JPS6032779A - ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 - Google Patents
ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法Info
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- JPS6032779A JPS6032779A JP14163783A JP14163783A JPS6032779A JP S6032779 A JPS6032779 A JP S6032779A JP 14163783 A JP14163783 A JP 14163783A JP 14163783 A JP14163783 A JP 14163783A JP S6032779 A JPS6032779 A JP S6032779A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式(I)
4
1式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、R1、R8゜八
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アフルキA4.R,はアルキル基、アルキルアミノア
IVkr#基あるいは(CH2)nN″/−、> rn
は1から6の整数、N<−:・はN、H−ジアルキルア
ミノ基(kl、M−ジアルキルアミノ基のアルキル基は
炭素原子、窒素原子、酸素原子あるいは硫黄原子を介し
て閉環していても良い)〕で表わされる)で示されるシ
スあるいはトランス−2−フエニ/L/(または2−置
換フェニ)v ) −3−ヒドロキシ−5−置換−2,
a−ジヒドロ−1,6−ベンゾチアゼピン−3(4B)
−オンの新規な製造 6− 法に関するものである。
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アフルキA4.R,はアルキル基、アルキルアミノア
IVkr#基あるいは(CH2)nN″/−、> rn
は1から6の整数、N<−:・はN、H−ジアルキルア
ミノ基(kl、M−ジアルキルアミノ基のアルキル基は
炭素原子、窒素原子、酸素原子あるいは硫黄原子を介し
て閉環していても良い)〕で表わされる)で示されるシ
スあるいはトランス−2−フエニ/L/(または2−置
換フェニ)v ) −3−ヒドロキシ−5−置換−2,
a−ジヒドロ−1,6−ベンゾチアゼピン−3(4B)
−オンの新規な製造 6− 法に関するものである。
式(I)で示される化合物は冠血管拡張作用。
抗不整脈作用、中枢神経系調節作用、局所麻酔作用、鎮
痛作用、消炎作用、利尿作用などの薬理作用を示す医薬
として有用なシスあるいはトランス−2−フヱニ1v(
1fcu2−8換;yエニV)−3−置換スルホニ〜オ
キ¥−5−置換−2,a−ジヒドロ−1,5−ベンゾチ
アゼピン−4(5H)−オンの合成中間体として重要な
化合物である。
痛作用、消炎作用、利尿作用などの薬理作用を示す医薬
として有用なシスあるいはトランス−2−フヱニ1v(
1fcu2−8換;yエニV)−3−置換スルホニ〜オ
キ¥−5−置換−2,a−ジヒドロ−1,5−ベンゾチ
アゼピン−4(5H)−オンの合成中間体として重要な
化合物である。
現在迄に知られている式(I)の化合物の合成法は、次
の合成経路図に示すようにオμトニトロチオフェノール
(If)から化合物(IM)を得、加水分解後(IV
)をバッジラム脚素の存在下接触還元したのち、閉環反
応によって化合物(V)を7員環のベンゾチアゼピン銹
導体(■)とし、次いで5位に7ミノ置換基を導入する
方法である〔特公昭46φ−4,3786,特公昭49
年−27576゜特公昭49年−36221,特公昭6
3年−18038、H,Kugitaet、Chem−
Pha*rm−Bull−。
の合成経路図に示すようにオμトニトロチオフェノール
(If)から化合物(IM)を得、加水分解後(IV
)をバッジラム脚素の存在下接触還元したのち、閉環反
応によって化合物(V)を7員環のベンゾチアゼピン銹
導体(■)とし、次いで5位に7ミノ置換基を導入する
方法である〔特公昭46φ−4,3786,特公昭49
年−27576゜特公昭49年−36221,特公昭6
3年−18038、H,Kugitaet、Chem−
Pha*rm−Bull−。
18.2028(1970)、弁上tlll!他、薬誌
。
。
4−
93.729 (1971))e
(II) (1)
(IV) (V)
4
(VI) (I)
(式中、 X、R□、R,、R,およびR4は前記と同
義)しかしながら、この方法は原料化合物の入手春易性
、収率、製造工程の長さおよびコストの面で必ずしも満
足すべきものでれない。
義)しかしながら、この方法は原料化合物の入手春易性
、収率、製造工程の長さおよびコストの面で必ずしも満
足すべきものでれない。
本発明者らは、さらにすぐれた方法の開発を意図して探
究を重ねた結果、本発明方法を完成するに至った・ 本発明は式(■) へ (IX) 〔式中%X 、R□、 R2,R3b R4および(C
H2)n N<1’、;は前記と同義〕で示される2−
フz=tv(または2−置換フェニル)−5−置換−2
,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−3,4(
5H)−ジオンまたはその酸付加塩をアルカリの存在ま
たは非存在下、メタノール、エタノール、プロパツール
、ブタノ−/L’尋のアルコール類゛または水あるいは
これらの混合溶媒中、水素化ホウ素化合物で還元するか
、式(■)で示されるシス−2−フェニ/L’(tたけ
2−置換フェニ/I/)−3−ヒドロキシ−6−置換−
2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン・−4(
5H)−オンを酸と反応させるか、あるいは既知物質の
シスあるいはトランス−2−ヒドロキシフェニル−3−
ヒドロキシ−5−置換−2,3−ジヒドロ−1,5−ベ
ンゾチアゼピン−4(5■)−オン(IX)にアルカリ
の存在下、アルキル硫酸あるいはアルキルハライドを作
用させることにより、いずれも高収率で容易に目的とす
るシスあるいはトランス−2−フェニIv(1*は2−
[1フエニル)−3−ヒドロキシ−5−置換−2,3−
ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(6■)−オ
ン(I)またはその酸付加塩を合成する新規製造法であ
る。
究を重ねた結果、本発明方法を完成するに至った・ 本発明は式(■) へ (IX) 〔式中%X 、R□、 R2,R3b R4および(C
H2)n N<1’、;は前記と同義〕で示される2−
フz=tv(または2−置換フェニル)−5−置換−2
,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−3,4(
5H)−ジオンまたはその酸付加塩をアルカリの存在ま
たは非存在下、メタノール、エタノール、プロパツール
、ブタノ−/L’尋のアルコール類゛または水あるいは
これらの混合溶媒中、水素化ホウ素化合物で還元するか
、式(■)で示されるシス−2−フェニ/L’(tたけ
2−置換フェニ/I/)−3−ヒドロキシ−6−置換−
2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン・−4(
5H)−オンを酸と反応させるか、あるいは既知物質の
シスあるいはトランス−2−ヒドロキシフェニル−3−
ヒドロキシ−5−置換−2,3−ジヒドロ−1,5−ベ
ンゾチアゼピン−4(5■)−オン(IX)にアルカリ
の存在下、アルキル硫酸あるいはアルキルハライドを作
用させることにより、いずれも高収率で容易に目的とす
るシスあるいはトランス−2−フェニIv(1*は2−
[1フエニル)−3−ヒドロキシ−5−置換−2,3−
ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(6■)−オ
ン(I)またはその酸付加塩を合成する新規製造法であ
る。
原料化合物(■)および(■)は新規物質で、たとえば
原料(■)は既知物質である2−フエニ7− pメチリデン(または2−置換フェニルメチリデン)−
4−置換−2H−1,4−ベンゾチアジン−3(4H)
−オン(X)にトリメチ〜ハロゲノシフンおよび過酸化
水素と水を作用させることによシ賽易に得ることができ
る。を大原料(■泊ヒ合物(vI)をジメチルホルムア
ミド、ジグライム、ジメトキシエタン、テトラヒドロフ
フン、ジオキサンあるいは必要に応じてメチ〃エチルケ
トンまたはメチルイソブチルケトンの共仔下、少量の水
の存在または非存在下、室温ま九は加温下で水素化ホウ
素化合物を作用させることによ#)賽易に得られる。
原料(■)は既知物質である2−フエニ7− pメチリデン(または2−置換フェニルメチリデン)−
4−置換−2H−1,4−ベンゾチアジン−3(4H)
−オン(X)にトリメチ〜ハロゲノシフンおよび過酸化
水素と水を作用させることによシ賽易に得ることができ
る。を大原料(■泊ヒ合物(vI)をジメチルホルムア
ミド、ジグライム、ジメトキシエタン、テトラヒドロフ
フン、ジオキサンあるいは必要に応じてメチ〃エチルケ
トンまたはメチルイソブチルケトンの共仔下、少量の水
の存在または非存在下、室温ま九は加温下で水素化ホウ
素化合物を作用させることによ#)賽易に得られる。
原料(■)の還元に使用する水素化ホウ素化合物として
は、九とえば水素化ホウ素ナトリウム。
は、九とえば水素化ホウ素ナトリウム。
8−
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素テトブエチルアンモニウム、水素化ホウ素テトフ
メチpアンモニウムなどが挙けられる。また必要に応じ
て触媒として、たとえば塩化マグネシウム、臭化マグネ
シウム、硫酸マグネシウム、臭化リチウム、ヨウ化リチ
ウム、塩化リチウム、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウムなどの塩類の存在下に反応を行って
もよい。上記の例に限定されることなく、反応を阻害し
ない限凱他の水素化ホウ素化合物や触媒を用いてもよい
。反応は室温あるいは加温下に数十分間から数時間で終
了する。
ホウ素テトブエチルアンモニウム、水素化ホウ素テトフ
メチpアンモニウムなどが挙けられる。また必要に応じ
て触媒として、たとえば塩化マグネシウム、臭化マグネ
シウム、硫酸マグネシウム、臭化リチウム、ヨウ化リチ
ウム、塩化リチウム、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウムなどの塩類の存在下に反応を行って
もよい。上記の例に限定されることなく、反応を阻害し
ない限凱他の水素化ホウ素化合物や触媒を用いてもよい
。反応は室温あるいは加温下に数十分間から数時間で終
了する。
原料(■)と酸との反応で使用する酸としては、塩酸、
臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸等の無機酸あるいは蟻酸
、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ
青草酸等の有機酸が好んで使用されるが、これらに限定
されることなく反応が進行する酸類であればいずれの酸
を用いてもよい。
臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸等の無機酸あるいは蟻酸
、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ
青草酸等の有機酸が好んで使用されるが、これらに限定
されることなく反応が進行する酸類であればいずれの酸
を用いてもよい。
反応は一般にジメチルホルムアミド、アセトン、ジメト
キシエタン、ジグライム、テトラヒドロフフン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンあるいはこれ等
の混合溶媒中、室温あるいは加熱下に数十分間から数時
間で終了する。
キシエタン、ジグライム、テトラヒドロフフン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンあるいはこれ等
の混合溶媒中、室温あるいは加熱下に数十分間から数時
間で終了する。
既知物質(IX)との反応で使用するアルキル硫酸とし
ては、通常ジメチル硫酸、ジエチ/I’硫酸、ジプロビ
A/硫酸、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホ
ン酸エチル、パフトルエンスルホン酸メチル、パフトル
エンスルホン酸メチル等を挙げることができ、t*、ア
ルキルハライドとしては、沃化メチル、沃化エチル、塩
化プロピル、臭化ブチル等を挙けることができる0反応
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアV
コフート、第8級カリウムブトキシド等のアルカリの存
在下、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中、室
温にて数十分周から数十時間で終了する。
ては、通常ジメチル硫酸、ジエチ/I’硫酸、ジプロビ
A/硫酸、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホ
ン酸エチル、パフトルエンスルホン酸メチル、パフトル
エンスルホン酸メチル等を挙げることができ、t*、ア
ルキルハライドとしては、沃化メチル、沃化エチル、塩
化プロピル、臭化ブチル等を挙けることができる0反応
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアV
コフート、第8級カリウムブトキシド等のアルカリの存
在下、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中、室
温にて数十分周から数十時間で終了する。
反応後の後処理および精製は通常の方法、たとえば濃縮
、濾過、抽出、再結晶、活性灰処理、カラムクロマトグ
ラフィーなどによって行なわれる。
、濾過、抽出、再結晶、活性灰処理、カラムクロマトグ
ラフィーなどによって行なわれる。
なお1本発明は必要によシ光学活性な原料d体あるいは
1体を使用すると、それぞれに対応するdあるいはe−
2−フェニA/(または2−置換フェ二/1/)−3−
1ニトロキシ−5−置換−2,3−ジヒドロ−1,6−
ベンゾチアゼピン−3(4H)−オン(I)を得ること
ができる。
1体を使用すると、それぞれに対応するdあるいはe−
2−フェニA/(または2−置換フェ二/1/)−3−
1ニトロキシ−5−置換−2,3−ジヒドロ−1,6−
ベンゾチアゼピン−3(4H)−オン(I)を得ること
ができる。
かくして得られた式(I)の化合物は所望により公知の
方法で各柚無機塩あるいは有機塩とすることができる。
方法で各柚無機塩あるいは有機塩とすることができる。
以上の如く、本発明方法は化合物(I)の製造について
、従来発表されている方法に比較して、方法自体が新規
であるばかりでなく、反応工程並びに反応時間が短いの
で製造日数が短縮され、反応操作並びKII製が容易で
、且つ高純度のものが高収率で得られるため、製造コス
トが非常に安く、かつ作業能率が良く、工業的に極めて
有利である。
、従来発表されている方法に比較して、方法自体が新規
であるばかりでなく、反応工程並びに反応時間が短いの
で製造日数が短縮され、反応操作並びKII製が容易で
、且つ高純度のものが高収率で得られるため、製造コス
トが非常に安く、かつ作業能率が良く、工業的に極めて
有利である。
次に実施例を示す。
実施例1゜
2−(4−メトキシフェニ/L/)−5−ジメチルアミ
ノエチ/I/−2,a−ジヒドロ−1,5−ベンゾチア
ゼピン−3,4(5H)−ジオン20gをイソプロピル
アルコ−A/150m/に溶解し、冷却11− 攪拌下に水素化ホウ素ナトリウム1.01を添加する。
ノエチ/I/−2,a−ジヒドロ−1,5−ベンゾチア
ゼピン−3,4(5H)−ジオン20gをイソプロピル
アルコ−A/150m/に溶解し、冷却11− 攪拌下に水素化ホウ素ナトリウム1.01を添加する。
室温で2時間攪拌後、アセトン20mを加えて同じく室
温で1時間攪拌したのち、反応溶媒を減圧留去し、残留
物を酢酸エチ〜100g/に溶解し、水洗後、無水芒硝
で乾燥し九のち、溶媒を減圧留去する。残留する油をイ
ソプロピルアルコ−pから再結晶すると、41点112
〜113℃を示すVクー2−(4−メトキシフェニ/L
’) −3−ヒドロキV−5−(2−ジメチルアミノエ
チル)−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン
−4(6)I)−オンの無色結晶16fを得る。
温で1時間攪拌したのち、反応溶媒を減圧留去し、残留
物を酢酸エチ〜100g/に溶解し、水洗後、無水芒硝
で乾燥し九のち、溶媒を減圧留去する。残留する油をイ
ソプロピルアルコ−pから再結晶すると、41点112
〜113℃を示すVクー2−(4−メトキシフェニ/L
’) −3−ヒドロキV−5−(2−ジメチルアミノエ
チル)−2,3−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン
−4(6)I)−オンの無色結晶16fを得る。
元素分析値 CI O% 41t2o、 8として理論
値 C,64,61魯 11,6゜45t u、7.5
2実測fli C,64,68s H,6,50s I
I、7.571、R,スペクトル(Nu、io1μW−
”)3460,1665゜1656.1606,158
0,1510゜氷晶は通常の方法、九とえばアセトンに
溶解後、濃塩酸を加えるととKよυ、融点220〜22
3℃を示す無色結晶の塩酸塩となる。
値 C,64,61魯 11,6゜45t u、7.5
2実測fli C,64,68s H,6,50s I
I、7.571、R,スペクトル(Nu、io1μW−
”)3460,1665゜1656.1606,158
0,1510゜氷晶は通常の方法、九とえばアセトンに
溶解後、濃塩酸を加えるととKよυ、融点220〜22
3℃を示す無色結晶の塩酸塩となる。
実施例2゜
12−
d−シス−2−(4−ヒドロキシフェニ/L/) −3
−ヒドロキシ−5−ジメチルアミノエチル−2,3−ジ
ヒドロ−1,6−ベンゾチアゼピン−4(6H)−オン
2.Ofをテトラヒドロフフン20slと第3級ブチル
アルコーtv 6 mlの混液に溶解し、別に第3級カ
リウムブトキシド0.6afを第3級ブチルアルコ−/
l/2.5厘lとテトラヒドロフラン2.5 mlの混
液に溶解した溶液を、室温攪拌下に滴下する0滴下後2
0分間同渇度で攪拌したのち、ジメチル硫酸0.7gを
滴下し、20分間同温度で攪拌後、水40m1およびク
ロロホルムaOyxlを加えてクロロホルム層を分層水
洗し、無水芒硝で乾燥後溶媒を減圧留去する。残留油状
物質をイソプロピルエーテルから結晶化すると、融点8
0〜82℃を示すd−シス−2−(4−メトキシフェニ
/L/)−3−ヒドロキV−5−C2−ジメチルアミノ
エチρ)−2,1−ジヒドロ−1,6−ベンゾチアゼピ
ン−4(5H)−オンの無色結晶1.2ft得る。
−ヒドロキシ−5−ジメチルアミノエチル−2,3−ジ
ヒドロ−1,6−ベンゾチアゼピン−4(6H)−オン
2.Ofをテトラヒドロフフン20slと第3級ブチル
アルコーtv 6 mlの混液に溶解し、別に第3級カ
リウムブトキシド0.6afを第3級ブチルアルコ−/
l/2.5厘lとテトラヒドロフラン2.5 mlの混
液に溶解した溶液を、室温攪拌下に滴下する0滴下後2
0分間同渇度で攪拌したのち、ジメチル硫酸0.7gを
滴下し、20分間同温度で攪拌後、水40m1およびク
ロロホルムaOyxlを加えてクロロホルム層を分層水
洗し、無水芒硝で乾燥後溶媒を減圧留去する。残留油状
物質をイソプロピルエーテルから結晶化すると、融点8
0〜82℃を示すd−シス−2−(4−メトキシフェニ
/L/)−3−ヒドロキV−5−C2−ジメチルアミノ
エチρ)−2,1−ジヒドロ−1,6−ベンゾチアゼピ
ン−4(5H)−オンの無色結晶1.2ft得る。
元素分析I[C2o11.、 N、 0,8として理r
!1IItl c、64.51; a、6.45: N
、7.52実測値 c、64.49; L6.47S
Nj7,481、R,スペクトIV(Nu、iol、
Ol−’) l 660 、 l 605 。
!1IItl c、64.51; a、6.45: N
、7.52実測値 c、64.49; L6.47S
Nj7,481、R,スペクトIV(Nu、iol、
Ol−’) l 660 、 l 605 。
1680.1610゜
旋光度〔α〕■+164.11(C,■、0■、C−1
,0220)氷晶は通常の方法、たとえばイソプロピル
アルコ−μに溶解後、濃塩酸を加えることKより、融点
223〜226℃を示す無色結晶の塩酸塩となる。
,0220)氷晶は通常の方法、たとえばイソプロピル
アルコ−μに溶解後、濃塩酸を加えることKより、融点
223〜226℃を示す無色結晶の塩酸塩となる。
実施例8゜
゛ シス−2−(4−メトキクフェニル)−a−ヒドロ
キシ−6−(N、N−ジメチル−ボラン(B−g)アミ
ノエチル)−2,a−ジヒドロ−1,6−ベンゾチアゼ
ピン−4(611i)−オン2fにジメチルホルムアミ
ド4m1.メチルイソブチルケトン4mlおよび濃硫酸
0.621を加えて、窒素ガス気流中にて内湿9θ℃で
1時間攪拌すると反応は終了する。冷後メチμイソブチ
μケトンlOdと水log/を加え、tog6水酸化ナ
トリウム水溶液にて弱アルカリ性とし九のち、メチルイ
ソブチルケトン層を分層し、飽和食墳水で洗浄、無水芒
硝で乾燥後減圧留去する。残留油状物質をイソプロピル
アルコールから結晶化すると、融点112〜tta℃を
示tyスー2−(4−メトキクフェニル)−3−ヒドロ
キシ−5−(2−ジメチpアミノエチ/I/)−2,3
−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−
オンの無色結晶1.7Fを得る。
キシ−6−(N、N−ジメチル−ボラン(B−g)アミ
ノエチル)−2,a−ジヒドロ−1,6−ベンゾチアゼ
ピン−4(611i)−オン2fにジメチルホルムアミ
ド4m1.メチルイソブチルケトン4mlおよび濃硫酸
0.621を加えて、窒素ガス気流中にて内湿9θ℃で
1時間攪拌すると反応は終了する。冷後メチμイソブチ
μケトンlOdと水log/を加え、tog6水酸化ナ
トリウム水溶液にて弱アルカリ性とし九のち、メチルイ
ソブチルケトン層を分層し、飽和食墳水で洗浄、無水芒
硝で乾燥後減圧留去する。残留油状物質をイソプロピル
アルコールから結晶化すると、融点112〜tta℃を
示tyスー2−(4−メトキクフェニル)−3−ヒドロ
キシ−5−(2−ジメチpアミノエチ/I/)−2,3
−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−
オンの無色結晶1.7Fを得る。
以下、実施例1から実施例3の方法に準拠して表IO化
合物が製造される。
合物が製造される。
1′−′
R′
lb−
表I
16−
特許出願人 浜理薬品工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 へ C式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、R1,R11、
R6は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア〃コキ
シ基、アフルキp基、R1はアルキル基、アルキルアミ
ノアルキル基あるいは′(CH2)nH<、4−、’r
(nは1から6の整数、Hど゛)はHlH−ジアルキ
〃アミノ基(N、N−シアルキルアミノ基のア化キル基
は戻素原子、窒素原子、酸素原子あるいは硫黄原子を介
して閉環していても良い)〕で表わされ7る1で示され
る2−フエ=Iv(tたは2−置換フェニA/)−5−
を換−2,1−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピン−
3,4(5H)−ジオンまたはその酸付加塩に水素化ホ
ウ素化合物を作用させて遠尤することを特許とする式 (式中、X、R,、R,、R3およびR1は前記と同義
)で示されるシス−2−フ二二/L/(またけ2−置換
フエニ/L/)−R3−ヒドロキV−5−置換−2,3
−ジヒドロ−1,6−ベンゾチアゼピン−4(5H)−
オンまたはその酸付加塩の製造法。 nH3 〔式中、X%R1、Ra、Rsおよび(CH2)n N
:’−71は前記と同義〕で示されるシス−2−フェニ
ル(または2−置換フェエA/) −3−ヒドロキシ−
5−@換−2、a−ジヒドロ−1,5−ベンゾチアゼピ
ン−4(5H)−オンに酸を作用させることを特徴とす
る特許請求の範囲第」項記載の化合物の製造法 3式 (式中、XおよびR4は前記と同一)で示されるVスt
たrf)ランス−2−ヒドロキVフz二v−a−ヒドロ
キシ−6−al換−2,1ll−ジヒドロ−1,5−ベ
ンゾチアゼピン−4(5H)−オンにアルカリの存在下
、アルキル硫酸あるいは、アルキルハフイドを作用させ
ることを特徴とする特許in、tの範囲第1項記載の化
合物であるシスまたはトランス−2−アルコキVフエニ
ル−a−ヒドロキシ−5−置換−2,3−ジヒドロ−1
,5−ベンゾチアゼピン−4(5H)−オンまたはその
酸付加塩の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14163783A JPS6032779A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14163783A JPS6032779A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6032779A true JPS6032779A (ja) | 1985-02-19 |
Family
ID=15296671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14163783A Pending JPS6032779A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032779A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62123182A (ja) * | 1985-08-01 | 1987-06-04 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 1,5―ベンゾチアゼピン誘導体の製法 |
| FR2655340A1 (fr) * | 1989-12-06 | 1991-06-07 | Zambon Spa | Procede de preparation de produits intermediaires pour la preparation de diltiazem. |
| JPH0673034A (ja) * | 1992-01-10 | 1994-03-15 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 不斉還元法による光学活性ベンゾチアゼピン類の製法 |
| US5310904A (en) * | 1992-01-10 | 1994-05-10 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Process for preparing optically active benzothiazepine compounds by asymmetric reduction |
-
1983
- 1983-08-01 JP JP14163783A patent/JPS6032779A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62123182A (ja) * | 1985-08-01 | 1987-06-04 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 1,5―ベンゾチアゼピン誘導体の製法 |
| FR2655340A1 (fr) * | 1989-12-06 | 1991-06-07 | Zambon Spa | Procede de preparation de produits intermediaires pour la preparation de diltiazem. |
| BE1003317A3 (fr) * | 1989-12-06 | 1992-02-25 | Zambon Spa | Procede de preparation de produits intermediaires pour la preparation de diltiazem. |
| US5102999A (en) * | 1989-12-06 | 1992-04-07 | Zambon Group S.P.A. | Process for the preparation of an intermediate of diltiazem |
| JPH0673034A (ja) * | 1992-01-10 | 1994-03-15 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | 不斉還元法による光学活性ベンゾチアゼピン類の製法 |
| US5310904A (en) * | 1992-01-10 | 1994-05-10 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Process for preparing optically active benzothiazepine compounds by asymmetric reduction |
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