JPS604652Y2 - イオンエツチング装置 - Google Patents

イオンエツチング装置

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Publication number
JPS604652Y2
JPS604652Y2 JP1976043082U JP4308276U JPS604652Y2 JP S604652 Y2 JPS604652 Y2 JP S604652Y2 JP 1976043082 U JP1976043082 U JP 1976043082U JP 4308276 U JP4308276 U JP 4308276U JP S604652 Y2 JPS604652 Y2 JP S604652Y2
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JP
Japan
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sample
anode
ion etching
axis
sample stage
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Expired
Application number
JP1976043082U
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English (en)
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JPS52133216U (ja
Inventor
啓義 副島
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は走査形電子顕微鏡等の試料の表面をグ冶−放
電によってイオンエツチングをおこなうイオンエツチン
グ装置に関する。
従来からイオンエツチング装置にあっては均一的な試料
表面のエツチングを行なうために真空中でイオン照射中
の試料を回転させながら、イオン流に対する傾斜角度を
変えている。
一般にイオンエツチングの目的には試料の組成や結晶構
造を明確にするためにエツチングパターンをうろことを
目的とする他に、クリーニングやシンキング、さらに深
さ方向の分析のために均一エツチングをおこなうことが
あり、この場合は上記のように試料は回転と共にその傾
斜角をも変えることが効果的であるとされている。
このために第１図に示された従来のイオンエツチング装
置の構造説明図の如く、稀薄アルゴンガス中でイオン源
となる陽極１、対向配置される陰極２（試料３）との間
に直流高電圧を加え、試料台４を２軸に回転させながら
イオン流５に対する試料の傾斜角度を変化させていた。
このように２軸の回転を行なわせるには試料台４の駆動
機構の構造が複雑となり、さらに真空容器中に収納され
、かつ試料台４の方に負の高電圧が印加され、陽極の側
を接地するような場合には、いっそう複雑さの度合いを
増すという問題があった。
又、前記した走査型電子顕微鏡専に使われるイオンエツ
チング装置は、附属品として顕微鏡と一対にして使われ
ることも多く、この面からも構成、取扱いの簡単な、し
かも安価な装置が強く望まれていた。
この考案は上記の問題、要望を解消すべく１つの軸線の
まわりに旋回し、試料台に対向する陽極と、この軸線上
の陽極に対向する位置に試料を載置して前記軸線に斜交
する軸線を中心として回転する試料台を真空容器内に備
え有するとともに、上記試料台と上記陽極との間にグロ
ー放電を生起するように電圧を附勢する電圧附勢機構と
、上記陽極の旋回速度と上記試料台の回転速度とを異な
らしめるように駆動制御する回転制御機構とを構成の要
部とし多方向からの試料エツチングのためのイオン流の
照射を極く簡単な構成で容易ならしめたイオンエツチン
グ装置を実現するもので、以下この考案の１実施例のイ
オンエツチング装置について詳述する。
第２図はこの考案の１実施例のイオンエツチング装置の
構造説明用断面図で、第１図と共通部分には同一の符号
が付しである。
陽極１は、真空容器６の壁を貫通した駆動軸７に取付け
られており回転制御機構（図示されていない）で、その
陽極面が試料３の上方を旋回させられている。
この陽極面に対し、対向に配置される試料３は前記の駆
動軸７の軸線上で、かつその軸線に斜交する回転軸８上
の試料台４に載置されている。
なお前記回転制御機構により試料３の回転数は陽極１を
回動する駆動軸７の回転数と一致しないように異ならし
められており、照射されるイオン流は陽極１の回動につ
れて異った試料面位置を照射する。
なお、この実施例のもめは陽極１と試料３との間隔がイ
オン照射中一定で回転による効果に加えて試料全面に一
層広く均一なイオンエツチングが可能になる。
なお、また陽極側に正の高電圧を附勢し、陰極側を接地
して大地電圧にすることにより構造が複雑な陰極側の回
転軸８の高電圧絶縁が省略でき、試料３の取はずし、取
付けの際にも安全である。
このように、この考案は従来のように試料台側だけを複
雑な回転をするように構成せず、試料台と陽極との両方
を回転するようにしたことで極めて簡単な回転機構でこ
と足り、しかも両方の回転数が一致しないようにしであ
るので試料にあらゆる方向からイオンを照射し、クリー
ニングやシンキングに適した均一なイオンエツチングが
、可能なイオンエツチング装置、また深さ方向への分析
のための全面的の均一なイオンエツチングが可能なエツ
チング装置も実現でき、さらに陽極側に正の高電圧を加
え陰極側を接地する場合にはより陰極側の高電圧絶縁が
省略され、試料台の構造の簡単化と共に一層構造が簡単
で機能の秀れた、しかも走査型電子顕微鏡のような粒子
線分析器の試料の前処理用に適したイオンエツチング装
置が実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のイオンエツチング装置の例の構成説明図
、第２図はこの考案の一実施例のイオンエツチング装置
の構成説明図である。 １・・・・・・陽極、２・・・・・・陰極、３・・・・
・・試料、４・・・・・・試料台、５・・・・・・イオ
ン流、６・・・・・・真空容器、７・・・・・・駆動軸
。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. １つの軸線のまわりに旋回し、試料台に対向する陽極と
    、この軸線上の位置に試料を載置して前記軸線に斜交す
    る軸線を中心として回転する試料台を真空容器内に備え
    有するとともに、上記試料台と上記陽極との間にグロー
    放電を生起するように電圧を附勢する電圧附勢機構と、
    上記陽極の旋回速度と上記試料台の回転速度とを異なら
    しめるように駆動制御する回転制御機構とを備え有する
    ことを特徴とするイオンエツチング装置。
JP1976043082U 1976-04-06 1976-04-06 イオンエツチング装置 Expired JPS604652Y2 (ja)

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JP1976043082U JPS604652Y2 (ja) 1976-04-06 1976-04-06 イオンエツチング装置

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Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS52133216U JPS52133216U (ja) 1977-10-11
JPS604652Y2 true JPS604652Y2 (ja) 1985-02-12

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ID=28502144

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3943047A (en) * 1974-05-10 1976-03-09 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Selective removal of material by sputter etching

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JPS52133216U (ja) 1977-10-11

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