JPH0527059B2 - - Google Patents
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- JPH0527059B2 JPH0527059B2 JP58223933A JP22393383A JPH0527059B2 JP H0527059 B2 JPH0527059 B2 JP H0527059B2 JP 58223933 A JP58223933 A JP 58223933A JP 22393383 A JP22393383 A JP 22393383A JP H0527059 B2 JPH0527059 B2 JP H0527059B2
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- measured
- output signal
- light
- photoelectric conversion
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は表面欠陥計測装置に係り、特に、各種
被計測物の表面欠陥を計測するのに好適な表面欠
陥計測装置に関する。
被計測物の表面欠陥を計測するのに好適な表面欠
陥計測装置に関する。
各種被計測物の表面欠陥を計測する装置とし
て、従来、光学式表面欠陥計測装置が用いられて
いた。この種従来の装置は、被計測物の表面に光
を照射し被計測物の表面に照射された光の反射光
を受光し、この受光量を基に、被計測物の表面に
欠陥が生じたか否かを計測するように構成されて
いた。
て、従来、光学式表面欠陥計測装置が用いられて
いた。この種従来の装置は、被計測物の表面に光
を照射し被計測物の表面に照射された光の反射光
を受光し、この受光量を基に、被計測物の表面に
欠陥が生じたか否かを計測するように構成されて
いた。
ところが、従来の装置では、被計測物の表面に
ゴミ等が付着されていた場合でも、被計測物の表
面に傷等の欠陥が生じたこととして判定してしま
い、傷等のない良品のものでも不良品として廃棄
される恐れがあつた。そこで、従来の装置を用い
て検査する場合には、不良品になつたものを人手
によつて再検査を行なうか、又は前工程に洗浄機
を設置し、被計測物の表面を清浄することが行な
われていた。そのため、従来の装置を用いたので
は、被計測物の表面欠陥を計測する際、歩留りが
低下したり、再検査工数が増加したり、あるいは
設備投資額が増加するという問題があつた。な
お、特開昭57−13340号公報及び特開昭58−62543
号公報に記載されている方法を採用することも考
えられるが、これらの方法では、複数の光源が必
要であつたり、複数の受光素子が必要であつたり
し、装置が大型化するという不具合がある。
ゴミ等が付着されていた場合でも、被計測物の表
面に傷等の欠陥が生じたこととして判定してしま
い、傷等のない良品のものでも不良品として廃棄
される恐れがあつた。そこで、従来の装置を用い
て検査する場合には、不良品になつたものを人手
によつて再検査を行なうか、又は前工程に洗浄機
を設置し、被計測物の表面を清浄することが行な
われていた。そのため、従来の装置を用いたので
は、被計測物の表面欠陥を計測する際、歩留りが
低下したり、再検査工数が増加したり、あるいは
設備投資額が増加するという問題があつた。な
お、特開昭57−13340号公報及び特開昭58−62543
号公報に記載されている方法を採用することも考
えられるが、これらの方法では、複数の光源が必
要であつたり、複数の受光素子が必要であつたり
し、装置が大型化するという不具合がある。
［発明の目的］
本発明の目的は、単一の光源からの光を被測定
物に照射し被測定物からの反射光を基に被計測物
の表面欠陥の有無を確実に計測することができる
表面欠陥計測装置を提供することにある。
物に照射し被測定物からの反射光を基に被計測物
の表面欠陥の有無を確実に計測することができる
表面欠陥計測装置を提供することにある。
［発明の概要］
前記目的を達成するために、本発明は、光軸が
変化するビーム光を順次放射するスキヤナと、ス
キヤナからのビーム光を被測定物の表面に向けて
順次照射する第１の投光部と、スキヤナからのビ
ーム光を被測定物の側面に向けて順次照射する第
２の投光部と、被計測物の表面に照射された光の
反射光を受光し受光量に応じたレベルの電気信号
を出力する第１の光電変換部と、被計測物の側面
に照射されたビーム光のうち少なくとも被計測物
の表面側を通過したビーム光を受光し、受光した
ビーム光の位置に応じてレベルの異なる２系統の
電気信号を出力する第２の光電変換部と、第２の
光電変換部出力の各系統の電気信号のレベルの比
を求め、この求めた比に応じた信号を出力する演
算部と、複数の基準レベルが設定され演算部及び
第１の光電変換部の各出力信号と前記基準レベル
とを比較し、これらの比較結果を基に被計測物に
対する計測結果を判定し、判定結果を出力する判
定部と、を含み、前記判定部は、第１の光電変換
部の出力信号のレベルが、第１の光電変換部の出
力信号に対応づけられ被計測物が良品であるとき
の第１の基準レベルと異なり、演算部の出力信号
のレベルが、演算部の出力信号に対応づけられ被
計測物が良品であるときの第２の基準レベルと異
なるとき、被計測物の表面に物が付着したことを
判定し、第１の光電変換部の出力信号のレベルが
第１の基準レベルと異なり、演算部の出力信号の
レベルが第２の基準レベルと一致したときには被
計測物の表面に傷等の欠陥が生じたことを判定
し、第１の光電変換部の出力信号のレベルが第１
の基準レベルと一致し、演算部の出力信号のレベ
ルが第２の基準レベルに一致したときには被計測
物が良品であることを判定する、ことを特徴とす
る。
変化するビーム光を順次放射するスキヤナと、ス
キヤナからのビーム光を被測定物の表面に向けて
順次照射する第１の投光部と、スキヤナからのビ
ーム光を被測定物の側面に向けて順次照射する第
２の投光部と、被計測物の表面に照射された光の
反射光を受光し受光量に応じたレベルの電気信号
を出力する第１の光電変換部と、被計測物の側面
に照射されたビーム光のうち少なくとも被計測物
の表面側を通過したビーム光を受光し、受光した
ビーム光の位置に応じてレベルの異なる２系統の
電気信号を出力する第２の光電変換部と、第２の
光電変換部出力の各系統の電気信号のレベルの比
を求め、この求めた比に応じた信号を出力する演
算部と、複数の基準レベルが設定され演算部及び
第１の光電変換部の各出力信号と前記基準レベル
とを比較し、これらの比較結果を基に被計測物に
対する計測結果を判定し、判定結果を出力する判
定部と、を含み、前記判定部は、第１の光電変換
部の出力信号のレベルが、第１の光電変換部の出
力信号に対応づけられ被計測物が良品であるとき
の第１の基準レベルと異なり、演算部の出力信号
のレベルが、演算部の出力信号に対応づけられ被
計測物が良品であるときの第２の基準レベルと異
なるとき、被計測物の表面に物が付着したことを
判定し、第１の光電変換部の出力信号のレベルが
第１の基準レベルと異なり、演算部の出力信号の
レベルが第２の基準レベルと一致したときには被
計測物の表面に傷等の欠陥が生じたことを判定
し、第１の光電変換部の出力信号のレベルが第１
の基準レベルと一致し、演算部の出力信号のレベ
ルが第２の基準レベルに一致したときには被計測
物が良品であることを判定する、ことを特徴とす
る。
以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例を
説明する。
説明する。
第１図には、本発明の好適な実施例の構成が示
されている。
されている。
第１図において、治具１０に支持されモータ１
２の駆動に応じて移動可能な被計測物（以下ワー
クと称する）１４の表面には、第１の投光部から
ビーム光が照射されており、又、ワーク１４の側
面には第２の投光部からのビーム光が照射されて
いる。即ち、レーザ発振器１６から出射されたレ
ーザビームが、オプチカルスキヤナ１８、レンズ
２０を介してワーク１４の表面と、オプチカルス
キヤナ１８、スリツト２２、レンズ２４、反射鏡
２６を介してワーク１４の側面に照射されてい
る。
２の駆動に応じて移動可能な被計測物（以下ワー
クと称する）１４の表面には、第１の投光部から
ビーム光が照射されており、又、ワーク１４の側
面には第２の投光部からのビーム光が照射されて
いる。即ち、レーザ発振器１６から出射されたレ
ーザビームが、オプチカルスキヤナ１８、レンズ
２０を介してワーク１４の表面と、オプチカルス
キヤナ１８、スリツト２２、レンズ２４、反射鏡
２６を介してワーク１４の側面に照射されてい
る。
オプチカルスキヤナ１８は計測ユニツト２８か
ら出力される駆動信号Ｓによつて角度θ1の範囲で
回転できるように構成されている。このため、オ
プチカルスキヤナ１８が角度θ1の範囲で回転する
と、レンズ２４に照射されるレーザ光が角度θ2の
範囲で移動するビーム光として反射鏡２６に照射
され、レンズ２０に照射されるレーザ光は角度θ3
の範囲で変化するビーム光となつてレンズ２０を
介してワーク１４の表面に照射される。
ら出力される駆動信号Ｓによつて角度θ1の範囲で
回転できるように構成されている。このため、オ
プチカルスキヤナ１８が角度θ1の範囲で回転する
と、レンズ２４に照射されるレーザ光が角度θ2の
範囲で移動するビーム光として反射鏡２６に照射
され、レンズ２０に照射されるレーザ光は角度θ3
の範囲で変化するビーム光となつてレンズ２０を
介してワーク１４の表面に照射される。
ワーク１４の表面に照射されたレーザ光はワー
ク１４の表面で反射し、その反射光の一部がレン
ズ３０を介して受光素子３２に伝送される。レン
ズ３０、受光素子３２、増幅器３４から構成され
た第１の光電変換部は、ワーク１４の表面に照射
された光の反射光を受光し、受光量に応じたレベ
ルの電気信号VSを出力するように構成されてい
る。即ち、ワーク１４の表面から反射した光がレ
ンズ３０を介して受光素子３２に伝送されると、
受光素子３２によつて受光量に応じたレベルの電
気信号が出力され、この電気信号が増幅器３４で
所定の増幅度に増幅されて出力される。
ク１４の表面で反射し、その反射光の一部がレン
ズ３０を介して受光素子３２に伝送される。レン
ズ３０、受光素子３２、増幅器３４から構成され
た第１の光電変換部は、ワーク１４の表面に照射
された光の反射光を受光し、受光量に応じたレベ
ルの電気信号VSを出力するように構成されてい
る。即ち、ワーク１４の表面から反射した光がレ
ンズ３０を介して受光素子３２に伝送されると、
受光素子３２によつて受光量に応じたレベルの電
気信号が出力され、この電気信号が増幅器３４で
所定の増幅度に増幅されて出力される。
このように受光素子３２は、受光量に応じたレ
ベルの電気信号を出力するように構成されている
ので、増幅器３４の出力信号VSのレベルは、第
２図に示されるように、ワーク１４の表面にゴミ
等の物が付着したり、ワーク１４の表面に傷等の
欠陥が生じていたりすることがないときには、乱
反射が少ないため高レベルV1となり、一方、ワ
ーク１４の表面に物が付着していたり、あるいは
ワーク１４の表面に傷等の欠陥が生じていたとき
には、乱反射が増えて受光量が減少するため電圧
V1よりも低レベルとなる。即ち、増幅器３４の
出力信号VSは、ワーク１４の表面に物が付着し
ていたり、あるいはワーク１４の表面に傷等の欠
陥が生じていた場合にはそのレベルが低下する。
ベルの電気信号を出力するように構成されている
ので、増幅器３４の出力信号VSのレベルは、第
２図に示されるように、ワーク１４の表面にゴミ
等の物が付着したり、ワーク１４の表面に傷等の
欠陥が生じていたりすることがないときには、乱
反射が少ないため高レベルV1となり、一方、ワ
ーク１４の表面に物が付着していたり、あるいは
ワーク１４の表面に傷等の欠陥が生じていたとき
には、乱反射が増えて受光量が減少するため電圧
V1よりも低レベルとなる。即ち、増幅器３４の
出力信号VSは、ワーク１４の表面に物が付着し
ていたり、あるいはワーク１４の表面に傷等の欠
陥が生じていた場合にはそのレベルが低下する。
一方、ワーク１４の側面に照射されたレーザ光
はレンズ３６を介して受光素子３８に伝送され
る。レンズ３６、受光素子３８から構成される第
２の光電変換部はワーク１４の側面に照射された
レーザ光のうち少なくともワーク１４の表面側を
通過したレーザ光を受光し、受光したレーザ光の
位置に応じてレベルの異なる２系統の電気信号を
出力するように構成されている。
はレンズ３６を介して受光素子３８に伝送され
る。レンズ３６、受光素子３８から構成される第
２の光電変換部はワーク１４の側面に照射された
レーザ光のうち少なくともワーク１４の表面側を
通過したレーザ光を受光し、受光したレーザ光の
位置に応じてレベルの異なる２系統の電気信号を
出力するように構成されている。
即ち、本実施例においては、第３図に示される
ように、ワーク１４の表面にゴミ等が付着されて
いないときには、受光素子３８にレーザ光１０
０，１０２が受光されるが、ワーク１４の表面に
ゴミ４０等が付着した場合にはレーザ光１０２は
受光素子３８には伝送されず、レーザ光１０４が
受光素子３８に伝送されることになる。そこで本
実施例においては、ワーク１４の側面に照射され
たレーザ光のうちワーク１４の表面側を通過した
レーザ光を受光し、受光したレーザ光の位置に応
じてレベルの異なる２系統の電気信号を出力する
こととしている。受光素子３８はＰ・Ｉ・Ｎの３
層で構成されたPIN形位置検出素子であり、受光
面が抵抗層であるＰ層で構成され、受光面の両端
にそれぞれ電極が設けられている。そして受光面
に光が入射すると入射した光のエネルギーに比例
して生じたキヤリアが電流源となり、入射点と各
電極との間の抵抗に逆比例して分配される電流が
各電極から取り出される。ここで、両電極間の抵
抗をＲとし、入射点と各電極間の抵抗をR1、R2
とすると、各電極からは次式で示される電流i1，
i2が出力される。
ように、ワーク１４の表面にゴミ等が付着されて
いないときには、受光素子３８にレーザ光１０
０，１０２が受光されるが、ワーク１４の表面に
ゴミ４０等が付着した場合にはレーザ光１０２は
受光素子３８には伝送されず、レーザ光１０４が
受光素子３８に伝送されることになる。そこで本
実施例においては、ワーク１４の側面に照射され
たレーザ光のうちワーク１４の表面側を通過した
レーザ光を受光し、受光したレーザ光の位置に応
じてレベルの異なる２系統の電気信号を出力する
こととしている。受光素子３８はＰ・Ｉ・Ｎの３
層で構成されたPIN形位置検出素子であり、受光
面が抵抗層であるＰ層で構成され、受光面の両端
にそれぞれ電極が設けられている。そして受光面
に光が入射すると入射した光のエネルギーに比例
して生じたキヤリアが電流源となり、入射点と各
電極との間の抵抗に逆比例して分配される電流が
各電極から取り出される。ここで、両電極間の抵
抗をＲとし、入射点と各電極間の抵抗をR1、R2
とすると、各電極からは次式で示される電流i1，
i2が出力される。
i1＝R2／R1＋R2ｉ ……(1)
i2＝R1／R1＋R2ｉ ……(2)
ここに、ｉは発生した全電流（ｉ＝i1＋i2）を
示す。
示す。
上記(1)、(2)式から、受光素子３８の各電極の出
力電圧VA、VBは次式によつてあらわされる。
力電圧VA、VBは次式によつてあらわされる。
VA＝i1×R1 ……(3)
VB＝i2×R2 ……(4)
ここで、受光素子３８へ入力するレーザ光量が
常に一定とした場合、受光素子３８の出力電圧の
和は受光位置が変わつても一定となる。
常に一定とした場合、受光素子３８の出力電圧の
和は受光位置が変わつても一定となる。
VC＝VA＋VB ……一定
このとき、VA、又はVBの値が受光位置に相当
する。
する。
しかし、受光素子３８へ入射するレーザ光量は
常に一定とはかぎらず、レーザ光量の変動分をキ
ヤンセルする。従つて、次式のいずれかにより受
光位置を求めることができる。
常に一定とはかぎらず、レーザ光量の変動分をキ
ヤンセルする。従つて、次式のいずれかにより受
光位置を求めることができる。
VQ＝VA／VA＋VB ……(5)
VQ＝VB／VA＋VB ……(6)
VQ＝VA−VB／VA＋VB ……(7)
受光素子３８の各系統の電気信号は演算部４２
の増幅器４４，４６に供給されている。
の増幅器４４，４６に供給されている。
演算部４２は増幅器４４，４６及び演算部４８
から構成されている。増幅器４４，４６はそれぞ
れ受光素子３８からの出力信号VA，VBの各信号
をそれぞれ所定のレベルVA′，VB′に増幅し演算
器４８に供給するように構成されている。
から構成されている。増幅器４４，４６はそれぞ
れ受光素子３８からの出力信号VA，VBの各信号
をそれぞれ所定のレベルVA′，VB′に増幅し演算
器４８に供給するように構成されている。
演算器４８は増幅器４４，４６の各出力信号
VA′，VB′を加算した信号VADD＝VA′＋VB′を求
め、この信号と基準電圧V3比較する。このとき
レーザ光がワーク１４によつてさえぎられていれ
ば、受光素子３８にはレーザ光が入射しないの
で、VA′，VB′は約0Vである。一方、レーザ光が
ワーク１４の上面をかすめて受光素子３８へ直接
入射すると、VA′，VB′は急激に高くなり、VADD
は３〜5V程度となる。このときVADD＞V3となる
ので、次式によつて受光位置を求めるための演算
を行う。
VA′，VB′を加算した信号VADD＝VA′＋VB′を求
め、この信号と基準電圧V3比較する。このとき
レーザ光がワーク１４によつてさえぎられていれ
ば、受光素子３８にはレーザ光が入射しないの
で、VA′，VB′は約0Vである。一方、レーザ光が
ワーク１４の上面をかすめて受光素子３８へ直接
入射すると、VA′，VB′は急激に高くなり、VADD
は３〜5V程度となる。このときVADD＞V3となる
ので、次式によつて受光位置を求めるための演算
を行う。
VQ＝｛（VA′−VB′）／（VV′＋VB′）｝
上記の式によつて得られたVQをサンプルホー
ルドし、VQ＝VPとして出力するようになつてい
る。そして、ワーク１４の表面にゴミ４０等が付
着していないときは、受光素子３８にはレーザ光
１００，１０４，１０２が順次入射されので、第
４図に示されるように、VP＝V2の信号が出力さ
れる。一方、ワーク１４の表面にゴミ４０等が付
着しているときは受光素子３８にはレーザ光１０
０，１０４のみが入射し、同一サンプリング時点
でVB′のレベルがVA′レベルよりも僅かに低下し、
VP＞V2の信号が出力されることになる。そして
これらの信号は計測ユニツト２８に供給される。
ルドし、VQ＝VPとして出力するようになつてい
る。そして、ワーク１４の表面にゴミ４０等が付
着していないときは、受光素子３８にはレーザ光
１００，１０４，１０２が順次入射されので、第
４図に示されるように、VP＝V2の信号が出力さ
れる。一方、ワーク１４の表面にゴミ４０等が付
着しているときは受光素子３８にはレーザ光１０
０，１０４のみが入射し、同一サンプリング時点
でVB′のレベルがVA′レベルよりも僅かに低下し、
VP＞V2の信号が出力されることになる。そして
これらの信号は計測ユニツト２８に供給される。
計測ユニツト２８は、判定部及び駆動部から構
成されている。この駆動部はオプチカルスキヤナ
１８を駆動するための駆動信号Ｓを出力すると共
にモータドライバ５０を駆動する駆動信号DPを
出力するように構成されている。
成されている。この駆動部はオプチカルスキヤナ
１８を駆動するための駆動信号Ｓを出力すると共
にモータドライバ５０を駆動する駆動信号DPを
出力するように構成されている。
判定部には、複数の基準レベルが設定されてお
り、判定部はこの基準レベルと出力信号VS，VP
とをそれぞれ比較し、これらの比較結果を基にワ
ーク１４に対する計測結果を判定し、判定結果を
出力するように構成されている。
り、判定部はこの基準レベルと出力信号VS，VP
とをそれぞれ比較し、これらの比較結果を基にワ
ーク１４に対する計測結果を判定し、判定結果を
出力するように構成されている。
判定部に設定されている第１の基準レベルは、
出力信号VSに対応づけられ、ワーク１４が良品
であるときのレベル、即ち第２図に示されるレベ
ルV1に設定されおり、第２の基準レベルは、演
算部４８の出力信号VPに対応づけられ、ワーク
１４が良品であるときのレベル即ち、第４図のｃ
に示されるレベルV2に対応して設定されている。
出力信号VSに対応づけられ、ワーク１４が良品
であるときのレベル、即ち第２図に示されるレベ
ルV1に設定されおり、第２の基準レベルは、演
算部４８の出力信号VPに対応づけられ、ワーク
１４が良品であるときのレベル即ち、第４図のｃ
に示されるレベルV2に対応して設定されている。
以上のように構成された本実施例における装置
において、計測ユニツト２８からオプチカルスキ
ヤナ１８に三角波状駆動信号Ｓが与えられると、
オプチカルスキヤナ１８が角度θ1の範囲で回転
し、レーザ発振器１６からのレーザ光がレンズ２
０を介してワーク１４の表面側に照射されると共
に、レーザ光がレンズ２４、反射鏡２６を介して
ワーク１４の側面に照射される。このとき、駆動
信号Ｓと同期した移動パルス信号DPがモータ用
ドライバ５０に供給され、モータ１２の回転駆動
によつてワーク１４が移動する。オプチカルスキ
ヤナ１８及びワーク１４の移動に伴なつて、計測
ユニツト２８は、駆動信号Ｓによる角度θ1の範囲
内におけるワーク１４の表面を１スキヤン毎に測
定するために、角度θ3内での受光素子３２の出力
信号を取り込むと共に、角度θ2の範囲での受光素
子３８の出力を取り込み、１スキヤナ毎のタイミ
ングで出力信号VS，VPと第１、第２の基準レベ
ルを比較し、これらの比較結果を基にワーク１４
に対する計測結果を判定し、判定結果を出力す
る。
において、計測ユニツト２８からオプチカルスキ
ヤナ１８に三角波状駆動信号Ｓが与えられると、
オプチカルスキヤナ１８が角度θ1の範囲で回転
し、レーザ発振器１６からのレーザ光がレンズ２
０を介してワーク１４の表面側に照射されると共
に、レーザ光がレンズ２４、反射鏡２６を介して
ワーク１４の側面に照射される。このとき、駆動
信号Ｓと同期した移動パルス信号DPがモータ用
ドライバ５０に供給され、モータ１２の回転駆動
によつてワーク１４が移動する。オプチカルスキ
ヤナ１８及びワーク１４の移動に伴なつて、計測
ユニツト２８は、駆動信号Ｓによる角度θ1の範囲
内におけるワーク１４の表面を１スキヤン毎に測
定するために、角度θ3内での受光素子３２の出力
信号を取り込むと共に、角度θ2の範囲での受光素
子３８の出力を取り込み、１スキヤナ毎のタイミ
ングで出力信号VS，VPと第１、第２の基準レベ
ルを比較し、これらの比較結果を基にワーク１４
に対する計測結果を判定し、判定結果を出力す
る。
即ち、第５図のａに示されるように、出力信号
VSと第１の基準レベルが異なり、出力信号VPと
第２の基準レベルが異なるときワーク１４の表面
に物等が付着したことを判定し、第５図のｂに示
されるように、出力信号VSのレベルが第１の基
準レベルと異なり、出力信号VPのレベルが第２
の基準レベルV2と一致したときには、ワーク１
４の表面に傷、鋳巣等の欠陥が生じたことを判定
し、第５図のｃに示されるように出力信号VSの
出力レベルが第１の基準レベルV1と一致し、出
力信号VPのレベルが第２の基準レベルV2に一致
したときにはワーク１４が良品であることを判定
する。これらの判定結果を、外部の表示装置等に
供給して表示するようにすれば、表示装置に表示
された内容によつてワーク１４の表面欠陥の有無
を正確に判定することができる。
VSと第１の基準レベルが異なり、出力信号VPと
第２の基準レベルが異なるときワーク１４の表面
に物等が付着したことを判定し、第５図のｂに示
されるように、出力信号VSのレベルが第１の基
準レベルと異なり、出力信号VPのレベルが第２
の基準レベルV2と一致したときには、ワーク１
４の表面に傷、鋳巣等の欠陥が生じたことを判定
し、第５図のｃに示されるように出力信号VSの
出力レベルが第１の基準レベルV1と一致し、出
力信号VPのレベルが第２の基準レベルV2に一致
したときにはワーク１４が良品であることを判定
する。これらの判定結果を、外部の表示装置等に
供給して表示するようにすれば、表示装置に表示
された内容によつてワーク１４の表面欠陥の有無
を正確に判定することができる。
このように本実施例においては、ワーク１４の
表面欠陥を計測する際、ワーク１４の表面に傷、
物の付着等の欠陥が生じているか、又、ワーク１
４が良品であるか否かをそれぞれ判定することが
できる。
表面欠陥を計測する際、ワーク１４の表面に傷、
物の付着等の欠陥が生じているか、又、ワーク１
４が良品であるか否かをそれぞれ判定することが
できる。
このため、ワーク１４の表面にゴミや切粉等が
付着していたものを傷等による不良品として判定
することがないので、不良品を再検査する必要も
なく、さらに前工程に洗浄機を設置する必要がな
い。従つて本実施例によれば、歩留りの向上、再
検査工数の削減、設備投資額を低減することがで
きる。
付着していたものを傷等による不良品として判定
することがないので、不良品を再検査する必要も
なく、さらに前工程に洗浄機を設置する必要がな
い。従つて本実施例によれば、歩留りの向上、再
検査工数の削減、設備投資額を低減することがで
きる。
又、前記実施例によれば、目視によつてワーク
１４の表面欠陥を検査しなくてもワーク１４の表
面欠陥の計測を確実に行なえるので、計測作業の
能率の向上が図れると共に、品質の向上を図るこ
とができる。
１４の表面欠陥を検査しなくてもワーク１４の表
面欠陥の計測を確実に行なえるので、計測作業の
能率の向上が図れると共に、品質の向上を図るこ
とができる。
以上説明したように、本発明によれば、単一の
光源からの光を被計測物の表面と側面に照射し、
各面からの反射光を複数の受光素子で受光し、こ
の受光結果に従つて被計測物の表面欠陥を計測す
るようにしたため、被計測物の表面欠陥を確実に
計測できるとともに装置の小型化に寄与すること
ができる。
光源からの光を被計測物の表面と側面に照射し、
各面からの反射光を複数の受光素子で受光し、こ
の受光結果に従つて被計測物の表面欠陥を計測す
るようにしたため、被計測物の表面欠陥を確実に
計測できるとともに装置の小型化に寄与すること
ができる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２
図はレーザービームの角度と電圧との関係を示す
線図、第３図は第１図に示す第２の光電変換部の
構成を説明するための図、第４図のａ〜ｃは第１
図に示す演算部の動作を説明するための波形図、
第５図のａ〜ｃはそれぞれレーザビーム角度と電
圧との関係を示す線図である。 １２……モータ、１４……ワーク、１６……レ
ーザ発振器、１８……オプチカルスキヤナ、２
０，２４，３６……レンズ、２８……計測ユニツ
ト、３２，３８……受光素子、４２……演算部、
３４，４４，４６……増幅器、４８……演算器。
図はレーザービームの角度と電圧との関係を示す
線図、第３図は第１図に示す第２の光電変換部の
構成を説明するための図、第４図のａ〜ｃは第１
図に示す演算部の動作を説明するための波形図、
第５図のａ〜ｃはそれぞれレーザビーム角度と電
圧との関係を示す線図である。 １２……モータ、１４……ワーク、１６……レ
ーザ発振器、１８……オプチカルスキヤナ、２
０，２４，３６……レンズ、２８……計測ユニツ
ト、３２，３８……受光素子、４２……演算部、
３４，４４，４６……増幅器、４８……演算器。
Claims (1)
- １ 光軸が変化するビーム光を順次放射するスキ
ヤナと、スキヤナからのビーム光を被測定物の表
面に向けて順次照射する第１の投光部と、スキヤ
ナからのビーム光を被測定物の側面に向けて順次
照射する第２の投光部と、被計測物の表面に照射
された光の反射光を受光した受光量に応じたレベ
ルの電気信号を出力する第１の光電変換部と、被
計測物の側面に照射されたビーム光のうち少なく
とも被計測物の表面側を通過したビーム光を受光
し、受光したビーム光の位置に応じてレベルの異
なる２系統の電気信号を出力する第２の光電変換
部と、第２の光電変換部出力の各系統の電気信号
のレベルの比を求め、この求めた比に応じた信号
を出力する演算部と、複数の基準レベルが設定さ
れ演算部及び第１の光電変換部の各出力信号と前
記基準レベルとを比較し、これらの比較結果を基
に被計測物に対する計測結果を判定し、判定結果
を出力する判定部と、を含み、前記判定部は、第
１の光電変換部の出力信号のレベルが、第１の光
電変換部の出力信号に対応づけられ被計測物が良
品であるときの第１の基準レベルと異なり、演算
部の出力信号のレベルが、演算部の出力信号に対
応づけられ被計測物が良品であるときの第２の基
準レベルと異なるとき、被計測物の表面に物が付
着したことを判定し、第１の光電変換部の出力信
号のレベルが第１の基準レベルと異なり、演算部
の出力信号のレベルが第２の基準レベルと一致し
たときには被計測物の表面に傷等の欠陥が生じた
ことを判定し、第１の光電変換部の出力信号のレ
ベルが第１の基準レベルと一致し、演算部の出力
信号のレベルが第２の基準レベルに一致したとき
には被計測物が良品であることを判定する、こと
を特徴とする表面欠陥計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22393383A JPS60114749A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 表面欠陥計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22393383A JPS60114749A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 表面欠陥計測装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60114749A JPS60114749A (ja) | 1985-06-21 |
| JPH0527059B2 true JPH0527059B2 (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=16805979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22393383A Granted JPS60114749A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 表面欠陥計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60114749A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5713340A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-23 | Hitachi Ltd | Inspection apparatus for surface defect |
| JPS5862543A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-14 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 欠陥検査装置 |
-
1983
- 1983-11-28 JP JP22393383A patent/JPS60114749A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60114749A (ja) | 1985-06-21 |
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