JPS6049033A - オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの製造方法Info
- Publication number
- JPS6049033A JPS6049033A JP58157539A JP15753983A JPS6049033A JP S6049033 A JPS6049033 A JP S6049033A JP 58157539 A JP58157539 A JP 58157539A JP 15753983 A JP15753983 A JP 15753983A JP S6049033 A JPS6049033 A JP S6049033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organopolysiloxane
- catalyst
- hexaorganodisilazane
- alkali metal
- neutralization
- Prior art date
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- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/32—Post-polymerisation treatment
- C08G77/34—Purification
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はオルガノポリシロキサンの製造方法、特にはア
ルカリ触媒の存在下に重合されたオルガノポリシロキサ
ンを安定化させる方法i1関するものである。
ルカリ触媒の存在下に重合されたオルガノポリシロキサ
ンを安定化させる方法i1関するものである。
オルガノポリシロキサンが各柿オルガノシランの加水分
解f二よって得たオルガノシロキチンのアルカリ触媒の
存在下での■縮合によって得られるということはよく知
られたところであるが、このオルガノポリシロキチンに
ついてはこのアルカリ触媒か含有されていると得られた
オルガノポリシロキサンが次第に解重合されてしまうの
で、これは一般に重合反応終了後に適切な711合物で
このアルカリ触媒を中和するという方法がIljらねで
いる。
解f二よって得たオルガノシロキチンのアルカリ触媒の
存在下での■縮合によって得られるということはよく知
られたところであるが、このオルガノポリシロキチンに
ついてはこのアルカリ触媒か含有されていると得られた
オルガノポリシロキサンが次第に解重合されてしまうの
で、これは一般に重合反応終了後に適切な711合物で
このアルカリ触媒を中和するという方法がIljらねで
いる。
このような中和剤としてはアンモニウムハウイド台・使
用する方法(米国特許第3.(157,821号明細掛
参照)、α−ハロヒドリンを使用゛Cる方法(米国41
′ηIIF!lZ第3.065.203号明装置参照)
/fどが公知とさλ′(ているが、こO)アンモニウム
パライ]′はシロキチンと4’LIi容しないために中
和反応か完結し雉いという不利があり、α−ハロヒドリ
ンでは少h1のハtゴゲンの残存することが多いためf
:得られたオルガノポリシロキサンが耐熱安定性がわる
く、金属を腐蝕させるという欠点があった。このため、
特に半導体機器のような電子部品の保鳩、絶縁封止H料
として使用されるオルガノボリシロキ・す・ンについて
はこの触媒としてのアルカリ金属化合物だけでなく、酸
やノーロゲンなどの含有量が極めて4(s’、いレベル
とされた、重度に41 mされたものが要求されており
、この中和剤についての検討が要望されている。
用する方法(米国特許第3.(157,821号明細掛
参照)、α−ハロヒドリンを使用゛Cる方法(米国41
′ηIIF!lZ第3.065.203号明装置参照)
/fどが公知とさλ′(ているが、こO)アンモニウム
パライ]′はシロキチンと4’LIi容しないために中
和反応か完結し雉いという不利があり、α−ハロヒドリ
ンでは少h1のハtゴゲンの残存することが多いためf
:得られたオルガノポリシロキサンが耐熱安定性がわる
く、金属を腐蝕させるという欠点があった。このため、
特に半導体機器のような電子部品の保鳩、絶縁封止H料
として使用されるオルガノボリシロキ・す・ンについて
はこの触媒としてのアルカリ金属化合物だけでなく、酸
やノーロゲンなどの含有量が極めて4(s’、いレベル
とされた、重度に41 mされたものが要求されており
、この中和剤についての検討が要望されている。
本発明はこのような要求f1応えたオルガノポリシロキ
サンの製造方法に閲−するものであり、これはオルガノ
シリキサン中アルカリ金属化合物を触媒として菫合させ
たのち、この糸Iニトリオルガノハロシランとへキサオ
ルガノジシラザンを添加してこのアルカリ触媒を中和し
、得られたオルガノポリシロキチンを安定化することを
特徴とするものである。
サンの製造方法に閲−するものであり、これはオルガノ
シリキサン中アルカリ金属化合物を触媒として菫合させ
たのち、この糸Iニトリオルガノハロシランとへキサオ
ルガノジシラザンを添加してこのアルカリ触媒を中和し
、得られたオルガノポリシロキチンを安定化することを
特徴とするものである。
本発明者らはアルカリ触媒の存在下で車台させたオルノ
Jノボリシロキサンの安定化方法について4.1f /
(検討した結果、このオルノJノボリシロキサンにトリ
オルノ1〕八ロシランとヘキサオルガノジシラザンな添
加するとオルガノポリシロキサン中に残存するアルカリ
触媒がこのトリオルガノ八口νランのハロゲンで中和さ
れ、一方、この中和工程でハロゲンか副生じてもこれは
へキサオルガノジシラザンとの反応で中和されるので、
これによれば耐熱性、接触金属の腐蝕性が改善され、し
かも抽出水電気伝導度の低いオルガノポリシロキサンを
容易に得ることができることを見出し、このシラン、シ
ラザンの種類、添加量などについての研究を進め本発明
を完成させた。
Jノボリシロキサンの安定化方法について4.1f /
(検討した結果、このオルノJノボリシロキサンにトリ
オルノ1〕八ロシランとヘキサオルガノジシラザンな添
加するとオルガノポリシロキサン中に残存するアルカリ
触媒がこのトリオルガノ八口νランのハロゲンで中和さ
れ、一方、この中和工程でハロゲンか副生じてもこれは
へキサオルガノジシラザンとの反応で中和されるので、
これによれば耐熱性、接触金属の腐蝕性が改善され、し
かも抽出水電気伝導度の低いオルガノポリシロキサンを
容易に得ることができることを見出し、このシラン、シ
ラザンの種類、添加量などについての研究を進め本発明
を完成させた。
本発明方法f二おけるオルガノシロギサンのアルカリ金
属化合物触媒の存在下(二おける車台は公知であり、こ
れは一般式 RInS1χ4−n(R4は1価炭化水%
inは0〜4)で示される各柚オルガノへ口νランの加
水分解によって得られる環状シロキサン、または低分子
量の直鎮状あるいは分枝状シロキザンC二、N a O
H、K OE(あるいはに−シラル−トなどのアルカリ
金属化合物を触媒とじて添加し、無溶剤下あるいは適当
な溶剤中で100〜180℃の加温下(二平衡反応させ
ることi:よつ・0行なわれる。この場合の触媒添加量
は例えばKOH,に−シシル−トを使用するときオルガ
ノシリキサン中のけい素原子に対しSt/K =1〜5
0X10a (モル1モル)の涙反で行なわれ、これに
よってR3’ 8 i 0 o5単位、R25iO単位
、RS I Ot s単位、SiO□単位の適当からな
るホ壬ポリマー、またはコポリマーが製造される。
属化合物触媒の存在下(二おける車台は公知であり、こ
れは一般式 RInS1χ4−n(R4は1価炭化水%
inは0〜4)で示される各柚オルガノへ口νランの加
水分解によって得られる環状シロキサン、または低分子
量の直鎮状あるいは分枝状シロキザンC二、N a O
H、K OE(あるいはに−シラル−トなどのアルカリ
金属化合物を触媒とじて添加し、無溶剤下あるいは適当
な溶剤中で100〜180℃の加温下(二平衡反応させ
ることi:よつ・0行なわれる。この場合の触媒添加量
は例えばKOH,に−シシル−トを使用するときオルガ
ノシリキサン中のけい素原子に対しSt/K =1〜5
0X10a (モル1モル)の涙反で行なわれ、これに
よってR3’ 8 i 0 o5単位、R25iO単位
、RS I Ot s単位、SiO□単位の適当からな
るホ壬ポリマー、またはコポリマーが製造される。
本発明はこのように得られたオルガノポリシロキサンに
残存−「るアルカリ触媒をトリオルガツバ【に7ランと
へキサオルガノジシラザンで中和するというものである
。
残存−「るアルカリ触媒をトリオルガツバ【に7ランと
へキサオルガノジシラザンで中和するというものである
。
このトリオルガノ八ロシランは一般式R:51x(ここ
にR2は非置換または置換1価炭化水素拭、Xはハロゲ
ン原子)で示され、このR2がメチル基、エチル基、プ
ロピル基7:【どのアルキル基、と= 71/ 1,1
4 、アリル基などのアルケニル基、フェニル法、トリ
ル基などのアリール駄、り「Iロノナル基、3.3.3
−トリフルオロプロピル基などのハロゲン置換炭化本案
で示されるもので、これには(OH3)3 SI C1
、(0H2=C旧(CH3)2 S I C]、(OH
3)3SjBr 、(06H,) (CH3)、 81
I などが例示される。このトリオルガツノhロシラ
ンのl小加鼠はアルカリ触媒に対し等モル以上であれば
よく、一般的にはX/アルカリ−1,0〜50(モル1
モル)の範囲、好ましくは1.2〜20(モル1モル)
の範囲とすればよいが、これは中和反応終了後その過剰
分を留去することがよいので沸点が200℃以下のもの
から選択することがよい。
にR2は非置換または置換1価炭化水素拭、Xはハロゲ
ン原子)で示され、このR2がメチル基、エチル基、プ
ロピル基7:【どのアルキル基、と= 71/ 1,1
4 、アリル基などのアルケニル基、フェニル法、トリ
ル基などのアリール駄、り「Iロノナル基、3.3.3
−トリフルオロプロピル基などのハロゲン置換炭化本案
で示されるもので、これには(OH3)3 SI C1
、(0H2=C旧(CH3)2 S I C]、(OH
3)3SjBr 、(06H,) (CH3)、 81
I などが例示される。このトリオルガツノhロシラ
ンのl小加鼠はアルカリ触媒に対し等モル以上であれば
よく、一般的にはX/アルカリ−1,0〜50(モル1
モル)の範囲、好ましくは1.2〜20(モル1モル)
の範囲とすればよいが、これは中和反応終了後その過剰
分を留去することがよいので沸点が200℃以下のもの
から選択することがよい。
マタ、コノトリオルガノ八口νランと併用されるヘキサ
オルガノジシラザンは一般式(R33S 1)2N H
(R3は非置換または置換1価炭化本案基)で示され、
このR3は前記R2と同種のもので、これには ((C
13)3Si )2 NH、C<OH2二CH) (O
H3)2Si 12tJIJ、〔(C6I(5)(C1
13J2S1〕2N■(などが例示される。
オルガノジシラザンは一般式(R33S 1)2N H
(R3は非置換または置換1価炭化本案基)で示され、
このR3は前記R2と同種のもので、これには ((C
13)3Si )2 NH、C<OH2二CH) (O
H3)2Si 12tJIJ、〔(C6I(5)(C1
13J2S1〕2N■(などが例示される。
このヘキサオルガノジシランは前記したトリオルガノ八
Clシランの中和反応で発生した)10ゲンが目的とす
るオルガ、!ボリン【7ギサン中に残存するのを防止す
るために淳加されるものであり、この添加i、Iはトリ
メルガノハロシランの添加上(二対し0.2〜10 (
セル1モル)の範囲、好ましくは0.5〜2.0(−c
ル1モル)の範囲とすれはよいが、これは反応終了後そ
の過剰分を留去する必要があるので、沸点が200℃以
下のものとすることがよい。
Clシランの中和反応で発生した)10ゲンが目的とす
るオルガ、!ボリン【7ギサン中に残存するのを防止す
るために淳加されるものであり、この添加i、Iはトリ
メルガノハロシランの添加上(二対し0.2〜10 (
セル1モル)の範囲、好ましくは0.5〜2.0(−c
ル1モル)の範囲とすれはよいが、これは反応終了後そ
の過剰分を留去する必要があるので、沸点が200℃以
下のものとすることがよい。
本発明の方法における上記した中和反応は、重合された
オルガノポリシロキサンにトリオルガノ八口νソンを添
加し、ついでヘキサオルガノジシランを添加すればよい
が、これはこの両者を予じめ混合し°C添加してもよい
。この中和反応は室温でも進行するが、40〜100℃
の温度に加温すれば数時間以下でこれを完結させること
ができるので、2!l温1ニカロ渇することが望ましい
が、しかしこの温度はここに使用するトリオルガノ八ロ
シシン、ヘキサオルガノジシランの沸点以下とすべきで
ある。この反応終了後、反応系を加熱して、また必要に
応じ識圧下に保持して過剰なトリオルガノ八ロシラン、
ヘキサオルガノジシランを留去すると共l二反応系に添
加された溶剤および隼合時C二生成した低留分を留去し
、ついで生成塩を−IJ別すれば目的とするオルガノポ
リシロキサンを得ることができるが、このオルガノポリ
シロキサンがレジンのように室温下で固体状のものであ
る場合の塩のト別は溶液状態で行なってもよい。
オルガノポリシロキサンにトリオルガノ八口νソンを添
加し、ついでヘキサオルガノジシランを添加すればよい
が、これはこの両者を予じめ混合し°C添加してもよい
。この中和反応は室温でも進行するが、40〜100℃
の温度に加温すれば数時間以下でこれを完結させること
ができるので、2!l温1ニカロ渇することが望ましい
が、しかしこの温度はここに使用するトリオルガノ八ロ
シシン、ヘキサオルガノジシランの沸点以下とすべきで
ある。この反応終了後、反応系を加熱して、また必要に
応じ識圧下に保持して過剰なトリオルガノ八ロシラン、
ヘキサオルガノジシランを留去すると共l二反応系に添
加された溶剤および隼合時C二生成した低留分を留去し
、ついで生成塩を−IJ別すれば目的とするオルガノポ
リシロキサンを得ることができるが、このオルガノポリ
シロキサンがレジンのように室温下で固体状のものであ
る場合の塩のト別は溶液状態で行なってもよい。
っぎl二本発明方法の実施例をあける。
実施例1
[(OH3)3SiO8i(OH3)2120 114
.7y、−f叩戸Wμ乃−ゲソコ 3B、2.G’およ
び口!!二Cゆ已ゾヒL1ジ] 422.8?とからな
るシロキサン混合物に、5%K OH−ジメチルポリシ
ロキサル−ト4.4ノを添加し、150℃で8時間重合
反応させた。
.7y、−f叩戸Wμ乃−ゲソコ 3B、2.G’およ
び口!!二Cゆ已ゾヒL1ジ] 422.8?とからな
るシロキサン混合物に、5%K OH−ジメチルポリシ
ロキサル−ト4.4ノを添加し、150℃で8時間重合
反応させた。
つぎにこの反応故に(CtH3J381G10.6j4
!:〔(CH3)38i)2NH2,4J/との混合液
を添加し、55℃で2時間撹拌して中和処理を行ない、
つい2%)のち、生成i島をト別したところ、粘度4゜
Oc Sの透明fx油状シロキチンが得られ、このポリ
シロキチン中の残留クロル−1lla、Kmを測定した
ところ、これは0.1 p p m、0.2ppm。
!:〔(CH3)38i)2NH2,4J/との混合液
を添加し、55℃で2時間撹拌して中和処理を行ない、
つい2%)のち、生成i島をト別したところ、粘度4゜
Oc Sの透明fx油状シロキチンが得られ、このポリ
シロキチン中の残留クロル−1lla、Kmを測定した
ところ、これは0.1 p p m、0.2ppm。
011)丁I Iffであった。
また、比較のため上記の反応t&g::中和剤としてエ
チレンクロルヒドリン3.2ノを添加し、110−−
i 2 (1℃で4時間4M 44・したのち、上記と
同様にして低留分を除去しくストリップ収率88.0%
)、生成ノル、;を#:I別したところ、粘lゾ404
c′sの透明なオルガノポリシロキサンが得られたが、
これは残存クロル曾を18ppm含んでおり、Na、K
iiも0.3ppm、0.2ppm含むものであった。
チレンクロルヒドリン3.2ノを添加し、110−−
i 2 (1℃で4時間4M 44・したのち、上記と
同様にして低留分を除去しくストリップ収率88.0%
)、生成ノル、;を#:I別したところ、粘lゾ404
c′sの透明なオルガノポリシロキサンが得られたが、
これは残存クロル曾を18ppm含んでおり、Na、K
iiも0.3ppm、0.2ppm含むものであった。
なお、上記において中和剤として10%N )(4B
s溶液57.7iPを添加し、70℃で3時間の中和反
応を行なったが、これはその後の減圧留去口が30%を
越え、中和反応が完了していないことを示した。
s溶液57.7iPを添加し、70℃で3時間の中和反
応を行なったが、これはその後の減圧留去口が30%を
越え、中和反応が完了していないことを示した。
実施例2
06H,5iC1355モア1/%、(OH20H)C
H3Stc3220モル%および(CHll )2 S
IC1225モル%からなる混合シラン溶液を共加水
分解してレジン分40%のトルエン溶液を調製した。
H3Stc3220モル%および(CHll )2 S
IC1225モル%からなる混合シラン溶液を共加水
分解してレジン分40%のトルエン溶液を調製した。
っぎ(二コノ溶液2667jlPに10%Kon溶/&
2.8)を添加し、攪拌丁に昇温して還流によって副生
水をエステルアダプターで除去しながら5116間反応
させたのち、これに(OH3)3SiC] 0.1 f
lとC(CH313SL〕2NH0,9yを添加し、5
0’Cで2時間ノシノ4−シて中和反応を行なわせ、つ
いで溶剤および低悄分不−15(1℃で減圧情夫してか
ら濾過したところ、清明で150 ℃での溶融粘度が9
8501)である固体状のオルHノボリシロギサンレジ
ンが得1うれ、このものの残留クロル−は0、8 p
Tl mであった。
2.8)を添加し、攪拌丁に昇温して還流によって副生
水をエステルアダプターで除去しながら5116間反応
させたのち、これに(OH3)3SiC] 0.1 f
lとC(CH313SL〕2NH0,9yを添加し、5
0’Cで2時間ノシノ4−シて中和反応を行なわせ、つ
いで溶剤および低悄分不−15(1℃で減圧情夫してか
ら濾過したところ、清明で150 ℃での溶融粘度が9
8501)である固体状のオルHノボリシロギサンレジ
ンが得1うれ、このものの残留クロル−は0、8 p
Tl mであった。
これに対し、上記における中和反応を(OH3)3Si
1101ノだけを添加し、55℃で2時間反応させたυ
)ち、溶剤および低留分を留去L7、沢別して得たオル
ガノボリシロギサンレジンは残留クロル匍を37 Tl
1)m含むものでf仁っだ□特許出願人 (呂越化学
工業Fj式会社手続補止書 昭11159づl 8 II 2”、3 ul、串f’
lの表止 11?イ和58年4、’+詐願弔157539号2 発
明の名称 オルガノボリシロギサンの1侍造方法 3、補止をする各 事イアIとの関係 特許出語1人 名称 (206) 他越化学工業株式会社4、代 理
人 6、補正の月象 明細書における「発明の詳細な説明の相1」1)明jl
ll l・;弔4自14行の「炭化水素、」を[炭化本
然−XはへUゲンI+ベチー」とネt4i iE Tる
。
1101ノだけを添加し、55℃で2時間反応させたυ
)ち、溶剤および低留分を留去L7、沢別して得たオル
ガノボリシロギサンレジンは残留クロル匍を37 Tl
1)m含むものでf仁っだ□特許出願人 (呂越化学
工業Fj式会社手続補止書 昭11159づl 8 II 2”、3 ul、串f’
lの表止 11?イ和58年4、’+詐願弔157539号2 発
明の名称 オルガノボリシロギサンの1侍造方法 3、補止をする各 事イアIとの関係 特許出語1人 名称 (206) 他越化学工業株式会社4、代 理
人 6、補正の月象 明細書における「発明の詳細な説明の相1」1)明jl
ll l・;弔4自14行の「炭化水素、」を[炭化本
然−XはへUゲンI+ベチー」とネt4i iE Tる
。
2)明+jil =−:第7自2打および14〜15行
の「ヘキdAtvノIノシiノウンIを[ヘギサオルガ
ノジシラーノーン]と補止−ぐる。
の「ヘキdAtvノIノシiノウンIを[ヘギサオルガ
ノジシラーノーン]と補止−ぐる。
:3)明、+1llti弔8目3行および(5行の[ヘ
キーリーオルガノシ5/シンIを[−キザオルガノジシ
ウザン1と袖+I゛−4−<h+ ・目明、1111 t’1弔を;目1フイI゛の142
2)1を1−−123. )多こl)と補11ニーづる
。
キーリーオルガノシ5/シンIを[−キザオルガノジシ
ウザン1と袖+I゛−4−<h+ ・目明、1111 t’1弔を;目1フイI゛の142
2)1を1−−123. )多こl)と補11ニーづる
。
Hi ) −1jllべ川1“LA’510白17?r
の[o、BJを[1,0&−1と、fた同L’411(
’(fO> [Q、 g 、q Jを[、(’1gJと
袖11〕−る、1 h ) 明’I’lll −r・:”、+i T 1自
o イ]ノH−o、 l !/ 、1を「1. o g
、、1とiilノ1に−する。。
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シ、L)ニ
Claims (1)
- 1゜ オルガノシロキチンをアルカリ金属化合物を触媒
として重合させ、ついでこの系fニトリオルガノへロシ
クンとへキサオルガノジシラザンを添力1ルてこのアル
カリ性触媒を中和し、得られたオルガノポリシロキサン
を安定化することを特徴とするオルガノポリシロキサン
の製造方法
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58157539A JPS6049033A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| US06/641,454 US4563513A (en) | 1983-08-29 | 1984-08-16 | Method for the preparation of a low-impurity organopolysiloxane by the polymerization of an organopolysiloxane oligomer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58157539A JPS6049033A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6049033A true JPS6049033A (ja) | 1985-03-18 |
| JPS6112931B2 JPS6112931B2 (ja) | 1986-04-10 |
Family
ID=15651886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58157539A Granted JPS6049033A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4563513A (ja) |
| JP (1) | JPS6049033A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Also Published As
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