JPS6054343A - 不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法 - Google Patents
不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法Info
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- JPS6054343A JPS6054343A JP16029883A JP16029883A JPS6054343A JP S6054343 A JPS6054343 A JP S6054343A JP 16029883 A JP16029883 A JP 16029883A JP 16029883 A JP16029883 A JP 16029883A JP S6054343 A JPS6054343 A JP S6054343A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は(1)一般式(夏)
(式中、 11.、は水素原子またはメチル基を示し、
R2゜R8はメチル基またはエチル基を示す)であられ
される不飽和第8級アミンを溶媒の存在下でメチルクロ
ライドど反応させて、一般式(H)(式中、1(・、、
I′L2および1(、は前記一般式(1)と同じ)であ
られされる不飽和第41級アンモニウム塩を製造するV
(あたり、一般式(1)であられされる不飽和第8級ア
ミンとアプロチックな有機溶媒をオートクレーブに仕込
み0〜20℃に冷却後、水を添加し、その後メチルクロ
ライドと反応させ反応後置に水を添加し、一般式(11
)であられされる不飽和第4・級アンモニウム堪KlK
m沿として取り出す事を特徴とする品質良好なる不飽和
第4級アンモニウム塩の製造方法。
R2゜R8はメチル基またはエチル基を示す)であられ
される不飽和第8級アミンを溶媒の存在下でメチルクロ
ライドど反応させて、一般式(H)(式中、1(・、、
I′L2および1(、は前記一般式(1)と同じ)であ
られされる不飽和第41級アンモニウム塩を製造するV
(あたり、一般式(1)であられされる不飽和第8級ア
ミンとアプロチックな有機溶媒をオートクレーブに仕込
み0〜20℃に冷却後、水を添加し、その後メチルクロ
ライドと反応させ反応後置に水を添加し、一般式(11
)であられされる不飽和第4・級アンモニウム堪KlK
m沿として取り出す事を特徴とする品質良好なる不飽和
第4級アンモニウム塩の製造方法。
(2)不飽和第8級アミンと水とアプロチックな有機溶
媒の仕込比が(70〜95):(81)〜5)= (l
O〜60)(重量比)で2反応l晶度が初期温度として
0.5〜lO時間を0〜20℃、その後二次温度として
20〜40℃で反応する事を特徴とする第(1)項記載
の品質良好なる不飽和第4・級アンモニウム塩の製造法
に関するものである。
媒の仕込比が(70〜95):(81)〜5)= (l
O〜60)(重量比)で2反応l晶度が初期温度として
0.5〜lO時間を0〜20℃、その後二次温度として
20〜40℃で反応する事を特徴とする第(1)項記載
の品質良好なる不飽和第4・級アンモニウム塩の製造法
に関するものである。
本発明によって得られる不飽和第4級アンモニウム塩は
、凝集剤、帯電防IE剤、土壌改良剤、4電加工剤、染
色改良剤1紙力増強剤1紙の戸水性同上剤などに片いら
れるカチオン性ポリマーの製造原料として有用な単量体
である。
、凝集剤、帯電防IE剤、土壌改良剤、4電加工剤、染
色改良剤1紙力増強剤1紙の戸水性同上剤などに片いら
れるカチオン性ポリマーの製造原料として有用な単量体
である。
従来、第8級アミンを4級化剤により4、級化して、第
4級アンモニウム塩を製造する方法としては、水溶媒中
で第8級アミンの濃度を80重量係以上とじ10〜50
℃の低温で反応を行う方法(特開52−81017等)
や、第8級アミンのエステルの加水分解を防止するため
水を使用せず。
4級アンモニウム塩を製造する方法としては、水溶媒中
で第8級アミンの濃度を80重量係以上とじ10〜50
℃の低温で反応を行う方法(特開52−81017等)
や、第8級アミンのエステルの加水分解を防止するため
水を使用せず。
M機溶媒中で行う方法(特開52−27712等)があ
る。また精製方法と17で水溶媒中で11級化して得ら
扛るt■4級アンモニウム塩水溶液を木下溶性のせ機溶
剤を用いて処理し7不純物を抽出除去する方法(特開F
ll−11871fi等)がある。
る。また精製方法と17で水溶媒中で11級化して得ら
扛るt■4級アンモニウム塩水溶液を木下溶性のせ機溶
剤を用いて処理し7不純物を抽出除去する方法(特開F
ll−11871fi等)がある。
一般式(1)であられされる不飽和第8級アミンを水溶
媒中で4・級化1〜高品質の不飽和第4・級アンモニウ
ム塩水溶液を得るには9反応中での不飽和第8級アミン
のエステル部のIIn水分解による遊離酸。
媒中で4・級化1〜高品質の不飽和第4・級アンモニウ
ム塩水溶液を得るには9反応中での不飽和第8級アミン
のエステル部のIIn水分解による遊離酸。
遊離アミンの會有を防止すること及び反応未完了による
原料不飽和へ゛!8級アミンの片有をなくすことが必要
である。かかる場合、エステル基の加水分解を葎力抑え
、高品質の4級アンモニウム塩を得るには水を極力少な
くする必要があり、モノマーfilf9(1%J\J土
が好−土1.い。
原料不飽和へ゛!8級アミンの片有をなくすことが必要
である。かかる場合、エステル基の加水分解を葎力抑え
、高品質の4級アンモニウム塩を得るには水を極力少な
くする必要があり、モノマーfilf9(1%J\J土
が好−土1.い。
しかしながら水溶媒中で第8級アミンの濃度を00重量
%127、土とし10〜50°Cの低温で反応する方法
では反応の進行に滲い反応系の粘度が上昇。
%127、土とし10〜50°Cの低温で反応する方法
では反応の進行に滲い反応系の粘度が上昇。
そのf&第第4縁
ラリ状更には餅状となり攪拌の負荷が極端に大きくなり
2反応の児結も非常に困難なものとなる。
2反応の児結も非常に困難なものとなる。
攪拌負荷の問題は,撹拌能力増強,仕込第8級アミン濃
度の残少1反応温度の上昇により改良することが考えら
れるが,設備費の上昇あるいは加水分解の増大による第
4級アンモニウム塩水溶液の品質低下の問題が生じる。
度の残少1反応温度の上昇により改良することが考えら
れるが,設備費の上昇あるいは加水分解の増大による第
4級アンモニウム塩水溶液の品質低下の問題が生じる。
また水を用いないでM機溶媒で反応する方法の場合は第
4級アンモニウム塩を良質結晶と【2て取り出すことは
可能であるが1反応答器から払出し後濾過工程が必要で
あり,また取り出した結晶は性の溶媒で抽出除去する方
法は,抽出効率が悪く。
4級アンモニウム塩を良質結晶と【2て取り出すことは
可能であるが1反応答器から払出し後濾過工程が必要で
あり,また取り出した結晶は性の溶媒で抽出除去する方
法は,抽出効率が悪く。
溶媒を多量必要とし,かつ抽出回数を多くする必要があ
り工業的に好ましい方法といえない。
り工業的に好ましい方法といえない。
以上のことから1本発明者らは,一般式(1)であられ
される不飽和第8級アミンとメチルクロライドを溶媒の
存在下で反応させて一般式(II)であられされる不飽
和第4級アンモニウム塩水溶液を得るにあたり、前iI
(のような欠点がない品質良好な不飽和第4・級アンモ
ニウム塩(水溶液)を製造する方法をμい出す事を目的
と1〜で鋭意研究した結果。
される不飽和第8級アミンとメチルクロライドを溶媒の
存在下で反応させて一般式(II)であられされる不飽
和第4級アンモニウム塩水溶液を得るにあたり、前iI
(のような欠点がない品質良好な不飽和第4・級アンモ
ニウム塩(水溶液)を製造する方法をμい出す事を目的
と1〜で鋭意研究した結果。
少量゛の水とアプロチックなo−機溶媒からなる混合溶
媒全反応溶媒として低温で反応させることにより煩雑な
工程を必要とせず、R2かも品質の良好な不飽和第4・
級アンモニウム塩(水溶液)がイnられることを見い出
し1本発明に到達1〜た。
媒全反応溶媒として低温で反応させることにより煩雑な
工程を必要とせず、R2かも品質の良好な不飽和第4・
級アンモニウム塩(水溶液)がイnられることを見い出
し1本発明に到達1〜た。
すなわち本発明は、一般式(夏)
1、L・
(穴中、IL1は水素伸子またはメチル基を示し、R2
゜R3けメチル基またはエチル基を示す)であられされ
る不飽和第8級アミンとアプロチックな有機溶媒をオー
トクレーブに仕込み0〜20℃に冷却後。
゜R3けメチル基またはエチル基を示す)であられされ
る不飽和第8級アミンとアプロチックな有機溶媒をオー
トクレーブに仕込み0〜20℃に冷却後。
水を添加し、その後メチルクロライドと反応させ反応後
置に水f添加1〜一般式(D) (式中、R,、R,およびR8は前記と同じ)であられ
される不飽和第4級アンモニウム塩を水溶液として取り
出す事を特徴とする品質良好なる不飽和第4級アンモニ
ウム塩(水溶液)を製造する方法である。
置に水f添加1〜一般式(D) (式中、R,、R,およびR8は前記と同じ)であられ
される不飽和第4級アンモニウム塩を水溶液として取り
出す事を特徴とする品質良好なる不飽和第4級アンモニ
ウム塩(水溶液)を製造する方法である。
本発明に用いる不飽和第8級アミン(1)としては゛′
チルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレ
ートが挙げられる。
チルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレ
ートが挙げられる。
本発明においては反応溶媒とR7て水とアプロチックな
有機溶媒を用いているが、不飽和第8級アミンと水とア
プロチックな有機溶媒の仕込比は(70〜95): (
80〜5): (10〜60)(重量比)で、好ましく
は(75〜95): (25〜5): (15〜50)
(重量比)である。すなわち、水の量を少なくして不飽
和第8級アミンの加水分解を抑え、また有機溶媒を併用
することにより反応醜行に伴い不飽和第4級アンモニウ
ム塩が析出して反応系の粘度が上昇するのを防ぐことが
可能であるため生成した4級アミPの分散性が良くなり
特別な反応設備を用いなくても系の除熱醍び攪拌をスム
ーズにおこなうことができる。更に不飽和第8級アミン
に加える反応溶媒と1−て。
有機溶媒を用いているが、不飽和第8級アミンと水とア
プロチックな有機溶媒の仕込比は(70〜95): (
80〜5): (10〜60)(重量比)で、好ましく
は(75〜95): (25〜5): (15〜50)
(重量比)である。すなわち、水の量を少なくして不飽
和第8級アミンの加水分解を抑え、また有機溶媒を併用
することにより反応醜行に伴い不飽和第4級アンモニウ
ム塩が析出して反応系の粘度が上昇するのを防ぐことが
可能であるため生成した4級アミPの分散性が良くなり
特別な反応設備を用いなくても系の除熱醍び攪拌をスム
ーズにおこなうことができる。更に不飽和第8級アミン
に加える反応溶媒と1−て。
水溶媒のみの場合と更に有機溶媒を併用した場合とでは
、同様の条件で反応した場合後者が加水分・発明者らが
本発明に至る中で見い出したものであり、水または有機
溶媒嘆独の場合の反応からは予測されないものである。
、同様の条件で反応した場合後者が加水分・発明者らが
本発明に至る中で見い出したものであり、水または有機
溶媒嘆独の場合の反応からは予測されないものである。
本発明に用いら扛るアプロチックな有機溶媒としてはア
セトン、MFIK等のケトン系溶媒、トリクロルエチレ
ン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン等の皆香族系、n−ヘ
キサン等の脂肪族系、酢酸エチル等のエステル系溶媒及
びアセトニトリル等の(9) アルキルシアン誘導体等が適用可能であるが9反応終了
後、溶媒を減圧下留去する必要があるため沸点が低く、
かつ極性の高い溶媒が好ましい。
セトン、MFIK等のケトン系溶媒、トリクロルエチレ
ン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン等の皆香族系、n−ヘ
キサン等の脂肪族系、酢酸エチル等のエステル系溶媒及
びアセトニトリル等の(9) アルキルシアン誘導体等が適用可能であるが9反応終了
後、溶媒を減圧下留去する必要があるため沸点が低く、
かつ極性の高い溶媒が好ましい。
次にH造の方法について述べる。まず、不飽和第8級ア
ミンとアプロチックな有機溶媒および少量の重合禁止剤
をオートクレーブに仕込み系内を冷却する。冷却する温
度はθ〜20℃、好ましくは0〜15℃である。冷却後
、所定量の水を系内の温度が0−20℃、好ましくは0
〜15℃を越えないように添加する。水添加終了後、メ
チルクロライドガスを少量ずつ吹き込む。
ミンとアプロチックな有機溶媒および少量の重合禁止剤
をオートクレーブに仕込み系内を冷却する。冷却する温
度はθ〜20℃、好ましくは0〜15℃である。冷却後
、所定量の水を系内の温度が0−20℃、好ましくは0
〜15℃を越えないように添加する。水添加終了後、メ
チルクロライドガスを少量ずつ吹き込む。
重合禁止剤は反応中に原料の不飽和第8級アミン及び生
成した不飽和第4級アミン塩が重合するのを防止するた
めのものであって、ハイドロキノン、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテル、フェノチアジンなどを適量用いる。
成した不飽和第4級アミン塩が重合するのを防止するた
めのものであって、ハイドロキノン、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテル、フェノチアジンなどを適量用いる。
メチルクロライドの使用量については特に限定しないが
例えば不飽和第8級アミン(1) 1モルに対しl−1
モル用いる。
例えば不飽和第8級アミン(1) 1モルに対しl−1
モル用いる。
反応温度は初期温度として0.5〜101寺間を0(l
O) 〜20″C2好ましくけ05〜8時間を0〜15℃にし
てその後二次?Al’として20〜40℃、好ましくは
20〜85°Cで反応する。マタメチルクロライドの様
にガスを吹き込む関係で反応容器はオートクレーブを使
用【7.メチルクロライドの吹き込み用力は0.2〜B
(個、好塘しくは05〜21が適当である。
O) 〜20″C2好ましくけ05〜8時間を0〜15℃にし
てその後二次?Al’として20〜40℃、好ましくは
20〜85°Cで反応する。マタメチルクロライドの様
にガスを吹き込む関係で反応容器はオートクレーブを使
用【7.メチルクロライドの吹き込み用力は0.2〜B
(個、好塘しくは05〜21が適当である。
反応時間は、不飽和第8吸アミン、水および有機溶媒の
仕込比1反応幌度、メチルクロライドの[,7た。
仕込比1反応幌度、メチルクロライドの[,7た。
反応完結後、不飽和舶4級アンモニウム塩の濃度が60
〜85%(1「11)になる様に水を添加すると、結晶
がない均一なあるいけ2層の水溶液と17て取り出すこ
とが口f能であり、払い出しが容易である。2層の水M
液となる場合は、含有している有機済媒IMf2層分離
により除去する。この2層分1Illiにより不飽和第
4#&アンモニウム塩水溶液中の做;−°不純物は除去
さnl、従来法(水溶媒単独(11) 又は有機溶媒単独による製造法)よりも工程が簡略であ
り溶媒使用量も少くコストの面からも非常に有利となる
。なお不飽和嬉4級アンモニウム塩水浴液中に微量含有
される有機溶媒は減圧除去する。
〜85%(1「11)になる様に水を添加すると、結晶
がない均一なあるいけ2層の水溶液と17て取り出すこ
とが口f能であり、払い出しが容易である。2層の水M
液となる場合は、含有している有機済媒IMf2層分離
により除去する。この2層分1Illiにより不飽和第
4#&アンモニウム塩水溶液中の做;−°不純物は除去
さnl、従来法(水溶媒単独(11) 又は有機溶媒単独による製造法)よりも工程が簡略であ
り溶媒使用量も少くコストの面からも非常に有利となる
。なお不飽和嬉4級アンモニウム塩水浴液中に微量含有
される有機溶媒は減圧除去する。
次に実施例により史に詳細に説明するが2本発明はこの
実施例に限定されるものではない。
実施例に限定されるものではない。
実施例 1
1zオートクレーブにジメチルアミンエチルアクリレー
ト200 t (1,40moj、)、アセトン44゜
セトン=90:10:20(重量比)であった。
ト200 t (1,40moj、)、アセトン44゜
セトン=90:10:20(重量比)であった。
水添加後、直ちに密閉してメチルクロライドをボンベよ
り0.5 *、Qの圧で吹き込み反応を開始した。
り0.5 *、Qの圧で吹き込み反応を開始した。
攪拌回転数200 rpm o反応温度は吹き込み始め
から2時間を10〜15℃で反応し、2時間以降25〜
80℃で反応した。反応時間は吹き込み開始より20時
間であった。吹き込んだメチルクロ(12) ライドは740 ’ (1,417mol)であった。
から2時間を10〜15℃で反応し、2時間以降25〜
80℃で反応した。反応時間は吹き込み開始より20時
間であった。吹き込んだメチルクロ(12) ライドは740 ’ (1,417mol)であった。
反応後桟IE’Ai*出し、内d物をサンプリング]7
.遊離アミン団を分析したところ0.1%で1反応率は
99゜0%であった。水45.4fを追加して不飽和第
4級アンモニウム塩の結晶を#NL、水浴液を取り出し
た。す有しているアセトンは真空ポンプによって減圧除
去しs a Oyの溶液を得た。4級アミン価it 8
1.、8%、咋−1i酸、遊離アミン量はそれぞれ0.
07%、009憾であった。
.遊離アミン団を分析したところ0.1%で1反応率は
99゜0%であった。水45.4fを追加して不飽和第
4級アンモニウム塩の結晶を#NL、水浴液を取り出し
た。す有しているアセトンは真空ポンプによって減圧除
去しs a Oyの溶液を得た。4級アミン価it 8
1.、8%、咋−1i酸、遊離アミン量はそれぞれ0.
07%、009憾であった。
実施例 2
BOtオートクレーブにジメチルアミンエチルチルエー
テル20.1’lを仕込み、内温をlθ〜15”Cまで
冷却し、冷却水1.114f加えた。仕込比はジメチル
アミノエチルアクリレート:水:アセトン=90:10
:4.0(重量比)であった。
テル20.1’lを仕込み、内温をlθ〜15”Cまで
冷却し、冷却水1.114f加えた。仕込比はジメチル
アミノエチルアクリレート:水:アセトン=90:10
:4.0(重量比)であった。
水添加後、ikちに密閉し7てメチルクロライドをボン
ベより0.51Jの圧で吹き込み反応を開始した0攪拌
回転数10 Orpm 。反応温度は吹き込み始めから
2時間を10〜15°Cで反応し、2時間以降25〜8
0℃で反応した。反応時間は吹き込み開始から24時間
であった。吹き込んだメチルクロライドld8.84K
f(76,8mol)であった。反応後残圧を放出し、
内容物をサンプリングし、遊離アミン量を分析したとこ
ろ、02%で2反応率は99.8%でめった。水2.2
2Kfを追加して不飽和第4級アンモニウム塩の結晶を
溶解し、水溶液を喉り出した。
ベより0.51Jの圧で吹き込み反応を開始した0攪拌
回転数10 Orpm 。反応温度は吹き込み始めから
2時間を10〜15°Cで反応し、2時間以降25〜8
0℃で反応した。反応時間は吹き込み開始から24時間
であった。吹き込んだメチルクロライドld8.84K
f(76,8mol)であった。反応後残圧を放出し、
内容物をサンプリングし、遊離アミン量を分析したとこ
ろ、02%で2反応率は99.8%でめった。水2.2
2Kfを追加して不飽和第4級アンモニウム塩の結晶を
溶解し、水溶液を喉り出した。
次いで2分前して上層のアセトンを1.26〜除き、下
層不飽和第4級アンモニウム塩水溶液19゜′82〜を
得、これを真空ポンプによって残存アセトンを減圧除去
した。取り出し匍t/116.8Kf、、fi喘酸、遊
離アミンはそれぞれ0.055%、0.109優であっ
た。
層不飽和第4級アンモニウム塩水溶液19゜′82〜を
得、これを真空ポンプによって残存アセトンを減圧除去
した。取り出し匍t/116.8Kf、、fi喘酸、遊
離アミンはそれぞれ0.055%、0.109優であっ
た。
実施例 8
実施例1においてアセトンの代わりに酢酸エチルを用い
て反応した。反応時間を40時間とした以外、仕込比2
反応条件は実施例1と同じとしたところ、得られた4級
アミン水溶液の残存アミン価は08%、遊1IjII酸
ば0.18係であった。
て反応した。反応時間を40時間とした以外、仕込比2
反応条件は実施例1と同じとしたところ、得られた4級
アミン水溶液の残存アミン価は08%、遊1IjII酸
ば0.18係であった。
すを絶倒 4I
実施例1においてジメチルアミノエチルアクリレート1
fif1.5f、アセトン4.4.4f、水55.5V
で什込比はジメチルアミノエチルアクリレート:水:ア
セトン−75:2F):20(重蓋比、)に1〜.それ
11J外の条件し1回様に行った。反応後の遊離アミン
匍け(141%でノゾ応率は99.6俤であった。
fif1.5f、アセトン4.4.4f、水55.5V
で什込比はジメチルアミノエチルアクリレート:水:ア
セトン−75:2F):20(重蓋比、)に1〜.それ
11J外の条件し1回様に行った。反応後の遊離アミン
匍け(141%でノゾ応率は99.6俤であった。
比較例 1
V!施絶倒においてアセトン44.4 fを仕込まなア
ミン−け8.8%で反応率#′i96.2%であった。
ミン−け8.8%で反応率#′i96.2%であった。
またlh離IWiilJ%であった。
特許出願人 株式会社 数人
(15)
317−
Claims (1)
- (1) 一般式(1) (式中、R,、Fi水素原子またはメチル基を示し。 R,、R,、はメチル基またはエチル基を示す)であら
れされる不飽和第8級アミンを溶媒の存在下でメチルク
ロライドと反応させて一般(式中、R1,R2およびR
8は前記一般式(1)と同じ)であられされる不飽和第
4級アンモニウム塩を製造するにあたり、一般式(1)
であられされる不飽和第8級アミンとアプロチックな有
機済媒をオートクレーブに仕込み0〜20℃に冷却後、
水を添加し、その後、メチルクロライドと反応させ2反
応後置に水を添加し一般式(1)であられされる不飽和
第4級アンモニウム塩を水溶液として喉り出す事を特徴
とする品質良好なる不飽和第4・級アンモニウム塩の製
造方法。 0)不飽和第8級アミンと水とアプロチックな有機済媒
の仕込比が(70〜90): (80〜5): (10
〜60)(重量比)で1反応温度が初期温度として0.
5〜lO時間を0〜20℃、その後二次温度として20
〜40°Cで反応する事を特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16029883A JPS6054343A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16029883A JPS6054343A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6054343A true JPS6054343A (ja) | 1985-03-28 |
| JPS6146467B2 JPS6146467B2 (ja) | 1986-10-14 |
Family
ID=15711939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16029883A Granted JPS6054343A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6054343A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63201151A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-19 | Kohjin Co Ltd | 不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法 |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP16029883A patent/JPS6054343A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63201151A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-19 | Kohjin Co Ltd | 不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6146467B2 (ja) | 1986-10-14 |
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