2倍モル量程度用いるが
望ましい。反応温度は特に限定されないが、通常−20
〜200℃程度、好ましくは0〜150℃程度を採用で
きる。以上のようにして一般式〔1−2〕で表わされる
本発明化合物が製造される。
かくして得られる本発明化合物は反応終了後常法に従つ
て反応混合物から単離される。例えば溶媒を用いた場合
は之を留去するかあるいは水、石油エーテル、エーテル
、n−ヘキサン等て稀釈もしくは抽出することにより得
られる。得られた化合物は必要に応じて再結晶法、溶媒
抽出法、カラムクロマトグフフイー、薄層クロマトグフ
フイー等の通常の方法により更に精製をすることができ
る。以下に参考例及び実施例を掲げて本発明をよソー層
明らかにする。
参考例 酢酸100mtに6−アセチルー3・4−ジヒドロカル
ボスチリル15.1yを加えて溶解させ内温35〜40
℃に保ちつつ、Br2ll.2mlを含む酢酸10m1
溶液を3.時間を要して攪拌下滴下する。
反応液を一夜放置後析出晶を淵取し、少量の酢酸で洗浄
する。得られた結晶をエタノール溶媒にて活性炭処理を
し、エタノールから再結晶して炎黄色針状晶の6ージブ
ロモアセチルー3●4−ジヒドロカルボスチリル19.
5yを得る。融点168〜169.5得C実施例1 水250mLにNaOH26fを溶解させ90〜100
℃にて攪拌下6ージブロモアセチルー3・4−ジヒドロ
カルボスチリル35fを加えて3時間反応させる。
冷後、不溶物を淵去し、母液を濃塩酸に酸性として析出
晶を枦取し水洗する。得られた結晶をエタノールから二
度再結晶して淡黄色不定形晶の6−カルボキシー3・4
−ジヒドロカルボスチリル10.5fを得る。融点32
4.5〜32rC(分解) 実施例2 実施例1と同様にして反応を行ない、6ージブロモアセ
チルカルボスチリルから無色針状晶の6−カルボキシカ
ルボスチリルを得る。
融点353〜35rC 実施例3 エタノール300mtに6−カルボキシー3●4−ジヒ
ドロカルボスチリル3.8y及び濃流酸0.5m1を加
えて還流を5時間行う。
反応後、反応液を濃縮し、残にクロロホルム300m1
を加えて溶解させ、クロロホルム層を希NaHCO3水
、水で洗浄し、濃縮する。残をクロロホルムー石油エー
テルから再結晶して無色針状晶の6−エトキシカルボニ
ルー3・4−ジヒドロカルボスチリル3.1gを得る。
融点178〜179.5スC実施例4 実施例3と同様にして反応を行ない、6−カルボキシカ
ルボスチリルから無色針状晶の6−エトキシカルボニル
カルボスチリルを得る。
融点230.5〜23rC 実施例5 デイーン・スタークの装置をつけた300Tntのコル
ベンに6−カルボキシー3●4−ジヒドロカルボスチリ
ル2.0y..p−トルエンスルホン酸1水塩4.5y
13−ピリジンメタノール1.3y及びベンゼン200
Tn1をとり還流下、攪拌を8時間行う。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Rは水素原子、低級アルキル基又はピリジルアル
    キル基を、カルボスチリル骨格の3・4位の結合は一重
    結合又は二重結合を夫々示す。 〕で表わされるカルボスチリル誘導体。
JP9353377A 1977-08-03 1977-08-03 カルボスチリル誘導体 Expired JPS6043341B2 (ja)

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JP9353377A JPS6043341B2 (ja) 1977-08-03 1977-08-03 カルボスチリル誘導体

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JP9353377A JPS6043341B2 (ja) 1977-08-03 1977-08-03 カルボスチリル誘導体

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Publication Number Publication Date
JPS5427574A JPS5427574A (en) 1979-03-01
JPS6043341B2 true JPS6043341B2 (ja) 1985-09-27

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ID=14084925

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JPH02117662A (ja) * 1989-09-01 1990-05-02 Otsuka Pharmaceut Co Ltd カルボスチリル誘導体

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JPS5427574A (en) 1979-03-01

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