JPS6045957A - 情報記憶媒体製造用原盤の製造方法 - Google Patents
情報記憶媒体製造用原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS6045957A JPS6045957A JP15430583A JP15430583A JPS6045957A JP S6045957 A JPS6045957 A JP S6045957A JP 15430583 A JP15430583 A JP 15430583A JP 15430583 A JP15430583 A JP 15430583A JP S6045957 A JPS6045957 A JP S6045957A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- information signal
- layer
- photoresist
- laser beam
- master
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はたとえば光ディスク等の情報記憶媒体の製造に
用いられる情報記憶媒体製造用原盤の製造方法に関する
。
用いられる情報記憶媒体製造用原盤の製造方法に関する
。
たとえば光ディスク等の情報記憶媒体の製造に用いられ
る情報記憶媒体ツl造用原盤は、従来、第1図に示すよ
うに、基板1上にレーザ“一光に対する感度が具なる第
1と第2のフォトレジスト層2.3を積層して々る原盤
素月4に、強度が一定の第1のレーザービーム(レーザ
ー光)6と強度が情報信号にもとづいて変化する第2の
レーザービーム(レーザー光)6とを同時に照射したの
ち現像処理を施すことによシ、第2図に示すように、情
報信号用ビット7および情報信号再生用グループ8を形
成する方法で製造していた。
る情報記憶媒体ツl造用原盤は、従来、第1図に示すよ
うに、基板1上にレーザ“一光に対する感度が具なる第
1と第2のフォトレジスト層2.3を積層して々る原盤
素月4に、強度が一定の第1のレーザービーム(レーザ
ー光)6と強度が情報信号にもとづいて変化する第2の
レーザービーム(レーザー光)6とを同時に照射したの
ち現像処理を施すことによシ、第2図に示すように、情
報信号用ビット7および情報信号再生用グループ8を形
成する方法で製造していた。
しかしながら、この方法でり、第1.!=262のフォ
トレジストN2 e 3の感度の違いを利用1〜ている
ため、第1と第2のレーザービーム5。
トレジストN2 e 3の感度の違いを利用1〜ている
ため、第1と第2のレーザービーム5。
60強度の選択が難く、1〜かも、第1と第2のフォト
レジスト層2,3を密着して使用」、でいるため、その
密着部分で第1と第2のフォトレジスト層2.3の混合
が起り、第3図に示す工うにだれが生じるので、情報信
号用ピット7お工び情報信号再生用グループ8を所定の
大きさおよび高さに正確に形成することができない。
レジスト層2,3を密着して使用」、でいるため、その
密着部分で第1と第2のフォトレジスト層2.3の混合
が起り、第3図に示す工うにだれが生じるので、情報信
号用ピット7お工び情報信号再生用グループ8を所定の
大きさおよび高さに正確に形成することができない。
本発明は上記事情にもとづいてなされたもので、その目
的とするところは、情報信号用ビットおよび情報信号用
グループを所定の大きさおよび高さに正確に形成するこ
とができるとともに第1と第2の17−4N−光の強度
が制御し易い情報記憶媒体製造用原盤の製造方法を提供
することKある。
的とするところは、情報信号用ビットおよび情報信号用
グループを所定の大きさおよび高さに正確に形成するこ
とができるとともに第1と第2の17−4N−光の強度
が制御し易い情報記憶媒体製造用原盤の製造方法を提供
することKある。
本発明は、上記目的を達成するために、基板上に17−
ザー光に対する感度が異なる複数種のフォトレジスト層
を積層するとともにこれらフォトレジスト層のうち少な
くとも2種のフォトレジスト層間にフォトレジスト分離
層を介在してなる原盤素材に、強度が一定の第1のレー
ザー光と強LWが情報信号にもとづいて変化する第2の
17−ザー光とを照射することにより情報信号用ピット
および情報信号再生用グループを形成することを特徴と
するものである。
ザー光に対する感度が異なる複数種のフォトレジスト層
を積層するとともにこれらフォトレジスト層のうち少な
くとも2種のフォトレジスト層間にフォトレジスト分離
層を介在してなる原盤素材に、強度が一定の第1のレー
ザー光と強LWが情報信号にもとづいて変化する第2の
17−ザー光とを照射することにより情報信号用ピット
および情報信号再生用グループを形成することを特徴と
するものである。
以下、本発明の一実施例を第4図〜fi”: 5 Mを
参照しながら説明する。第4トI中77 itニガラス
等の基板であり、この基板ll上に、I/ −41’
−光に対して低感度のfX Jのフォト1ノダスト層1
2、たとえば8102等のフ、1−1−1./ダスト公
印層131およびレーザー光に対しで高感IJfのji
’、 2のフォトレジスト層14をこのII!It l
/7ニスビ゛ンコートにより積層して、原盤素材15全
形成する。
参照しながら説明する。第4トI中77 itニガラス
等の基板であり、この基板ll上に、I/ −41’
−光に対して低感度のfX Jのフォト1ノダスト層1
2、たとえば8102等のフ、1−1−1./ダスト公
印層131およびレーザー光に対しで高感IJfのji
’、 2のフォトレジスト層14をこのII!It l
/7ニスビ゛ンコートにより積層して、原盤素材15全
形成する。
ついで、この原盤素17 s l?−110径が1仁と
オーは0.8〜1.5 fitnで低強度の2’(’I
、’ 1017−−リ“−ビーム(レーリ′−光)16
と、直径が女と乏げ03〜0.511mで高強度の第2
のレーザ・−ビート(レーザー光)17を同光軸で同時
に照射する。このとき・第1のレーザービーム16 k
J: −”Mヴ11度とし、第2の17−ザービーム1
7は4t’を石+ ai七にもとづいて強度を変化さゼ
/・、f−とオーt:t 4+町f+4 (71号に対
応してオン・メツさせる。
オーは0.8〜1.5 fitnで低強度の2’(’I
、’ 1017−−リ“−ビーム(レーリ′−光)16
と、直径が女と乏げ03〜0.511mで高強度の第2
のレーザ・−ビート(レーザー光)17を同光軸で同時
に照射する。このとき・第1のレーザービーム16 k
J: −”Mヴ11度とし、第2の17−ザービーム1
7は4t’を石+ ai七にもとづいて強度を変化さゼ
/・、f−とオーt:t 4+町f+4 (71号に対
応してオン・メツさせる。
ついで、第2のフォトレジスト層14に現像処理を施す
。これにより、第5図に示すように第2のフォトレジス
ト層14の第1のレーザービーム16が照射さり、た部
分が切欠されて情報信号内生用グループ18が形成され
る。
。これにより、第5図に示すように第2のフォトレジス
ト層14の第1のレーザービーム16が照射さり、た部
分が切欠されて情報信号内生用グループ18が形成され
る。
ついで、この第2のフォトレジスト層14をマスクして
フォトレジスト分離R413をNI(4F(フッ化アン
モニウム)等でエツチングする。
フォトレジスト分離R413をNI(4F(フッ化アン
モニウム)等でエツチングする。
ついで、第1のフォトレジスト層12に現像処理を施す
。これにより、情報信号用ビット19が形成される。す
なわち、フォトレジスト分離層J3で低強度の第1のレ
ーザービーム16が吸収され、しかも第1のフォトレジ
スト層12が低強度であるため%第6図に示すように、
第1のフォトレジスト層12の第2のレーザービーム1
7が照射された部分のみが切欠されて情報信号用1ツト
19が形成される・以上より、情報記憶媒体製造用原盤
2oが形成される。
。これにより、情報信号用ビット19が形成される。す
なわち、フォトレジスト分離層J3で低強度の第1のレ
ーザービーム16が吸収され、しかも第1のフォトレジ
スト層12が低強度であるため%第6図に示すように、
第1のフォトレジスト層12の第2のレーザービーム1
7が照射された部分のみが切欠されて情報信号用1ツト
19が形成される・以上より、情報記憶媒体製造用原盤
2oが形成される。
以上の製造方法によれば、第1と第2のフォトレジスト
層12.14間にフォトレジスト分離層13を設てなる
原盤素材7.517. ffl; Jと第2の17−ザ
ービーム16.17を照射して情報信号用ビット19と
情報信号再生用グループ18を形成するため、第1とj
p、 2のフォトレジスト層12.14の混合がなく、
だ引、が牛j〕ないので、情報信号用ピット19および
1r目P信l再生用グループ18を所定の大きさおよび
高さに正確に形成することができ、しかも、pfl、’
1と第2のレーザービーム16 + 17の強度が制
御1111し易い。
層12.14間にフォトレジスト分離層13を設てなる
原盤素材7.517. ffl; Jと第2の17−ザ
ービーム16.17を照射して情報信号用ビット19と
情報信号再生用グループ18を形成するため、第1とj
p、 2のフォトレジスト層12.14の混合がなく、
だ引、が牛j〕ないので、情報信号用ピット19および
1r目P信l再生用グループ18を所定の大きさおよび
高さに正確に形成することができ、しかも、pfl、’
1と第2のレーザービーム16 + 17の強度が制
御1111し易い。
以上説明したように本発明VCXれtt−X、基析土に
レーザー光に対する感度がE々る複Et Jiliのフ
ォトレジスト層を積層するとともにこれらフ(トレジス
ト層のうち少なくとも2種のフォトレジスト層間にフォ
ト1/ダスト分離層を介在1〜1なる原盤素材に、強度
が一定の第1の1/−リ’−光と強度が情報信号にもと
づいて変化する第2のレーザー光を照射することlによ
り情報情号用ビットおよび情報信号再生用グループを形
成するようにしたかCつ、情報信号用ビットおよび情報
14且再生用グループを所定の大きさおよび高さにIF
、確に形成することができるとともに第1と[+2のレ
ーザー光の強度が制御し易い#優れた効果を奏する。
レーザー光に対する感度がE々る複Et Jiliのフ
ォトレジスト層を積層するとともにこれらフ(トレジス
ト層のうち少なくとも2種のフォトレジスト層間にフォ
ト1/ダスト分離層を介在1〜1なる原盤素材に、強度
が一定の第1の1/−リ’−光と強度が情報信号にもと
づいて変化する第2のレーザー光を照射することlによ
り情報情号用ビットおよび情報信号再生用グループを形
成するようにしたかCつ、情報信号用ビットおよび情報
14且再生用グループを所定の大きさおよび高さにIF
、確に形成することができるとともに第1と[+2のレ
ーザー光の強度が制御し易い#優れた効果を奏する。
第1図〜第3図は従来例を示すもので%第1図は原盤素
材に第1と第2のレーザービームを照射している状態を
示す断面図、第2図は原盤の斜視図、第3図は原盤の断
面図、第4図〜第6図は本発明の一実施例を示すもので
、第4図は原盤累月に第1と第2のレーザービームを照
射している状態を示す断面図、r毛5図は第2のフォト
レノスト層の現像状態を示す断面図、第6図は第1のフ
ォトレジスト層の現像状態を示す断面Mである。 1)・・・基板、12・・・第1のフォトレジスト層、
1.7・・・フォトレジスト分離層、14・・・第2の
フォトレノスト層、15・・・原盤素材、16・・・第
1のレーザービーム(レーザーうC)、17・・・11
λ2の1/−ザービーム(レーい一光)、18・・・1
青肩(信号再生用グループ、19・・・4]1・や13
信号IRビ、71゜20・・・情報記憶媒体!II!!
造用lid盤、出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 汁
第1図 第3図
材に第1と第2のレーザービームを照射している状態を
示す断面図、第2図は原盤の斜視図、第3図は原盤の断
面図、第4図〜第6図は本発明の一実施例を示すもので
、第4図は原盤累月に第1と第2のレーザービームを照
射している状態を示す断面図、r毛5図は第2のフォト
レノスト層の現像状態を示す断面図、第6図は第1のフ
ォトレジスト層の現像状態を示す断面Mである。 1)・・・基板、12・・・第1のフォトレジスト層、
1.7・・・フォトレジスト分離層、14・・・第2の
フォトレノスト層、15・・・原盤素材、16・・・第
1のレーザービーム(レーザーうC)、17・・・11
λ2の1/−ザービーム(レーい一光)、18・・・1
青肩(信号再生用グループ、19・・・4]1・や13
信号IRビ、71゜20・・・情報記憶媒体!II!!
造用lid盤、出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 汁
第1図 第3図
Claims (1)
- 基板上にレーザー光に対する感度が異なる複数種のフォ
トレジスト層を積層するとともにこれらフォトレジスト
層のうち少なくとも2種のフォトレジスト層間にフォト
レジスト分離層を介在してなる原盤素材に、強度が一定
の第1のレーザー光と強度が情報信号にもとづいて変化
する第2のレーザー光を照射することによシ情報信号用
ビ、トおよび情報信号再生用グループを形成することを
特徴とする情報記憶媒体製造用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15430583A JPS6045957A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 情報記憶媒体製造用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15430583A JPS6045957A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 情報記憶媒体製造用原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6045957A true JPS6045957A (ja) | 1985-03-12 |
Family
ID=15581212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15430583A Pending JPS6045957A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 情報記憶媒体製造用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6045957A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60170045A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-09-03 | Pioneer Electronic Corp | アドレス,案内溝付光デイスク製造方法 |
| JPS6328491A (ja) * | 1986-07-22 | 1988-02-06 | Takuma Co Ltd | 洗煙排液処理方法 |
| JPS6356830A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-11 | Pioneer Electronic Corp | 案内溝付光デイスクの製造方法 |
| EP0905684A3 (en) * | 1997-09-30 | 2000-08-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and method for manufacturing the same |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP15430583A patent/JPS6045957A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60170045A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-09-03 | Pioneer Electronic Corp | アドレス,案内溝付光デイスク製造方法 |
| JPS6328491A (ja) * | 1986-07-22 | 1988-02-06 | Takuma Co Ltd | 洗煙排液処理方法 |
| JPS6356830A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-11 | Pioneer Electronic Corp | 案内溝付光デイスクの製造方法 |
| EP0905684A3 (en) * | 1997-09-30 | 2000-08-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and method for manufacturing the same |
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