JPS6047908A - 表面欠陥計測装置 - Google Patents
表面欠陥計測装置Info
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- JPS6047908A JPS6047908A JP15616183A JP15616183A JPS6047908A JP S6047908 A JPS6047908 A JP S6047908A JP 15616183 A JP15616183 A JP 15616183A JP 15616183 A JP15616183 A JP 15616183A JP S6047908 A JPS6047908 A JP S6047908A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
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- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は表面欠陥計測装置に係り、特に、各種被計測物
の表面欠陥を計測するのに好適な表面欠陥計測装置に関
する。
の表面欠陥を計測するのに好適な表面欠陥計測装置に関
する。
各種被計測物の表面欠陥を計測する装置として、従来光
学式表面欠陥計測装置が用いられていた。
学式表面欠陥計測装置が用いられていた。
この装置り被計測物の表面に光を照射し、被計測物の表
面に照射された光の反射光を受光し、この受光量を基に
、被削測物の表面に欠陥が生じたか否かを計測するよう
に構成されていた。
面に照射された光の反射光を受光し、この受光量を基に
、被削測物の表面に欠陥が生じたか否かを計測するよう
に構成されていた。
ところが、従来の装置では、被計測物の表面にごみ等が
付着されていた場合でも、被計測物の表面に傷等の欠陥
が生じたこととして判定してしまい、傷等の無い良品の
物でも不良品として廃棄される恐れがあった。そこで、
従来の装置を用いて検査する場合には、不良品になった
物を人手によって再検査を行なうか又は前工程に洗浄機
を設置し、被計測物の表面を清浄することが行なわれて
いた。その為、従来の装置を用いたのでは、被計測物の
表面欠陥を計測する際、歩留りが低下したり、再検査工
数が増加したり、あるいは設備投資額が増加するという
問題があった。
付着されていた場合でも、被計測物の表面に傷等の欠陥
が生じたこととして判定してしまい、傷等の無い良品の
物でも不良品として廃棄される恐れがあった。そこで、
従来の装置を用いて検査する場合には、不良品になった
物を人手によって再検査を行なうか又は前工程に洗浄機
を設置し、被計測物の表面を清浄することが行なわれて
いた。その為、従来の装置を用いたのでは、被計測物の
表面欠陥を計測する際、歩留りが低下したり、再検査工
数が増加したり、あるいは設備投資額が増加するという
問題があった。
本発明は、前記従来の課題に鑑みて為されたものであり
、その目的は、被計測物の表面欠陥の有無を確実に計測
することができる表面欠陥計測装置を提供することにあ
る。
、その目的は、被計測物の表面欠陥の有無を確実に計測
することができる表面欠陥計測装置を提供することにあ
る。
前記目的を達成する為忙、本発明は、被計測物の表面に
光を照射する投光部と、被計測物の表面に照射された光
の反射光を集光しこの光を２系統の伝送路に分割して伝
送する伝送部と、前記一方の伝送路を伝送する光を受光
し受光量に応じたレベルの電気信号を出力する第１の光
電変換部と、前記他方の伝送路を伝送する光のうち、基
準伝送路を伝送する光と基準伝送路から外れた伝送路を
伝送する光を受光可能な受光面を有し、この受光面に入
射した光の位置に応じてレベルの異なる２系統の電気信
号を出力する第２の光電変換部と、第２０光電変換部の
各系統の電気信号を受け、前記２系統の電気信号のレベ
ルの比をめ、そのめた比の信号を出力する演算部と、演
算部の出力レベルと被計測物の表面に物が付着したとき
の演算部の出力レベルとして定められた第１の基準レベ
ルとを比較すると共に、第１の光電変換部の出力レベル
と被計測物の表面に物が付着したとき又は被計測物の表
面忙欠陥が生じたときの第１０光電変換部の出力レベル
として定められた第２の基準レベルとを比較し、これら
の比較結果を基に被計測物に対する計測結果を判定し判
定出力を発生する判定部と、を備え、前記判定部は、演
算部の出ノｊレベルが第１の基準レベル以下で、かつ第
１０光電変換部の出力レベルが第２の基準レベル以下の
とき被計測物の表１ｆＪＫ欠陥が生じたことを判定し、
演算部の出力レベルが第１の基準レベルを越え、かつ第
１０光電変換部の出力レベルが第２の基準レベル以下の
とき、被計測物の表面に物が付着した仁とを判定し、演
算部の出力レベルが第１の基準レベル以下で、かつ第１
の光電変換部の出力レベルが第２の基準レベルを越えた
とき、被計測物が良品であることを判定し、各判定結果
に応じた出力を発生するようにしたことを特徴とする。
光を照射する投光部と、被計測物の表面に照射された光
の反射光を集光しこの光を２系統の伝送路に分割して伝
送する伝送部と、前記一方の伝送路を伝送する光を受光
し受光量に応じたレベルの電気信号を出力する第１の光
電変換部と、前記他方の伝送路を伝送する光のうち、基
準伝送路を伝送する光と基準伝送路から外れた伝送路を
伝送する光を受光可能な受光面を有し、この受光面に入
射した光の位置に応じてレベルの異なる２系統の電気信
号を出力する第２の光電変換部と、第２０光電変換部の
各系統の電気信号を受け、前記２系統の電気信号のレベ
ルの比をめ、そのめた比の信号を出力する演算部と、演
算部の出力レベルと被計測物の表面に物が付着したとき
の演算部の出力レベルとして定められた第１の基準レベ
ルとを比較すると共に、第１の光電変換部の出力レベル
と被計測物の表面に物が付着したとき又は被計測物の表
面忙欠陥が生じたときの第１０光電変換部の出力レベル
として定められた第２の基準レベルとを比較し、これら
の比較結果を基に被計測物に対する計測結果を判定し判
定出力を発生する判定部と、を備え、前記判定部は、演
算部の出ノｊレベルが第１の基準レベル以下で、かつ第
１０光電変換部の出力レベルが第２の基準レベル以下の
とき被計測物の表１ｆＪＫ欠陥が生じたことを判定し、
演算部の出力レベルが第１の基準レベルを越え、かつ第
１０光電変換部の出力レベルが第２の基準レベル以下の
とき、被計測物の表面に物が付着した仁とを判定し、演
算部の出力レベルが第１の基準レベル以下で、かつ第１
の光電変換部の出力レベルが第２の基準レベルを越えた
とき、被計測物が良品であることを判定し、各判定結果
に応じた出力を発生するようにしたことを特徴とする。
以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例を説明する
。
。
第１図には、本発明の好適な実施例の構成が示されてい
る。
る。
本実施例における装置は、第１図に示されるように、投
光部１０、伝送部１２、第１０光電変換部１４、第２の
光電変換部１６、演算部１８、判定部２０等から構成さ
れておシ、投光部ｌＯと伝送部１２が、被計測物（以下
ワークと称する）２２０表面上方に設置されている。
光部１０、伝送部１２、第１０光電変換部１４、第２の
光電変換部１６、演算部１８、判定部２０等から構成さ
れておシ、投光部ｌＯと伝送部１２が、被計測物（以下
ワークと称する）２２０表面上方に設置されている。
投光部１０はレーザ発振器２４、投光レンズ２６から構
成されており、矢印Ｘ方向に移動するワーク２２０表面
には、レーザ発振器２４によるレーザ光が投光レンズ２
６を介して照射されている。
成されており、矢印Ｘ方向に移動するワーク２２０表面
には、レーザ発振器２４によるレーザ光が投光レンズ２
６を介して照射されている。
ワーク２２０表面に照射された光はワーク２２０表面で
反射し、その反射光が伝送部１２に反射している。
反射し、その反射光が伝送部１２に反射している。
伝送部１２は受光レンズ２８、ビームスプリッタ３０か
ら構成されてお９、ワーク２２からの反射光を受光レン
ズ２８で集光し、集光した光をビームスプリッタ３０に
よって、２系統の伝送路１００．１０２に分割して伝送
するように構成されている。
ら構成されてお９、ワーク２２からの反射光を受光レン
ズ２８で集光し、集光した光をビームスプリッタ３０に
よって、２系統の伝送路１００．１０２に分割して伝送
するように構成されている。
伝送路１００の途中には、第１の光電部１４を構成する
受光素子、例えばフォトダイオード、フォトマル等が設
置されており、伝送路１００を伝送した光は受光素子１
４によって受光され、この受光量に応じたレベルの電気
信号が受光素子１４から出力されている。そして、受光
素子１４の出力信号は増幅器３２で所定のレベルＶｐＫ
増幅され判定部２０に供給されている。
受光素子、例えばフォトダイオード、フォトマル等が設
置されており、伝送路１００を伝送した光は受光素子１
４によって受光され、この受光量に応じたレベルの電気
信号が受光素子１４から出力されている。そして、受光
素子１４の出力信号は増幅器３２で所定のレベルＶｐＫ
増幅され判定部２０に供給されている。
又、受光素子１１−１、受光量に応じたレベルの電気信
号を出力するように構成されているので、増幅器３２の
出力電圧Ｖｐは、ワーク２２０表面にごみ等の物が付着
したり、ワーク２２０表面に傷等の欠陥が生じて無いと
きＫは、乱反射は少ない為高い電圧値となシ、又、ワー
ク２２の表面に物が付着していたシ、あるいはワーク２
２０表面に傷等の欠陥が生じていたときＫは、乱反射が
増え受光量が減少する為、低い電圧値となる。その為、
増幅器３２の出力電圧Ｖｐは、ワーク２２０表面に物が
付着していたり、あるいはワーク２２０表面に傷等の欠
陥が生じていた場合には、第２図に示されるように１
ワーク２２の移動に伴なってワーク２２の傷又はごみ等
に照射された光に対応した部位の電圧レベルが低下する
。
号を出力するように構成されているので、増幅器３２の
出力電圧Ｖｐは、ワーク２２０表面にごみ等の物が付着
したり、ワーク２２０表面に傷等の欠陥が生じて無いと
きＫは、乱反射は少ない為高い電圧値となシ、又、ワー
ク２２の表面に物が付着していたシ、あるいはワーク２
２０表面に傷等の欠陥が生じていたときＫは、乱反射が
増え受光量が減少する為、低い電圧値となる。その為、
増幅器３２の出力電圧Ｖｐは、ワーク２２０表面に物が
付着していたり、あるいはワーク２２０表面に傷等の欠
陥が生じていた場合には、第２図に示されるように１
ワーク２２の移動に伴なってワーク２２の傷又はごみ等
に照射された光に対応した部位の電圧レベルが低下する
。
一方、伝送路１０２の途中には、第２の光電変換部１６
を構成する受光素子、例えば半導体装置検出素子、イメ
ージセンサ等が設置されている。
を構成する受光素子、例えば半導体装置検出素子、イメ
ージセンサ等が設置されている。
この受光素子１６ｉｊ：、第３図に示されるように、ワ
ーク２２０表面にごみ等が付着してないときの基準伝送
路１０２Ａを伝送する光と、ワーク２２の表面にごみ３
４等が付着して受光レンズ２８からビームスプリッタ３
０を介して伝送する光が基準伝送路１０２Ａから外れた
伝送路１０２Ｂを伝送する光を受光可能な受光面を有し
、この受光面に入射した光の位置に応じてレベルの異な
る２系統の電気信号を出力するように構成されている。
ーク２２０表面にごみ等が付着してないときの基準伝送
路１０２Ａを伝送する光と、ワーク２２の表面にごみ３
４等が付着して受光レンズ２８からビームスプリッタ３
０を介して伝送する光が基準伝送路１０２Ａから外れた
伝送路１０２Ｂを伝送する光を受光可能な受光面を有し
、この受光面に入射した光の位置に応じてレベルの異な
る２系統の電気信号を出力するように構成されている。
ここで、ワーク２２０表面に、高さｈのごみ３４が付着
していた場合、基準伝送路１０２Ａを伝送する光は受光
素子１６の受光面Ｘ。の位置に入射し、伝送路１０２Ｂ
を伝送する光は受光素子１６の受光面ｘ、の位置に入射
する。ここに、Ｘｏとｘ、の位置関係は、ＸＩ ＝Ｘｏ
、＋２ｂとなる。そして、受光素子１６の２系統の電気
信号は、第４図の（ａ）、（ｂ）に示されるような信号
となって出力され、演算部１８の増幅器３６．３８に供
給される。
していた場合、基準伝送路１０２Ａを伝送する光は受光
素子１６の受光面Ｘ。の位置に入射し、伝送路１０２Ｂ
を伝送する光は受光素子１６の受光面ｘ、の位置に入射
する。ここに、Ｘｏとｘ、の位置関係は、ＸＩ ＝Ｘｏ
、＋２ｂとなる。そして、受光素子１６の２系統の電気
信号は、第４図の（ａ）、（ｂ）に示されるような信号
となって出力され、演算部１８の増幅器３６．３８に供
給される。
演算部１８は増幅器３６．３８、演算器４０から構成さ
れている。増幅器３６．３８は、受光素子１６の出力信
号ＶＡ、ＶＢの各信号をそれぞれ所定のレベルＶＡ’、
ＶＢ’に増幅し演算器４０に供給する。演算器４０は増
幅器３６．３８の各出力信Ｖｏｕｔ を出力するように
構成されている。その為、第４図の（ａ）、 （ｂ）に
示される信号が演算器４０に供給されたときＫ１−１．
演算器４０の出力信号Ｖｏｕｔは第４図の（Ｃ１に示さ
れるよう〃波形となり、この出力信号Ｖｏｕｔが判定部
２０に供給される。
れている。増幅器３６．３８は、受光素子１６の出力信
号ＶＡ、ＶＢの各信号をそれぞれ所定のレベルＶＡ’、
ＶＢ’に増幅し演算器４０に供給する。演算器４０は増
幅器３６．３８の各出力信Ｖｏｕｔ を出力するように
構成されている。その為、第４図の（ａ）、 （ｂ）に
示される信号が演算器４０に供給されたときＫ１−１．
演算器４０の出力信号Ｖｏｕｔは第４図の（Ｃ１に示さ
れるよう〃波形となり、この出力信号Ｖｏｕｔが判定部
２０に供給される。
判定部２０は、第５図に示されるように、平均化回路４
１，４２、レベル判定回路４４，４６、論理演算回路４
８、クロック発振器５０、タイミングロジック回路５２
から構成されており、論理演算回路４８の出力が表示器
５４に供給されている。
１，４２、レベル判定回路４４，４６、論理演算回路４
８、クロック発振器５０、タイミングロジック回路５２
から構成されており、論理演算回路４８の出力が表示器
５４に供給されている。
クロック発振器５０は、第４図の（１）に示されるよう
なりロックパルスを発生するように構成されており、こ
のクロックパルスがタイミングロジック回路５２に供給
されている。タイミングロジック回路５２は、クロック
発振器５０からのクロックパルスを基に、第４図の（ホ
）に示される所定周期のパルス信号を生成し、このパル
ス信号を平均化回路４１，４２、論理演算回路４８に供
給するように構成されている。そして、平均化回路４１
゜４２、論理演算回路４８は、タイミングロジック回路
５２の出力パルスの立ち上りで計測演算を開始し、パル
スの立ち下りで計測演算を完了するように作動する。
なりロックパルスを発生するように構成されており、こ
のクロックパルスがタイミングロジック回路５２に供給
されている。タイミングロジック回路５２は、クロック
発振器５０からのクロックパルスを基に、第４図の（ホ
）に示される所定周期のパルス信号を生成し、このパル
ス信号を平均化回路４１，４２、論理演算回路４８に供
給するように構成されている。そして、平均化回路４１
゜４２、論理演算回路４８は、タイミングロジック回路
５２の出力パルスの立ち上りで計測演算を開始し、パル
スの立ち下りで計測演算を完了するように作動する。
平均化回路４１は、演算器４０から第４図の（Ｃ）Ｋ示
される信号が与えられたとき、この信号を平均化処理し
、第４図の（ｄ）に示される信号波形をレベル判定回路
４４に供給することができる。
される信号が与えられたとき、この信号を平均化処理し
、第４図の（ｄ）に示される信号波形をレベル判定回路
４４に供給することができる。
レベル判定回路４４には、演算器４０の出力信号Ｖｏｕ
ｔと平均化回路４１の出力信号が供給されており、レベ
ル判定回路４４は、前記出力信号を基に１第４図の（ｅ
Ｊ Ｋ示されるように、演′ｎ器４０の出力レベルと、
ワーク２２０表面にごみ３４等の物が付着したときの演
算器４０の出力レベルとして定められた第１の基準レベ
ルｖＩとを比較し、演算器４０の出力レベルが基準レベ
ルＶ、を越えたとき、第４図の（ｆ）に示される比較出
力を論理演算回路４８に供給するように構成されている
。
ｔと平均化回路４１の出力信号が供給されており、レベ
ル判定回路４４は、前記出力信号を基に１第４図の（ｅ
Ｊ Ｋ示されるように、演′ｎ器４０の出力レベルと、
ワーク２２０表面にごみ３４等の物が付着したときの演
算器４０の出力レベルとして定められた第１の基準レベ
ルｖＩとを比較し、演算器４０の出力レベルが基準レベ
ルＶ、を越えたとき、第４図の（ｆ）に示される比較出
力を論理演算回路４８に供給するように構成されている
。
平均化回路４２は、増幅器３２の出力信号を平均化し、
平均化された信号をレベル判定回路４６に供給するよう
に構成されている。そして、平均化回路４２に、増幅器
３２から第４図の（ｇ）に示される信号が供給されたと
き、この出力信号を第４図の（１りに示される信号に平
均化し、この信号をレベル判定回路４６に供給すること
ができる。又、レベル判定回路４．６ Ｋは、増幅器３
２の出力信号Ｖｐが与えられており、レベル判定回路４
６はこれらの入力信号を基に、増幅器３２の出力レベル
Ｖｐと、ワーク２２の表面にごみ等の物が付着したとき
又はワーク２２の表面に傷等の欠陥が生じたときの受光
素子１４の出力レベルとして定められた第２の基準レベ
ルｖ２とを比較し、増幅器３２の出力レベルＶｐが基準
レベルｖ２以下のとき、第４図のＵ）に示されるような
比較出力を論理演算回路４８に供給するように構成され
ている。
平均化された信号をレベル判定回路４６に供給するよう
に構成されている。そして、平均化回路４２に、増幅器
３２から第４図の（ｇ）に示される信号が供給されたと
き、この出力信号を第４図の（１りに示される信号に平
均化し、この信号をレベル判定回路４６に供給すること
ができる。又、レベル判定回路４．６ Ｋは、増幅器３
２の出力信号Ｖｐが与えられており、レベル判定回路４
６はこれらの入力信号を基に、増幅器３２の出力レベル
Ｖｐと、ワーク２２の表面にごみ等の物が付着したとき
又はワーク２２の表面に傷等の欠陥が生じたときの受光
素子１４の出力レベルとして定められた第２の基準レベ
ルｖ２とを比較し、増幅器３２の出力レベルＶｐが基準
レベルｖ２以下のとき、第４図のＵ）に示されるような
比較出力を論理演算回路４８に供給するように構成され
ている。
論理演算回路４８Ｖｉ、レベル判定回路４４．４６の出
力信号を基に、ワーク２２に対する計測結果を判定し、
判定出力を表示器５４に供給するように構成されている
。
力信号を基に、ワーク２２に対する計測結果を判定し、
判定出力を表示器５４に供給するように構成されている
。
例えば、第６図に示されるように、演算器４０の出力レ
ベルＶｏｕ ｔが第１の基準レベルｖ１以下で、かつ受
光素子１４の出力レベル、即ち増幅器３２の出力レベル
Ｖｐが第２の基準レベルＶ、以下のときワーク２２０表
面に傷等の欠陥が生じたことを判定し、第４図の（ｋ）
Ｋ示される信号を表示器５４に与え、表示器５４に、
ワーク２２０表面に欠陥が生じたことを表示させる。
ベルＶｏｕ ｔが第１の基準レベルｖ１以下で、かつ受
光素子１４の出力レベル、即ち増幅器３２の出力レベル
Ｖｐが第２の基準レベルＶ、以下のときワーク２２０表
面に傷等の欠陥が生じたことを判定し、第４図の（ｋ）
Ｋ示される信号を表示器５４に与え、表示器５４に、
ワーク２２０表面に欠陥が生じたことを表示させる。
又、演算器４０の出力レベルＶｏｕｔが第１の基準レベ
ルＶｌを越え、かつ増幅器３２の出力レベルＶｐが第２
の基準レベルｖ２以下のとき、ワーク２２の表面にごみ
３４等の物が付着したことを判定し、第４図のｉｆ）に
示される信号と同じ信号を表示器５４に与え、ワーク２
２０表面に物が付着したことを表示させる。
ルＶｌを越え、かつ増幅器３２の出力レベルＶｐが第２
の基準レベルｖ２以下のとき、ワーク２２の表面にごみ
３４等の物が付着したことを判定し、第４図のｉｆ）に
示される信号と同じ信号を表示器５４に与え、ワーク２
２０表面に物が付着したことを表示させる。
又、さらに演算器４０の出力レベルＶｏｕｔが第１の基
準レベルｖ１以下で、かつ増幅器３２の出力レベルＶｐ
が第２の基準レベルＶ、を越えたときワーク２２が良品
であることを判定し、この判定結果を表示器５４に与え
、ワーク２２が良品であることを表示器５４に表示させ
る。
準レベルｖ１以下で、かつ増幅器３２の出力レベルＶｐ
が第２の基準レベルＶ、を越えたときワーク２２が良品
であることを判定し、この判定結果を表示器５４に与え
、ワーク２２が良品であることを表示器５４に表示させ
る。
このように本実施例においては、ワーク２２０表面欠陥
を計測する際、ワーク２２０表面に物が付着しているか
、あるいはワーク２２０表面に欠陥が生じているか、又
、ワーク２２が良品であるか否かをそれぞれ判定し、各
判定結果をそれぞれ表示器５４に表示することができる
ので、ワーク２２にごみ等が付着していて良品を不良品
として判定することが無いので、不良品を再検査する必
要もなく、又前工程に洗浄器を設置する必要がないので
、歩留りの向上、再検査工数の削減、設備投資額を低減
することができる。
を計測する際、ワーク２２０表面に物が付着しているか
、あるいはワーク２２０表面に欠陥が生じているか、又
、ワーク２２が良品であるか否かをそれぞれ判定し、各
判定結果をそれぞれ表示器５４に表示することができる
ので、ワーク２２にごみ等が付着していて良品を不良品
として判定することが無いので、不良品を再検査する必
要もなく、又前工程に洗浄器を設置する必要がないので
、歩留りの向上、再検査工数の削減、設備投資額を低減
することができる。
又前記実施例によれば、目視によってワーク２２０表面
欠陥を検査しなくてもワーク２２０表面欠陥の計測を確
実に行なえるので、計測作業の能率向」二が図れると共
に品質の向上を図ることができる。
欠陥を検査しなくてもワーク２２０表面欠陥の計測を確
実に行なえるので、計測作業の能率向」二が図れると共
に品質の向上を図ることができる。
又前記実施例において、第１の基準レベルＶい第２の基
準レベル■、をそれぞれ受光素子１４゜１６の出力レベ
ルに応じてフローチングさせること罠より、レーザ発振
器２４の劣下、投光レンズ２６の汚れ、ワーク２２０表
面の状態、受光素子１４．１６の劣下環によって受光素
子１４．１６の出力レベルが変動した場合でも、ワーク
２２の表面欠陥を確実に、１３度良く計測することが可
能である。
準レベル■、をそれぞれ受光素子１４゜１６の出力レベ
ルに応じてフローチングさせること罠より、レーザ発振
器２４の劣下、投光レンズ２６の汚れ、ワーク２２０表
面の状態、受光素子１４．１６の劣下環によって受光素
子１４．１６の出力レベルが変動した場合でも、ワーク
２２の表面欠陥を確実に、１３度良く計測することが可
能である。
以上・説明したように、本発明によれば、被計測物の表
面に光を照射し、被計測物の表面に照射された光の反射
光を２系統の伝送路に分割して伝送し、各系統の光をそ
れぞれ複数の受光素子に入射し、各受光素子の出力レベ
ルを基匠被計測物が良品であるか、被計測物の表面に物
が付着したか、あるいは被計測物の表面に欠陥が生じた
か否かを判定するようにしたので、被計測物の表面欠陥
を確実に計測することができ、表面欠陥計測の作業能率
の向上を図れると共に被測定物の品質の向上を図ること
ができ、又さらに前工程の洗浄機が不要になるので、設
備費の低減を図ることができるという優れた効果がある
。
面に光を照射し、被計測物の表面に照射された光の反射
光を２系統の伝送路に分割して伝送し、各系統の光をそ
れぞれ複数の受光素子に入射し、各受光素子の出力レベ
ルを基匠被計測物が良品であるか、被計測物の表面に物
が付着したか、あるいは被計測物の表面に欠陥が生じた
か否かを判定するようにしたので、被計測物の表面欠陥
を確実に計測することができ、表面欠陥計測の作業能率
の向上を図れると共に被測定物の品質の向上を図ること
ができ、又さらに前工程の洗浄機が不要になるので、設
備費の低減を図ることができるという優れた効果がある
。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は増幅
器３２の出力レベルＶｐとワークの移動方向Ｘとの関係
を示す線図、第３図は第１図に示す受光素子１６の構成
を説明する為の図、第４図（ａ）〜（ホ）はそれぞれ第
１図に示す装置の作用を説明する為の波形図、第５図１
−を第１図に示す判定部の構成を説明する為の構成図、
第６図は増幅器３２の出力レベル■ｐ１演算器４０の出
力レベルＶｏｕｔとワークの移動方向Ｘ乙の関係を示す
線図である。 １０・・・投光部、１２・・・伝送部、１４．１６・・
・受光素子、１８・・・演算部、２０・・・判定部、２
４・・・レーザ発振器、２６・・・投光レンズ、２８・
・受光レンズ、３０・・・ビームスプリッタ、３２，３
６．３８・・・増幅器、４０・・・演算器、４１．４２
・・・平均化回路、４４．４６・・・レベル判定回路、
４８・・・論理演算回路、５４・・・表示器。 代理人 鵜 沼 辰 之 （ほか１名） 第１図 第 ２１４ 第 ３１゛４ ゜各４１シ１ （０） Ｊ０１′［ （ｂ） Ｊｌｌｌ［ ｆ−１で・ （８） （ｆ） （９） −畠ｆ門コー （ｈ） 」ｌ「℃］− （、−、−−−、、−Ｖｔ （Ｊ） （ｋ） −］」］＝−−− −１） 間ＪＬｒＵＬ凹■狙 （ｍ） ζ；１ ｉ１１攬３
器３２の出力レベルＶｐとワークの移動方向Ｘとの関係
を示す線図、第３図は第１図に示す受光素子１６の構成
を説明する為の図、第４図（ａ）〜（ホ）はそれぞれ第
１図に示す装置の作用を説明する為の波形図、第５図１
−を第１図に示す判定部の構成を説明する為の構成図、
第６図は増幅器３２の出力レベル■ｐ１演算器４０の出
力レベルＶｏｕｔとワークの移動方向Ｘ乙の関係を示す
線図である。 １０・・・投光部、１２・・・伝送部、１４．１６・・
・受光素子、１８・・・演算部、２０・・・判定部、２
４・・・レーザ発振器、２６・・・投光レンズ、２８・
・受光レンズ、３０・・・ビームスプリッタ、３２，３
６．３８・・・増幅器、４０・・・演算器、４１．４２
・・・平均化回路、４４．４６・・・レベル判定回路、
４８・・・論理演算回路、５４・・・表示器。 代理人 鵜 沼 辰 之 （ほか１名） 第１図 第 ２１４ 第 ３１゛４ ゜各４１シ１ （０） Ｊ０１′［ （ｂ） Ｊｌｌｌ［ ｆ−１で・ （８） （ｆ） （９） −畠ｆ門コー （ｈ） 」ｌ「℃］− （、−、−−−、、−Ｖｔ （Ｊ） （ｋ） −］」］＝−−− −１） 間ＪＬｒＵＬ凹■狙 （ｍ） ζ；１ ｉ１１攬３
Claims (1)
- （１）被計測物の表面に光を照射する投光部と、被計測
物の表面に照射された光の反射光を集光しこの光を２系
統の伝送路に分割して伝送する伝送部と、前記一方の伝
送路を伝送する光を受光し受光量に応じたレベルの電気
信号を出力する第１の光電変換部と、前記他方の伝送路
を伝送する光のうち、基準伝送路を伝送する光と基準伝
送路から外れた伝送路を伝送する光を受光可能な受光面
を有し、この受光面に入射した光の位置に応じてレベル
の異なる２系統の電気信号を出力する第２の光電変換部
と、第２の光電変換部の各系統の電気信号を受け、前記
２系統の電気信号のレベルの比をめ、そのめた比の信号
を出力する演算部と、演算部の出力レベルと被計測物の
表面に物が付着したときの演算部の出力レベルとして定
められた第１の基準レベルとを比較すると共に、第１の
光電変換部の出力レベルと被計測物の表面に物が付着し
たとき又は被計測物の表面圧欠陥が生じたときの第１０
光電変換部の出力レベルとして定められた第２の基準レ
ベルとを比較し、これらの比較結果を基に被計測物に対
する計測結果な判定し判定出力を発生する判定部と、を
備え、前記判定部は、演算部の出力レベルが第１の基準
レベル以下で、かつ第１の光電変換部の出力レベルが第
２の基準レベル以下のとき被計測物の表面に欠陥が生じ
たことを判定し、演算部の出力レベルが第１の基準レベ
ルを越え、かつ、第１０光電変換部の出力レベルが第２
の基準レベル以下のとき、被計測物の表面に物が付着し
たことを判定し、演算部の出力レベルが第１の基準レベ
ル以下で、かつ第１の光電変換部の出力レベルが第２の
基準レベルを越えたとき、被計測物が良品であることを
判定し、各判定結果に応じた出力を発生することを特徴
とする表面欠陥計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15616183A JPS6047908A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | 表面欠陥計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15616183A JPS6047908A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | 表面欠陥計測装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6047908A true JPS6047908A (ja) | 1985-03-15 |
| JPH0314123B2 JPH0314123B2 (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=15621678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15616183A Granted JPS6047908A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | 表面欠陥計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6047908A (ja) |
-
1983
- 1983-08-26 JP JP15616183A patent/JPS6047908A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0314123B2 (ja) | 1991-02-26 |
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