JPS6049300A - Ｘ線顕微鏡 - Google Patents
Ｘ線顕微鏡Info
- Publication number
- JPS6049300A JPS6049300A JP58157427A JP15742783A JPS6049300A JP S6049300 A JPS6049300 A JP S6049300A JP 58157427 A JP58157427 A JP 58157427A JP 15742783 A JP15742783 A JP 15742783A JP S6049300 A JPS6049300 A JP S6049300A
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- JP
- Japan
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- ray
- rays
- microscope
- phase
- mirror
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本５と明はＸ ＦＡｉ値ｊ微鏡に関し、１）にＸ線領域
にｄ３い（位相差法を用い、Ｘ線像のコン１〜ラストを
観察に）凶しｌこもσ月ごし１“ｌるＸ線顕微鏡に関り
−る。
にｄ３い（位相差法を用い、Ｘ線像のコン１〜ラストを
観察に）凶しｌこもσ月ごし１“ｌるＸ線顕微鏡に関り
−る。
Ｘ線Ｗｉ微鏡は生物学、医学の進歩と共に、生体をｉｎ
ＶｉｌｒＯｒ観察するという強い請求の丸に開５とさ
れ（さくいる。従来のＸ線顕微鏡η゛は、試ｔミＩＭ
Ｘ線を照ｑ・１シ、該試Ｉｎを透過しＩＣＸ線をフォト
レジメ１〜に焼きｆ＝１４）、該フＡ１−レジストに焼
（＝ＩＵられＩこ１イ（を−走査？Ｉｉ子顕微鏡ひ観察
するようにしζいる。しかしなから、この方法で１ｑら
れる像の」ントフストは充ツ）（゛なく 、Ｉｌｌ察に
適した像を得ることが回向て・ある。
ＶｉｌｒＯｒ観察するという強い請求の丸に開５とさ
れ（さくいる。従来のＸ線顕微鏡η゛は、試ｔミＩＭ
Ｘ線を照ｑ・１シ、該試Ｉｎを透過しＩＣＸ線をフォト
レジメ１〜に焼きｆ＝１４）、該フＡ１−レジストに焼
（＝ＩＵられＩこ１イ（を−走査？Ｉｉ子顕微鏡ひ観察
するようにしζいる。しかしなから、この方法で１ｑら
れる像の」ントフストは充ツ）（゛なく 、Ｉｌｌ察に
適した像を得ることが回向て・ある。
本発明は、に２通した点に鑑み（なされたものぐ、充分
な一１ンＩ〜ノス１へでＸ線像を１ｇることがでさるＸ
線顕微鏡をＪｉｍ １１りることを［ｊ的とりる。
な一１ンＩ〜ノス１へでＸ線像を１ｇることがでさるＸ
線顕微鏡をＪｉｍ １１りることを［ｊ的とりる。
本発明に基づくＸ線顕微鏡は、Ｘ線源と、該Ｘ線源から
のＸ線を反Ｑ＝１させるＸ線反１，１−１鏡にＪ、り構
成され、試）８１１−にＸＦＡ微小スボッｌ−を形成り
るＩこめのＸ線集光系と、該試お１から回１１ｒされた
Ｘ線を結像するＩこめのＸ線を反則さけるＸ線反射鏡よ
り構成されるＸ線結像系とを備えており、該Ｘ線結像系
の広平面に試ｔｌにＪ、るＯ次回ＪＪｉ光の位相と強度
とを制御Ｊる位相板を配置したことを特徴とし−Ｃいる
。
のＸ線を反Ｑ＝１させるＸ線反１，１−１鏡にＪ、り構
成され、試）８１１−にＸＦＡ微小スボッｌ−を形成り
るＩこめのＸ線集光系と、該試お１から回１１ｒされた
Ｘ線を結像するＩこめのＸ線を反則さけるＸ線反射鏡よ
り構成されるＸ線結像系とを備えており、該Ｘ線結像系
の広平面に試ｔｌにＪ、るＯ次回ＪＪｉ光の位相と強度
とを制御Ｊる位相板を配置したことを特徴とし−Ｃいる
。
以下本発明の一実施例を添イ」図ｍｊに塁つき詳述づる
。
。
第１図においＣ１１は、例えば、回転対陰極型０） Ｘ
線源（゛あり、該Ｘ線源からｆｔ生したＸ線の内、特定
方向に進むＸ線は第１のＸ線反則ｔＪ１２にＪ、って全
反射さＵられる。該第１の反射鏡によって全反射させら
れ７．ｘ Ｘ線は、第２のＸ線反射鏡３にＪ、って全反
射さけられ、光軸Ｏに平行なＸＦＩ＋とされる。該第１
及び第？のＸ線反ＱＪ鎮２，３は人々回転体（゛、 体
加１され（おり、例え【よ、該第１の反射鏡２は回転双
曲面鏡、第２の反ｑ」鏡３は回転ｈ’ｌ １ｔＪ ｉｒ
＋目ｆｌ Ｃ゛Ｊｙｖ ル、、Ｊ 光’ｌ’ｌｌｌ ニ
甲ｔＪトＬＳ ４’Ｌ ／、： Ｘ Ｎ ＩＪ、第３及
び第４のＸ線反０」鏡４．Ｌ〕によっ（試￥Ｎｔ （３
−１−に集光される。尚、４＼実施例にａ３い（、該第
３３の反射鏡４は回ｌＩＩ／、敢物面鏡（あり、第４の
反射鏡５は回転双曲面鏡（・ある。ここＣ１７は！ｉ１
と第２の反射鏡２．こ３にＪ、っ（企及０・１されるＸ
線以外のＸ線を遮蔽（ノるためのＸ線遮蔽Ａｌ（’ｒＡ
、Ｃ３（よ第１〜第１のＸ線反射鏡Ｊ、り成るＸ線集光
系の広平面に配置された絞り板Ｃあり、該絞り扱８には
第２図に示づように、リング状のスリット９が設けられ
ている。該試料６１＼のＸ線の照射により、該試料６か
ら回折されたＸ線は、第５と第６の反射鏡１０．１１に
Ｊ、っ−Ｃ全反則されるが、該第５の反則１１１０は回
転双曲面鏡であり、該第６の反射鏡１１は回転楕Ｉ＋］
面鏡（あり、この第５と第６の反射鏡は試＄３１ （３
から回折されたＸ線の結像系を構成している。１２は、
該第５と第６の反射鏡１０゜１１よりなる結像系の広平
面に配置され位相板であり、１３は該結像系によるＸ線
像の結像位置に配置されたＸ線フィルムである。尚、各
反口ＮＭとしＣ１表面に多層膜が設けられた反射鏡を使
用Ｊれば、集光りるＸ線のｍを増加Ｃさる。
線源（゛あり、該Ｘ線源からｆｔ生したＸ線の内、特定
方向に進むＸ線は第１のＸ線反則ｔＪ１２にＪ、って全
反射さＵられる。該第１の反射鏡によって全反射させら
れ７．ｘ Ｘ線は、第２のＸ線反射鏡３にＪ、って全反
射さけられ、光軸Ｏに平行なＸＦＩ＋とされる。該第１
及び第？のＸ線反ＱＪ鎮２，３は人々回転体（゛、 体
加１され（おり、例え【よ、該第１の反射鏡２は回転双
曲面鏡、第２の反ｑ」鏡３は回転ｈ’ｌ １ｔＪ ｉｒ
＋目ｆｌ Ｃ゛Ｊｙｖ ル、、Ｊ 光’ｌ’ｌｌｌ ニ
甲ｔＪトＬＳ ４’Ｌ ／、： Ｘ Ｎ ＩＪ、第３及
び第４のＸ線反０」鏡４．Ｌ〕によっ（試￥Ｎｔ （３
−１−に集光される。尚、４＼実施例にａ３い（、該第
３３の反射鏡４は回ｌＩＩ／、敢物面鏡（あり、第４の
反射鏡５は回転双曲面鏡（・ある。ここＣ１７は！ｉ１
と第２の反射鏡２．こ３にＪ、っ（企及０・１されるＸ
線以外のＸ線を遮蔽（ノるためのＸ線遮蔽Ａｌ（’ｒＡ
、Ｃ３（よ第１〜第１のＸ線反射鏡Ｊ、り成るＸ線集光
系の広平面に配置された絞り板Ｃあり、該絞り扱８には
第２図に示づように、リング状のスリット９が設けられ
ている。該試料６１＼のＸ線の照射により、該試料６か
ら回折されたＸ線は、第５と第６の反射鏡１０．１１に
Ｊ、っ−Ｃ全反則されるが、該第５の反則１１１０は回
転双曲面鏡であり、該第６の反射鏡１１は回転楕Ｉ＋］
面鏡（あり、この第５と第６の反射鏡は試＄３１ （３
から回折されたＸ線の結像系を構成している。１２は、
該第５と第６の反射鏡１０゜１１よりなる結像系の広平
面に配置され位相板であり、１３は該結像系によるＸ線
像の結像位置に配置されたＸ線フィルムである。尚、各
反口ＮＭとしＣ１表面に多層膜が設けられた反射鏡を使
用Ｊれば、集光りるＸ線のｍを増加Ｃさる。
上述した如き構成においＵ、Ｘ線源１がら発生したＸ線
の内、特定方向に放射されｋＸ線は、第１と第２のＸ線
反射鏡２，３によって仝反ＯｉｌさＵられて光軸と平（
コなＸ線どされ、更に、イれ以外のＸ線はＸ１６４遮蔽
板７によって遮蔽されるｌ、：め、較り板８上にはリン
グ状のＸ線が照射されることになる。該リング状のＸ線
は、該絞り板８のスリブ１−９を通過づることによっＣ
整形され、該整形されたＸ線のみが試料Ｇ上の微小ｊ、
°λにり〕３３と第４の反則！１４．５によって集光さ
れることになる。
の内、特定方向に放射されｋＸ線は、第１と第２のＸ線
反射鏡２，３によって仝反ＯｉｌさＵられて光軸と平（
コなＸ線どされ、更に、イれ以外のＸ線はＸ１６４遮蔽
板７によって遮蔽されるｌ、：め、較り板８上にはリン
グ状のＸ線が照射されることになる。該リング状のＸ線
は、該絞り板８のスリブ１−９を通過づることによっＣ
整形され、該整形されたＸ線のみが試料Ｇ上の微小ｊ、
°λにり〕３３と第４の反則！１４．５によって集光さ
れることになる。
該試訃１６に照射されたＸ線は該試料の厚さ、あるいは
、構成成分の違いに応じて回折される。該回１１１光は
第５と第６の反射鏡１０．１１によってＸ線フィルム１
３３上に結像されるが、該フィルムに向うＸ線は位相板
１２によって制限される。
、構成成分の違いに応じて回折される。該回１１１光は
第５と第６の反射鏡１０．１１によってＸ線フィルム１
３３上に結像されるが、該フィルムに向うＸ線は位相板
１２によって制限される。
さて、アツベ（Δｂｂｃ ）の顕微鏡の理論によると、
その分解能は、試１１としく回折格子を置いたとき、そ
の）〆Ｊか見えるか見えないかで定まる。該試料どじて
の回折格子に照射され、回折された光は対物鏡の広平面
に回折像を作る。第３図は、この広平面に形成されたＣ
）次、±１次の回折像１４゜１５、ｉｅを示しＣおり、
この回折像は、対物鏡の像面では集められ−（結像りる
。ここで、試料が位相格子のどきに（よ、１次の回折光
は０次光と位相が９０°す“れでいる。第１図に示した
位相板１２は、このＯ次回１ハ光の強度を弱めると共に
、その位相を９０’ｅ化させ、１次回折光どＩＯ］位相
とし、それらの回ＩＪｉ光を像面において干渉させ、回
Ｉｈ像の］ントラストを増大さｔ！Ｊ、うとりるもので
ある。該位相板１２の形状は、第４図に示され−Ｃおり
、図中１７は、リング状の開１」であり、該間口は結像
系を構成りる反射鏡１’０．１１から全反則されるＸ線
が通過ぐさるように配置されている。
その分解能は、試１１としく回折格子を置いたとき、そ
の）〆Ｊか見えるか見えないかで定まる。該試料どじて
の回折格子に照射され、回折された光は対物鏡の広平面
に回折像を作る。第３図は、この広平面に形成されたＣ
）次、±１次の回折像１４゜１５、ｉｅを示しＣおり、
この回折像は、対物鏡の像面では集められ−（結像りる
。ここで、試料が位相格子のどきに（よ、１次の回折光
は０次光と位相が９０°す“れでいる。第１図に示した
位相板１２は、このＯ次回１ハ光の強度を弱めると共に
、その位相を９０’ｅ化させ、１次回折光どＩＯ］位相
とし、それらの回ＩＪｉ光を像面において干渉させ、回
Ｉｈ像の］ントラストを増大さｔ！Ｊ、うとりるもので
ある。該位相板１２の形状は、第４図に示され−Ｃおり
、図中１７は、リング状の開１」であり、該間口は結像
系を構成りる反射鏡１’０．１１から全反則されるＸ線
が通過ぐさるように配置されている。
第５図は、該位相４ｉ＊ １２上に形成された回折像を
示しく ａ３す、′１８はＯ次回折光、１９は＋１次回
折光、２０は一１次回折光を人々示している。この図か
ら明らかな通り、結像系の光軸、づなわら、位相板１２
に設りられたリング状の開口１７の中心と、試料６から
の０次回Ｉｆｆ光の中心軸とはずらされており、リング
状のＯ次回折光１ε木が全て該リング仏間［コ１７を通
過づるのを防止づるようにしくいる。該リング状聞ＩＪ
’ｌ ７ ｔ、ｍ ＩＪ 、該聞１’−１１７どＯ次
回１１ｒ光とが交わった領Ｉｔ ２１を通過りるＸ線を
制限りるための遮蔽部分２２が設りられている。該遮蔽
部分２２は、微小円形の複数のＸ線通退部２３３をイＪ
してＪ３す、該Ｘ線通過ｊｏｌｔ ２３の人々には、透
過づるＸ線の強度を弱め、更にイの位相を９０°変化さ
ける厚８を備えた非金属Ａ９１１！Ｊが取（Ｊ（Ｊられ
（いる。このＸ線通渦部２３の人込さ。
示しく ａ３す、′１８はＯ次回折光、１９は＋１次回
折光、２０は一１次回折光を人々示している。この図か
ら明らかな通り、結像系の光軸、づなわら、位相板１２
に設りられたリング状の開口１７の中心と、試料６から
の０次回Ｉｆｆ光の中心軸とはずらされており、リング
状のＯ次回折光１ε木が全て該リング仏間［コ１７を通
過づるのを防止づるようにしくいる。該リング状聞ＩＪ
’ｌ ７ ｔ、ｍ ＩＪ 、該聞１’−１１７どＯ次
回１１ｒ光とが交わった領Ｉｔ ２１を通過りるＸ線を
制限りるための遮蔽部分２２が設りられている。該遮蔽
部分２２は、微小円形の複数のＸ線通退部２３３をイＪ
してＪ３す、該Ｘ線通過ｊｏｌｔ ２３の人々には、透
過づるＸ線の強度を弱め、更にイの位相を９０°変化さ
ける厚８を備えた非金属Ａ９１１！Ｊが取（Ｊ（Ｊられ
（いる。このＸ線通渦部２３の人込さ。
数等は、＋１次、−１次回折光の強度に応じて決められ
る。）１５図において、リング状間口１７の１次、２次
回１１ｉ光ど父わった領域２／′ｌを通過りる回折光は
第１図に示したフィルム上に到達し、強度と位相が位相
板１２によつＣ調９１３されたＯ次回折光と干渉し、そ
の強度が強められることから、該フィルム１５十には観
察に適した］ントラメ１への像が焼イＪ Ｇノられる。
る。）１５図において、リング状間口１７の１次、２次
回１１ｉ光ど父わった領域２／′ｌを通過りる回折光は
第１図に示したフィルム上に到達し、強度と位相が位相
板１２によつＣ調９１３されたＯ次回折光と干渉し、そ
の強度が強められることから、該フィルム１５十には観
察に適した］ントラメ１への像が焼イＪ Ｇノられる。
以上詳述した如く、本発明におい（は、Ｘ線結像系の広
平面にイ１′）用板を配置し、該イ台用板によっＣ試わ
１からのＯ次回１１ｉ光の強度と位相を調整りるように
しノこの（、良好な一１ントラス］〜のＸ線像を（；す
ることか（さる。尚、本発明【、１上述した実施例に限
定されることなく幾多の変形が１＋Ｊ能Ｃある。
平面にイ１′）用板を配置し、該イ台用板によっＣ試わ
１からのＯ次回１１ｉ光の強度と位相を調整りるように
しノこの（、良好な一１ントラス］〜のＸ線像を（；す
ることか（さる。尚、本発明【、１上述した実施例に限
定されることなく幾多の変形が１＋Ｊ能Ｃある。
例えば、Ｘ線集光系の広平面にリング状スリットをイ」
した絞り仮を配置しｌこが、第１図に示したＸ相反Ｑ＝
１鏡２．：３．Ｘ線鴻蔽仮７Ｊ、り成る光学系から５を
牛Ｊる迷よＸ線の量が少ない場合には、この絞り板は必
ずしも必要ではない。又、回１ｆｉＸ線をノイルム上に
結像りるようにしたが、ノイルムに代え、回折Ｘ線の結
像位置にＸ線踊像管を配置づるＪ、うにし−（も良い。
した絞り仮を配置しｌこが、第１図に示したＸ相反Ｑ＝
１鏡２．：３．Ｘ線鴻蔽仮７Ｊ、り成る光学系から５を
牛Ｊる迷よＸ線の量が少ない場合には、この絞り板は必
ずしも必要ではない。又、回１ｆｉＸ線をノイルム上に
結像りるようにしたが、ノイルムに代え、回折Ｘ線の結
像位置にＸ線踊像管を配置づるＪ、うにし−（も良い。
更に、位相板の開口に設（ノられたＯ次回折光の通過部
２３の形状は、円形のみならず、１ｌ−１ｊ形、菱形等
であってし良い。更に又、Ｏ次回折光の位相を干渉によ
つ−Ｃ回折像が強められるＪ、うにずらしたが、回折光
が干渉によっ４弱められる」、うにＯ次回折光の位相を
変化させてし良い。
２３の形状は、円形のみならず、１ｌ−１ｊ形、菱形等
であってし良い。更に又、Ｏ次回折光の位相を干渉によ
つ−Ｃ回折像が強められるＪ、うにずらしたが、回折光
が干渉によっ４弱められる」、うにＯ次回折光の位相を
変化させてし良い。
第１図は本発明に基づ＜ｘＦＡ顕微鏡の光学系を示４図
、第２図は絞り板の形状を承り図、第３図は回折光を示
−４図、第４図は位相板の形状を承り拡大図、第５図は
位相板上での各回Ｊｌｉ光を承り図である。 １・・・Ｘ線源 ２．３，４，５．１０．１ ”ｌ−Ｘ検反１（鏡６・・
・試料 ７・・・Ｘ線遮蔽板 ８・・・絞り仮 ９・・・スリン１〜 １２・・・イ１ン相４ｂシ ′１５・・・フィルム １ぜｆ；′［出願人 １」本電子株式会社 代表者 伊藤 −大 ５ −５９６− 第５図 〈望 え／ ２’Ｊ ｌ’１
、第２図は絞り板の形状を承り図、第３図は回折光を示
−４図、第４図は位相板の形状を承り拡大図、第５図は
位相板上での各回Ｊｌｉ光を承り図である。 １・・・Ｘ線源 ２．３，４，５．１０．１ ”ｌ−Ｘ検反１（鏡６・・
・試料 ７・・・Ｘ線遮蔽板 ８・・・絞り仮 ９・・・スリン１〜 １２・・・イ１ン相４ｂシ ′１５・・・フィルム １ぜｆ；′［出願人 １」本電子株式会社 代表者 伊藤 −大 ５ −５９６− 第５図 〈望 え／ ２’Ｊ ｌ’１
Claims (4)
- （１）Ｘ線源と、該Ｘ線源からのＸ線を反射させるＸ線
反則鏡により構成され、試料上にＸ線微小スボッ（〜を
形成するためのＸ線集光系と、該−〇′８１から回折さ
れたＸ Ｆ！１を結＠づるためのＸ線を反（ＩＪさμる
ｘ＆！反射ｔｎ Ｊ、す４Ｍ成されるＸ線結像系とを（
ｉ／）えてｄ３す、該Ｘ線結像系の焦乎面に試１′＋１
にょる０次回折光の位相ど強庶どを制御りるに／ ４１
１１ルを配置したＸ線顕微鏡。 - （２）該Ｘ線反銅鏡は回転イホぐあり、リンク状のＸＦ
Ａが試わ１に照０４６ Ｊする特に’Ｆ 請求の範囲第
（１）項記載のＸ線顕微鏡。 - （３）該試料に照射されるＸ線を制限づる、スリット・
を右した絞り（ｋを１１轟えＩＣｑ！ｉｉ＋’１品５Ｊ
シの９セ１川第（１） １１！ ７’Ｊ至第（２）項記
載のＸ線顕微鏡。 - （４）該Ｘ線結像系は、その光軸が試Ｆｌがらの０次回
折光の中心軸と一致しないＪ、うに配ｔされ（いる１！
を狛請５ｊ（の範囲第（１）項乃至第（３）項記１Ｍ
ノＸ ｆＦ’２． ＶＩ＋微鏡。 （Ｆ））該イ；ｔ Ｉｆ ４１Ｘ ハ、”＋＞Ｘ線結像
系を出ＱＪ したＸ線を通過させるリンク状の聞ＩＩを
有しでｄ３す、該リンク状の聞１１Ｌ：は０次回折光が
通過りる部分にイの位相を制御１Ｊる薄１１つ）を設（
）た’ｌｊｒ ｉ’ｌ請求の範囲第（／Ｉ）項記載のＸ
線顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58157427A JPS6049300A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | Ｘ線顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58157427A JPS6049300A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | Ｘ線顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6049300A true JPS6049300A (ja) | 1985-03-18 |
Family
ID=15649395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58157427A Pending JPS6049300A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | Ｘ線顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6049300A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63163300A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-07-06 | カール・ツアイスースチフツング | Ｘ線顕微鏡 |
| US4953188A (en) * | 1988-06-09 | 1990-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung | Method and device for producing phase-contrast images |
-
1983
- 1983-08-29 JP JP58157427A patent/JPS6049300A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63163300A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-07-06 | カール・ツアイスースチフツング | Ｘ線顕微鏡 |
| US4953188A (en) * | 1988-06-09 | 1990-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung | Method and device for producing phase-contrast images |
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