JPS6052174B2 - フルオラン誘導体の製造方法 - Google Patents

フルオラン誘導体の製造方法

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JPS6052174B2
JPS6052174B2 JP1046880A JP1046880A JPS6052174B2 JP S6052174 B2 JPS6052174 B2 JP S6052174B2 JP 1046880 A JP1046880 A JP 1046880A JP 1046880 A JP1046880 A JP 1046880A JP S6052174 B2 JPS6052174 B2 JP S6052174B2
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JP
Japan
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carbon atoms
general formula
producing
less carbon
benzoic acid
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JP1046880A
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謙 岩倉
幸蔵 佐藤
誠治 鈴木
貞夫 石毛
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフルオラン誘導体の製造方法に関するものであ
る。
本発明に係るフルオラン誘導体は記録材料、特に感圧記
録材料、感熱記録材料及び通電記録材料の色素前駆体と
して使用するフルオラン化合物の合成中間体として有用
な化合物である。
フルオラン誘導体の合成方法としては、下式に示す様に
2−(4−ジアルキルアミノー2−ヒドロキシベンゾイ
ル)安息香酸(A)とアミノフエノール誘導体(B)を
反応させる方法が知られている。
しかし、上述の方法は必ずしも満足なものでは無く、特
に工業的に大量のフルオラン誘導体を合成する場合、生
成物の純度、収率等の点で欠点が多い。
従つて、本発明の目的はフルオラン誘導体の新規な製造
方法を提供することであり、特に工業的に有用なフルオ
ラン誘導体の合成方法を提供することである。
本発明の目的は、下記一般式〔1〕ぞ表わされる2−(
4−ジアルキルアミノー2−ヒドロキシベンゾイル)安
息香酸と一般式〔〕で表わされるアミノフェノール誘導
体を反応させることにより達成された。
〔式中、R1,R2は炭素原子数18以下のアルキル基
を、R3は水素原子、炭素原子数5以下のアシル基、炭
素原子数5以下のアルキル基又は炭素原子数丘以下のア
ラルキル基を、R4は炭素原子数5以下のアシル基を、
Xはハロゲン原子を表わす。
〕すなわち、2−(4−ジアルキルアミノー2−ヒドロ
キシベンゾイル)安息香酸とアミノフェノール誘導体と
を縮合剤の存在下に反応させることによソー般式〔〕で
示されるフルオラン誘導体を製造する方法である。
一般式〔〕で表わされるアミノフェノール誘導体中R4
はフオルミル基、アセチル基、プロピオニル基、が好ま
しく、特にアセチル基が好ましい。
本発明の原料として使用される、一般式〔〕で表わされ
る2−(4−ジアルキルアミノー2−ヒドロキシベンゾ
イル)安息香酸の代表的な化合物には、2−(4−ジメ
チルアミノー2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、2
−(4−ジエチルアミノー2−ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸および2−(4−ジブチルアミノー2−ヒドロ
キシベンゾイル)安息香酸などがある。
一般式〔〕で表わされるアミノフェノール誘導体の代表
的な化合物には、3−クロロー4−アセチルアミノフェ
ノール、3−クロロー4−アセチルアミノアニソール、
3−クロロー4−アセチルアミノフエネトール、o−ア
セチルー3−クロロー4−アセチルアミノフェノール、
3−ブロモー4−アセチルアミノフェノール、3−クロ
ロー4−アセチルアミノフェノールなどがある。
本発明に用いられる縮合剤としては、塩化亜鉛、濃硫酸
、発煙硫酸、リン酸、ポリリン酸、五酸化リン、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸などがあり、また
これらを混合して使用してもよい。次に本発明の製造法
の実施態様について述べる。
一般式〔1〕で表わされる2−(4−ジアルキルアミノ
ー2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸1.0モルと一
般式〔旧で表わされるアミノフェノール誘導体1.0〜
2.0モル、好ましくは1.0〜1.2モルとを縮合剤
3.0〜20.0モルの存在下20〜100℃の温度で
2〜2叫間反応させてから反応物を氷水中に入れ、水酸
化ナトリウム水溶液にてPHlO〜12とし析出してく
る結晶を枦取し、必要に応じてベンゼン、トルエン、酢
酸エチルなどで再結晶し、一般式〔〕で表わされる中間
体を得る。本発明を実施する際の方法のうち、代表的な
製造法を以下の実施例に示す。実施例1 2−アミノー3−クロロー6−ジエチルアミノフルオラ
ンの製造法131.3yの2−(4−ジエチルアミノー
2−ヒドロキシーベンゾイル)安息香酸と18.6yの
3−クロロー4−アセチルアミノフェノールとを35m
tを95%硫酸と35mtの20%発煙硫酸の存在下で
32〜45℃の温度で6時間反応させ、得られた反応物
を350m1の水中に入れ、75〜80℃の温度で1時
間攪拌した後、冷却しながら水酸化ナトリウム水溶液(
水酸化ナトリウム120yを水200m1に溶解したも
の)を加える。
析出した結晶を枦取し、希アルカリ水、水、メタノ−ル
ー水で洗浄する。結晶を乾燥し、濃紫色の2−アミノー
3−クロロー6−ジエルアミノフルオラ36.8yを得
た。融点190−194℃実施例2 2−アミノー3−クロロー6−ジエチルアミノフルオラ
ンの製造法231.3fの2−(4−ジエチルアミノー
2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸と22.7y(7
)o−アセチルー3−クロロー4−アセチルアミノフェ
ノールとを100m1の95%硫酸の存在下で35〜5
5℃の温度で9時間反応させる。
次に実施例1と同様に処理して、濃紫色の2−アミノー
3−クロロー6−ジエチルアミノフルオラン35.0y
を得た。融点190−194℃次に従来の合成法による
比較例をげる。
比較例 31.3Vの2−(4−ジエチルアミノー2−ヒドロキ
シベンゾイル)安息香酸と14.4yの3−クロ”ロー
4−アミノフェノールとを100m1の95%硫酸の存
在下で80−90℃で7時間反応させる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式〔 I 〕で表わされる2−(4−ジアル
    キルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸と一
    般式〔II〕で表わされるアミノフェノール誘導体を反応
    させることを特徴とする一般式〔III〕で表わされるフ
    ルオラン誘導体の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕▲数式、化
    学式、表等があります▼〔II〕▲数式、化学式、表等が
    あります▼〔III〕〔式中、R_1、R_2は炭素原子
    数18以下のアルキル基を、R_3は水素原子、炭素原
    子数5以下のアシル基、炭素原子数5以下のアルキル基
    又は炭素原子数12以下のアラルキル基を、R_4は炭
    素原子数5以下のアシル基を、Xはハロゲン原子を表わ
    す。 〕
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220159981A (ko) 2020-03-31 2022-12-05 니폰 제온 가부시키가이샤 이차 전지 기능층용 유기 입자 분산액, 이차 전지 기능층용 조성물, 이차 전지용 전지 부재, 및 이차 전지

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KR20220159981A (ko) 2020-03-31 2022-12-05 니폰 제온 가부시키가이샤 이차 전지 기능층용 유기 입자 분산액, 이차 전지 기능층용 조성물, 이차 전지용 전지 부재, 및 이차 전지

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