JPS6048489B2 - 不純物を含有するモノオレフインのオキソ化方法 - Google Patents

不純物を含有するモノオレフインのオキソ化方法

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JPS6048489B2
JPS6048489B2 JP6045876A JP6045876A JPS6048489B2 JP S6048489 B2 JPS6048489 B2 JP S6048489B2 JP 6045876 A JP6045876 A JP 6045876A JP 6045876 A JP6045876 A JP 6045876A JP S6048489 B2 JPS6048489 B2 JP S6048489B2
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oxo
monoolefin
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olefins
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JP6045876A
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修一 福島
啓 星山
寛治 小野
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Nissan Chemical Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は不純物を含有するモノオレフィンを原料とし
オキソ化反応によりアルドヒドまたはアルコールを製造
する方法に関するものであつて炭素数4以上のモノオレ
フィンを水素と一酸化炭素の混合ガスでコバルト触媒を
用いて圧力150〜300に9/c消G)温度100〜
2000Cの間て通常行なわれているいわゆるオキソ化
によるアルドヒド又はアルコールの製造法に関しモノオ
レフィン中にコバルト触媒に対し活性てある不純物て、
オキソ化反応の妨害をし、工程のトラブルを起し、又ひ
きつづ〜いて製品の収率及び品質に悪影響を与えるとこ
ろ の共役ジエン、原料オレフィン貯蔵中に生成する少
量の過酸化物等を特別な方法による前後処理操作をする
ことなくオキソ化反応条件のわずかな変更によりこれら
不純物の影響を除去しうる改良されたオキソ反応に関す
るものである。
現在工業的な第1級アルールの製造方法として広くオ
キソ反応が利用された製品のアルールは可塑剤用及び洗
剤用原料、溶剤その他脂肪酸エステル等の原料としても
多量の需要があり消費されている。
一方アルール製造の原料となるオレフィンも多岐にわた
り(1)エチレン、プロピレン(2)エチレン、プロピ
レンの低次重合物(3)ブチレン類の2量化物(4)ワ
ックスの熱分解によるαオレフィン(5)n−パラフィ
ンの脱水素によるn−オレフィン(6)種々のオレフィ
ンの平均化により生成する干ノオレフイン(7)石油精
製において副生する種々の留分中のモノオレフィン等が
あげられる。 本発明者等は長い間、高性能、高品質の
種々の高級アルールを安価にしかも安定して供給してき
フたが、更に経済性、性能、品質を改良するためにオキ
ソ化反応工程及び原料オレフィンについて鋭意怒力研究
し本発明を完成するに至つた。
即ちオキソ化原料として使用されるモノオレフィンのな
かで比較的入手しやすいものとしてワックス熱分解によ
るα−オレフィン、n−パラフィンの脱水素によるn−
オレフィン、石油精製工程において副生する種々の留分
中のモノオレフィンがオキソ化反応原料として用いられ
る。一般的にみてワックス熱分解によるα−オレフィン
、n−パラフィンの脱水素によるn−オレフィン等は比
較的多くのジオレフイン類を含むものであつて、その代
表的な値を表1に示す。オレフィンをオキソ化してアル
ールを製造するに際してオキソ化反応上好ましくない不
純物としては共役型のジオレフイン類であつて、これら
は通常のコバルトカルボニルを触媒とするようなオキソ
反応においてはπ−アリル酸の錯体を形成し、反応の開
始温度を高くしないかぎり誘導期が存在し、反応が開始
しないということは公知である。
従つて共没型ジオレフインを不純物として含有するオレ
フィンを原料とする場合、1)反応温度を高くする2)
前もつて部分的な水添をする3)化学的処理により共役
ジエンを除く等の方法によりオキソ化反応を実施してお
り、それぞれ工夫が行なわれている。しかしこのような
工夫には欠点も多く、例えば1)反応温度を高くすると
オ.キソ反応の特性上直鎖性オレフィンの転化率はあが
る生成したアルドヒドは、ひきつづきアルコールに転化
し大量の副生物である高沸化合物を生成し収率の低下を
きたす又2)前もつて部分的な水添を行なう場合水添の
ための別装置及び高価な触!媒を必要とし、そのうえ高
い選択率で共役ジオレフインのみを水添することは非常
に困難である。更に3)化学処理による共役ジエンを除
く方法は主としてデイールスアルダー反応により附加物
を作つたりブレンステツド酸、ルイス酸等により?重合
物に変化させることにより除去する方法であるが更に前
記の操作の他にこれらの生成物を精留することにより高
沸物として分離する必要がある場合もある。以上のごと
く従来からオキソ反応に供される直1鎖の原料オレフィ
ン中に含有する共役ジオレフインの処理又は除去につい
て種々の方法があるが本発明者等は、これらの方法に比
較して経済的にも技術的にも優れている本方法を発明し
たのである。
即ち共役ジエンがコバルトカルボニル触媒の存在する特
殊なオキソ化条件下て、選択的にモノオレフィンに転化
し共役ジエンのオキソ反応への影響をまつたく除去でき
る反応形態を見出した。
通常コバルトを用いて行なわせるオキソ反応条件におい
て比較的低温度で共役ジエンを含まないオレフィンとこ
れを含むオレフィンとをオキソ反応した場合、後者には
長時間の誘導期があり反応が起らない。従つて共役ジエ
ンを含有するオレフィンをオキソ化する場合、高温度で
反応させる必要がある。例えば共役ジエンを含まないエ
チレン重合によるα−オレフィンを120゜Cで共役ジ
エンを含むワックス分解α−オレフィンを150゜Cで
その他の条件を全く同じにしてオキソ反応を実施した場
合、第2表のようなオキソ生成物が得られる。
表2からも明らかなように共役ジエンを含まない直鎖オ
レフィンの方が収率的にみて有利である。以上のように
共役ジオレフインを含有するオレフィンをオキソ化した
場合プロセス上にも問題がおこり易く収率上大きな損失
を生じている。
本発明者等は共役ジオレフインがオキソ原料中に含まれ
る場合にオキソ条件下でどのような反応をしているかを
種々のモデル条件下で検討した。オレフィンは市販の9
9.3Wt%以上の1−ヘキサンを更に蒸留精製し使用
し、共役ジオレフインと.して市販の1,3へキサジエ
ンをそのまま混合して使用した。
その結果1−ヘキセン中に含まれる1,3へキサジエン
の0%以上が部分水添反応により選択的に1−ヘキセン
となり、全1−ヘキセンが10%以下しかオキソ化反応
を受けない条件と.してコバルトの使用量が原料オレフ
ィン中に含まれる共役ジエンの1モルに対して1110
0〜1130モル加え、反応圧力は通常の反応圧160
〜200k9/c逍Gガス比通常のとおり、H2:CO
=1.1〜1.5:1、反応温度150〜180’C、
反応時間5 〜30分を採用すれは良いことが判明した
。図1に検討結果の一例として1,3へキサジエンと1
−ヘキセンの転化の様子を示した。
更に試薬以外のワックス分解α−オレフィン、脱水素n
−オレフィンを用いた場合でも前記の1,3へキサジエ
ンと1−ヘキセンで確認されたような条件で処理するこ
とにより共役ジエンは90%以上部分水添されモノオレ
フィンとなつた。このようにして処理し、ほとんどモノ
オレフィンのみとなつた原料は通常の条件下でオキソ化
したアルドヒド、 ノアルコールを製造することができ
るが本発明のごとき共役ジエンを除去したオレフィンの
オキソ化条件としては出来るたけ最適な触媒濃度で、し
かも低温て反応させることが好ましい条件てある。即ち
このような条件として反応系内の触媒量が2〜4gC0
/K9残存モノオレフィンとなるようにし前記処理と同
様なガス比、圧力、反応温度100〜130゜Cの条件
であつて、このような条件下で最も高いアルール収率を
得ることができる。更に共役ジエンを選択的にモノオレ
フィンに部分水添する反応と通常のオキソ反応を半連続
的に実施することも可能であり、例えば第1段の共役ジ
エンを選択的にモノオレフィンに部分水添する反応で共
役ジエンを減少させた反応生成物は一旦少くとも80以
下に冷却した後触媒を5gC()/K9〜15yC0/
K9の濃い状態で含有した有桟溶媒を圧入した後オキソ
反応を実施することができる。
(COはコバルト金属を示す)このとき触媒を含有する
有機溶媒としては1)オキソ反応に不活性て沸点的にア
ルドヒド、アルコールと30’C以上沸点差のあるもの
が適している。例えばオキソ反応で副生する炭化水素又
は高沸生成等は適したものである。2)原料と同じオレ
フィンで共役ジエンを選択的にモノオレフィンに部分水
添したもの又は原料オレフィンそのものであつても反応
系内の共役ジエンの含有量がある一定以上にならないな
らば使用可能である。
なおα−オレフィン等直鎖系オレフィンは貯蔵中わずか
に酸化され過酸化物が生成するが、これ等物質もコバル
ト、カルボニルを被毒させ反応の誘導期をもたらすもの
であるが本発明の如き処理操作を実施することにより、
まつたくその影を示さなくなる。
本発明の処理操作を工業的連続反応装置ておこなう場合
のフローシートを図2に示す。
原料タンクより配管1を通つてジエンを含む原料直鎖オ
レフィンと配管4を通つた触媒を溶解し *た触媒含有
液とを混合した後、その混合物を反応器3へ送入する。
このとき3に送入した液中の触媒濃度はオレフィン中に
含有する共役ジエンの量によるが0.2〜1.0yC0
/K9モノオレフィン送入液となるようにする。この送
入液と同時に圧縮されたオキソガスでH2:COの体積
比が1.1〜1.5:1.0のガスが同時に反応器3へ
配管2を通つて導入される。反応器3は圧力160〜2
30kg/c逍G)温度150〜180℃位、滞留時間
20−旬分位に保つことが反応を実施する上で好ましい
。反応器3を出た前処理物は配管5を通つて熱交換器に
よソー旦温度を80゜C以下に冷却され、配管6から入
つてくる触媒溶解液と混合し反応器7へ送入される。こ
の時の送入液中の触媒濃度は2〜4ダCO/K9残存モ
ノオレフィン送入液となるようにする。反応器7は圧力
150〜200k9/cイG)温度100〜130℃、
滞留時間80〜120分に保ち反応を実施する。反応器
7*’を出た生成物は触媒分離後水素添加蒸留の各工程
を経て製品化される。本発明を使用した上記のプロセス
の利点は1 簡単な反応装置をプレリアクターとして設
置することにより2 オキソ化反応を低温で行なわしめ
ることができ3 そのために高い収率(特に高沸生成物
の生成を抑制する)でアルコールを生産することである
以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例1〜4 共役ジエン2.5wt%を含むワックス分解α−オレフ
ィンで炭素数が6と7の混合物を500m1上下攪拌式
オートクレーブを使用して回分式に試験を行つた結果を
表3に示す。
応時間の増加又は反応温度の上昇にもかかわらずアルド
ヒドアルコールの収率の低下が見られる。
【図面の簡単な説明】
図1は原料として1,3へキサジエン3.2wt%を含
有する1−ヘキセンを使用し、反応圧力160k9/C
ltG、反応温度170℃、ガス比H。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 不純物として共役ジエンを含有する炭素数4以上の
    直鎖系モノオレフィンをコバルトカルボニル触媒の存在
    下オキソ化するにあたり、共役ジエン1モルに対しコバ
    ルトカルボニル触媒を1/100〜1/30モル使用し
    反応温度150〜180℃で、共役ジエンをモノオレフ
    ィンに部分水添すると同時に全モノオレフィンの一部を
    オキソ化後、コバルトカルボニル触媒を2〜4gCo/
    kg残存モノオレフィン使用し、反応温度100〜13
    0℃で、更にオキソ反応を行う事を特徴とするモノオレ
    フィンのオキソ化方法。
JP6045876A 1976-05-25 1976-05-25 不純物を含有するモノオレフインのオキソ化方法 Expired JPS6048489B2 (ja)

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