JPS61292600A - Ｘ線光学系 - Google Patents
Ｘ線光学系Info
- Publication number
- JPS61292600A JPS61292600A JP13494785A JP13494785A JPS61292600A JP S61292600 A JPS61292600 A JP S61292600A JP 13494785 A JP13494785 A JP 13494785A JP 13494785 A JP13494785 A JP 13494785A JP S61292600 A JPS61292600 A JP S61292600A
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- JP
- Japan
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- lens
- rays
- ray
- curved
- mirror
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- Granted
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、Ｘ線顕微鏡等の対物レンズと接眼レンズに使
用して最適なＸ線光学系に関する。
用して最適なＸ線光学系に関する。
［従来技術］
考えられているが、その中で、回転体反射鏡を用いるも
のが注目されている。この光学系は、例えば、回転双曲
面体と回転楕円面体との内側表面をＸ線の全反射面とし
、該内側表面によってＸ線を全反射させて該Ｘ１１を集
光するように構成している。この集光されたＸ線を試料
に照射し、該試料によって回折されたＸ線を回転楕円面
体と回転双曲面体とより成る対物レンズと、同じく回転
楕円面体と回転双曲面体とより成る接眼レンズとより構
成されるＸ線光学系によって結像すれば、試料のＸ線像
を得ることができる。
のが注目されている。この光学系は、例えば、回転双曲
面体と回転楕円面体との内側表面をＸ線の全反射面とし
、該内側表面によってＸ線を全反射させて該Ｘ１１を集
光するように構成している。この集光されたＸ線を試料
に照射し、該試料によって回折されたＸ線を回転楕円面
体と回転双曲面体とより成る対物レンズと、同じく回転
楕円面体と回転双曲面体とより成る接眼レンズとより構
成されるＸ線光学系によって結像すれば、試料のＸ線像
を得ることができる。
［発明が解決しようとする問題点］
上述したＸ線光学系は、多数の２焦点回転曲面体を使用
し、各曲面体の焦点を直線上の光軸上に配置しなければ
ならないため、像の結像方向も限られた方向となる。又
、回転曲面体の内側のＸ線反剣面は、高い精度の加工が
要求されるが、回転面であるがためにその工作は、極め
て国号である。
し、各曲面体の焦点を直線上の光軸上に配置しなければ
ならないため、像の結像方向も限られた方向となる。又
、回転曲面体の内側のＸ線反剣面は、高い精度の加工が
要求されるが、回転面であるがためにその工作は、極め
て国号である。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、像の結
像方向を任意に設定できると共に、レンズの加工も容易
なＸ線光学系を促供することを目的としている。
像方向を任意に設定できると共に、レンズの加工も容易
なＸ線光学系を促供することを目的としている。
［問題点を解決するための手段］
本発明に基づくＸ線光学系は、２焦点回転曲面体を有し
、物点からのＸ線を該曲面体の内面において全反射させ
て集光する第１のレンズと、２焦点曲面体を有し、該第
１のレンズによって集光されたＸ線を該曲面体の内面に
おいて全反射させて結像する第２のレンズとを備えてお
り、該第１と第２のレンズの光軸は、該第１のレンズの
集光点において交差するように傾けて配置され、該第２
のレンズを構成する２焦点曲面体は、回転体の一部が切
り欠かれている形状に形成されていることを特徴として
いる。
、物点からのＸ線を該曲面体の内面において全反射させ
て集光する第１のレンズと、２焦点曲面体を有し、該第
１のレンズによって集光されたＸ線を該曲面体の内面に
おいて全反射させて結像する第２のレンズとを備えてお
り、該第１と第２のレンズの光軸は、該第１のレンズの
集光点において交差するように傾けて配置され、該第２
のレンズを構成する２焦点曲面体は、回転体の一部が切
り欠かれている形状に形成されていることを特徴として
いる。
［作用］
Ｘ線源からのＸ線は集光されて試料に照射される。該試
料からのＸ線は２焦点回転曲面体より成る第１のＸ線レ
ンズによって集光される。該集光されたＸ線は２焦点曲
面体より成る第２のＸ線レンズによって結像されるが、
該第１のレンズを構成する２焦点回転曲面体の２焦点を
結ぶ光軸に対し、該第２のレンズを構成する２焦点曲面
体の２焦点を結ぶ光軸は、所定の角度傾けられて配置さ
れ、該第２のレンズの曲面体の一方の焦点が該第１のレ
ンズによるＸ線の集光点と一致して配置されている。更
に、該第２のＸ線レンズを構成する曲面体の一部は該光
軸を傾けることによってＸ線が入射しなくなるため、該
曲面体は、その部分が切り欠かれた形状とされている。
料からのＸ線は２焦点回転曲面体より成る第１のＸ線レ
ンズによって集光される。該集光されたＸ線は２焦点曲
面体より成る第２のＸ線レンズによって結像されるが、
該第１のレンズを構成する２焦点回転曲面体の２焦点を
結ぶ光軸に対し、該第２のレンズを構成する２焦点曲面
体の２焦点を結ぶ光軸は、所定の角度傾けられて配置さ
れ、該第２のレンズの曲面体の一方の焦点が該第１のレ
ンズによるＸ線の集光点と一致して配置されている。更
に、該第２のＸ線レンズを構成する曲面体の一部は該光
軸を傾けることによってＸ線が入射しなくなるため、該
曲面体は、その部分が切り欠かれた形状とされている。
この結果、Ｘ線の結像方向は該第２のレンズの光軸の方
向に応じて変えることができ、又、部分的に切り欠かれ
た曲面体の高精度の研磨等の加工は容易となる。
向に応じて変えることができ、又、部分的に切り欠かれ
た曲面体の高精度の研磨等の加工は容易となる。
［実施例］
以下本発明の一実施例を添付図面に基づき詳述する。
第１図は本発明を実施したＸ線顕微鏡を示しており、１
は、例えば、回転対陰極型のＸ線源であり、該Ｘ線源か
ら発生したＸ線の内、特定方向に進むＸ線は第１のＸ線
反射鏡２によって全反射させられる。該第１の反射鏡に
よって全反射させられたＸ線は、第２のＸ線反射鏡３に
よって全反射させられ、光軸０１に平行なＸ線とされる
。該第１及び第２のＸ線反射鏡２．３は夫々回転体で、
一体加工されており、例えば、該第１の反ｔＦＪＭ２は
回転双曲面鏡、第２の反射鏡３は回転放物面鏡である。
は、例えば、回転対陰極型のＸ線源であり、該Ｘ線源か
ら発生したＸ線の内、特定方向に進むＸ線は第１のＸ線
反射鏡２によって全反射させられる。該第１の反射鏡に
よって全反射させられたＸ線は、第２のＸ線反射鏡３に
よって全反射させられ、光軸０１に平行なＸ線とされる
。該第１及び第２のＸ線反射鏡２．３は夫々回転体で、
一体加工されており、例えば、該第１の反ｔＦＪＭ２は
回転双曲面鏡、第２の反射鏡３は回転放物面鏡である。
該光軸に平行とされたＸ線は、第３及び第４のＸ線反射
鏡４．５によって試料６上に集光される。尚、本実施例
において、該第３の反射鏡４は回転放物面鏡であり、第
４の反射鏡５は回転双曲面鏡である。ここで、７は第１
と第２の反射鏡２，３によって全反射されるｘＩｊＩ以
外のＸ線を遮蔽するためのＸ線遮蔽部材、８は第１〜第
４のＸ線反射鏡より成るＸ線集光系の焦平面に配置され
た絞り板であり、該絞り板８にはリング状のスリットが
設けられている。該試料６へのＸ線の照射により、該試
料６から回折されたＸ線は、第５と第６の反射ｖｉ１０
，１１によって全反射されるが、該第５の反射鏡１０は
回転双曲面鏡であり、該第６の反射鏡１１は回転楕円面
鏡であり、この第５と第６の反ｌ）Ｉ鏡は試料６から回
折されたＸ線の対物レンズを構成している。該対物レン
ズによって試料６から回折されたＸ線は光軸０１上の回
転楕円面鏡１１の一方の焦点Ｆ１に集光される。
鏡４．５によって試料６上に集光される。尚、本実施例
において、該第３の反射鏡４は回転放物面鏡であり、第
４の反射鏡５は回転双曲面鏡である。ここで、７は第１
と第２の反射鏡２，３によって全反射されるｘＩｊＩ以
外のＸ線を遮蔽するためのＸ線遮蔽部材、８は第１〜第
４のＸ線反射鏡より成るＸ線集光系の焦平面に配置され
た絞り板であり、該絞り板８にはリング状のスリットが
設けられている。該試料６へのＸ線の照射により、該試
料６から回折されたＸ線は、第５と第６の反射ｖｉ１０
，１１によって全反射されるが、該第５の反射鏡１０は
回転双曲面鏡であり、該第６の反射鏡１１は回転楕円面
鏡であり、この第５と第６の反ｌ）Ｉ鏡は試料６から回
折されたＸ線の対物レンズを構成している。該対物レン
ズによって試料６から回折されたＸ線は光軸０１上の回
転楕円面鏡１１の一方の焦点Ｆ１に集光される。
該焦点Ｆ１に集光されたＸ線は、更に第７と第８の反射
鏡１２．１３によって全反射されるが、該第７の反射鏡
１２は回転双曲面鏡であり、該第８の反射鏡１３は回転
楕円面鏡であり、この第７と第８の反射鏡は接眼レンズ
を構成している。該第７と第８の反射鏡１２．１３の各
焦点は該光軸０１と焦点Ｆ１で交差する光軸０２上に配
置されている。該第７と第８の反射鏡１２．１３は、回
転体の一部が切り欠かれた形状であるが、焦点Ｆ１から
のＸ線が入射する部分は少なくとも反射面が形成されて
いる。１４は該結像系によるＸ線像の結像位置、すなわ
ち、第８の反射鏡の一方の焦点位置Ｆ２に配置された撮
像管であり、該撮像管１４によって検出された信号は、
増幅器１５に供給されて増幅され、陰極線管の如き表示
手段１６に供給される。尚、各反射鏡として、表面に多
層膜が設けられた反射鏡を使用すれば、集光するＸ線の
坦を増加できる。
鏡１２．１３によって全反射されるが、該第７の反射鏡
１２は回転双曲面鏡であり、該第８の反射鏡１３は回転
楕円面鏡であり、この第７と第８の反射鏡は接眼レンズ
を構成している。該第７と第８の反射鏡１２．１３の各
焦点は該光軸０１と焦点Ｆ１で交差する光軸０２上に配
置されている。該第７と第８の反射鏡１２．１３は、回
転体の一部が切り欠かれた形状であるが、焦点Ｆ１から
のＸ線が入射する部分は少なくとも反射面が形成されて
いる。１４は該結像系によるＸ線像の結像位置、すなわ
ち、第８の反射鏡の一方の焦点位置Ｆ２に配置された撮
像管であり、該撮像管１４によって検出された信号は、
増幅器１５に供給されて増幅され、陰極線管の如き表示
手段１６に供給される。尚、各反射鏡として、表面に多
層膜が設けられた反射鏡を使用すれば、集光するＸ線の
坦を増加できる。
上述した如き構成において、Ｘ線源１がら発生したＸ線
の内、特定方向に放射されたＸ線は、第１と第２のＸＦ
Ａ反ｒＪＪ鏡２．３によって全反射させられて光＠ｏｌ
と平行なＸ線とされ、更に、それ以外のＸ線はＸａ遮蔽
板７によって遮蔽されるため、絞り板８上にはリング状
のＸ線が照射されることになる。該リング状のＸ線は、
該絞り板８のスリットを通過することによって整形され
、該整形されたＸＩ！のみが試料６上の微小点に第３と
第４の反射鏡４，５によって集光されることになる。
の内、特定方向に放射されたＸ線は、第１と第２のＸＦ
Ａ反ｒＪＪ鏡２．３によって全反射させられて光＠ｏｌ
と平行なＸ線とされ、更に、それ以外のＸ線はＸａ遮蔽
板７によって遮蔽されるため、絞り板８上にはリング状
のＸ線が照射されることになる。該リング状のＸ線は、
該絞り板８のスリットを通過することによって整形され
、該整形されたＸＩ！のみが試料６上の微小点に第３と
第４の反射鏡４，５によって集光されることになる。
該試料６に照射されたＸ線は該試料の厚さ、あるいは、
構成成分の違いに応じて回折される。該回折光は対物レ
ンズを構成する第５と第６の反射鏡１０．１１により全
反射させられ、回転楕円体である反射鏡１１の一方の焦
点Ｆ１に集光される。
構成成分の違いに応じて回折される。該回折光は対物レ
ンズを構成する第５と第６の反射鏡１０．１１により全
反射させられ、回転楕円体である反射鏡１１の一方の焦
点Ｆ１に集光される。
該集光されたＸ線は、接眼レンズによって結像されるが
、該接眼レンズを構成する双曲面反射鏡１２の一方の焦
点は、前記集光点Ｆ１と一致され、他方の焦点は楕円面
反射鏡１３の一方の焦点と共通に配置されている。そし
て、該楕円面反射鏡１３の他方の焦点Ｆ２には、前記し
たように記像管１４が配置されている。この結果、該焦
点Ｆ１からのＸ線は、双曲面皮Ｄ［１２によって全反射
された後、楕円面皮ｔＡ鏡１３によって全反射され、焦
点Ｆ２に結像される。ここで、該接眼レンズを構成する
双曲面反射鏡１２と楕円面反射鏡１３の各焦点は、光軸
ｏ１と集光点Ｆ２において交差する光軸０２上に配置さ
れているが、両光軸がずれていても、集光されたＸ綴金
てが双曲面１２によって全反射されるように該光軸が傾
けられているため、Ｘ線の結像には何等の支障もない。
、該接眼レンズを構成する双曲面反射鏡１２の一方の焦
点は、前記集光点Ｆ１と一致され、他方の焦点は楕円面
反射鏡１３の一方の焦点と共通に配置されている。そし
て、該楕円面反射鏡１３の他方の焦点Ｆ２には、前記し
たように記像管１４が配置されている。この結果、該焦
点Ｆ１からのＸ線は、双曲面皮Ｄ［１２によって全反射
された後、楕円面皮ｔＡ鏡１３によって全反射され、焦
点Ｆ２に結像される。ここで、該接眼レンズを構成する
双曲面反射鏡１２と楕円面反射鏡１３の各焦点は、光軸
ｏ１と集光点Ｆ２において交差する光軸０２上に配置さ
れているが、両光軸がずれていても、集光されたＸ綴金
てが双曲面１２によって全反射されるように該光軸が傾
けられているため、Ｘ線の結像には何等の支障もない。
更に、このように光軸を傾けたので、双曲面反射鏡１２
と楕円面皮ｔＡ鏡１３は完全な回転体である必要はなく
、Ｘ線が入射する部分のみ全反射面が存在すれば良い。
と楕円面皮ｔＡ鏡１３は完全な回転体である必要はなく
、Ｘ線が入射する部分のみ全反射面が存在すれば良い。
従って、該反射鏡１２．１３としては、Ｘ線が入射しな
い回転体の一部分を切り欠いた形状の反射鏡を用いるこ
とができる。このように、部分的に回転体となっている
反射鏡は、反射面の研磨１反射面への多層膜の蒸着等を
完全な回転体に比べて簡単に行うことができ、その製作
が容易となる。
い回転体の一部分を切り欠いた形状の反射鏡を用いるこ
とができる。このように、部分的に回転体となっている
反射鏡は、反射面の研磨１反射面への多層膜の蒸着等を
完全な回転体に比べて簡単に行うことができ、その製作
が容易となる。
以上、本発明の一実施例を詳述したが、本発明はこの実
施例に限定されず、幾多の変形が可能である。例えば、
対物レンズあるいは接眼レンズとして、２種の曲面体を
組合せたレンズ系を用いたが、各レンズ共、単一の曲面
体によって構成しても良く、逆に、３Ｆ！以上の曲面体
を組合せたレンズ系を用いても良い。
施例に限定されず、幾多の変形が可能である。例えば、
対物レンズあるいは接眼レンズとして、２種の曲面体を
組合せたレンズ系を用いたが、各レンズ共、単一の曲面
体によって構成しても良く、逆に、３Ｆ！以上の曲面体
を組合せたレンズ系を用いても良い。
［効果］
以上詳述した如く、本発明は、対物レンズ等の第１のレ
ンズの光軸に対して、接眼レンズ等の第２のレンズの光
軸を傾けて配置するようにしたため、Ｘ線像の結像方向
を所望の方向に変えることができる。又、該第２のレン
ズの光軸を傾けたため、第２のレンズを構成する曲面体
を回転体の一部の形状とすることができ、該レンズの製
作を簡単に行うことができる。
ンズの光軸に対して、接眼レンズ等の第２のレンズの光
軸を傾けて配置するようにしたため、Ｘ線像の結像方向
を所望の方向に変えることができる。又、該第２のレン
ズの光軸を傾けたため、第２のレンズを構成する曲面体
を回転体の一部の形状とすることができ、該レンズの製
作を簡単に行うことができる。
添附図面は本発明の一実施例であるＸ線顕微鏡を示す図
である。 １・・・Ｘ線源 ２．３．４．５・・・Ｘ線反射鏡 ６・・・試料 ７・・・Ｘ線遮蔽板８・・・絞
り板 ９・・・スリット１０．１１．１２．１３
・・・Ｘ線反射鏡１４・・・搬像管 １５・・・増
幅器１６・・・表示手段
である。 １・・・Ｘ線源 ２．３．４．５・・・Ｘ線反射鏡 ６・・・試料 ７・・・Ｘ線遮蔽板８・・・絞
り板 ９・・・スリット１０．１１．１２．１３
・・・Ｘ線反射鏡１４・・・搬像管 １５・・・増
幅器１６・・・表示手段
Claims (1)
- （１）２焦点回転曲面体を有し、物点からのＸ線を該曲
面体の内面において全反射させて集光する第１のレンズ
と、２焦点曲面体を有し、該第１のレンズによって集光
されたＸ線を該曲面体の内面において全反射させて結像
する第２のレンズとを備えており、該第１と第２のレン
ズの光軸は、該第１のレンズの集光点において交差する
ように傾けて配置され、該第２のレンズを構成する２焦
点曲面体は、回転体の一部が切り欠かれている形状に形
成されていることを特徴とするＸ線光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13494785A JPS61292600A (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | Ｘ線光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13494785A JPS61292600A (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | Ｘ線光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61292600A true JPS61292600A (ja) | 1986-12-23 |
| JPH0511600B2 JPH0511600B2 (ja) | 1993-02-15 |
Family
ID=15140280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13494785A Granted JPS61292600A (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | Ｘ線光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61292600A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01117252A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線像観察装置 |
| US5055679A (en) * | 1989-01-06 | 1991-10-08 | Hitachi, Ltd. | Surface analysis method and apparatus |
| US5241426A (en) * | 1991-04-26 | 1993-08-31 | Olympus Optical Co., Ltd. | Condenser optical system |
| US5291339A (en) * | 1990-11-30 | 1994-03-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Schwarzschild optical system |
| JP2005115108A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Sony Corp | 表示装置および方法、並びに撮像装置および方法 |
| JP2012242165A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線装置 |
-
1985
- 1985-06-20 JP JP13494785A patent/JPS61292600A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01117252A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線像観察装置 |
| US5055679A (en) * | 1989-01-06 | 1991-10-08 | Hitachi, Ltd. | Surface analysis method and apparatus |
| US5291339A (en) * | 1990-11-30 | 1994-03-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Schwarzschild optical system |
| US5241426A (en) * | 1991-04-26 | 1993-08-31 | Olympus Optical Co., Ltd. | Condenser optical system |
| JP2005115108A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Sony Corp | 表示装置および方法、並びに撮像装置および方法 |
| JP2012242165A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0511600B2 (ja) | 1993-02-15 |
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