JPS605581B2 - 酢酸ビニルの製造方法 - Google Patents

酢酸ビニルの製造方法

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JPS605581B2
JPS605581B2 JP17360581A JP17360581A JPS605581B2 JP S605581 B2 JPS605581 B2 JP S605581B2 JP 17360581 A JP17360581 A JP 17360581A JP 17360581 A JP17360581 A JP 17360581A JP S605581 B2 JPS605581 B2 JP S605581B2
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安彦 喜嶋
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無水酢酸と水素とを反応させて、一段で酢酸ビ
ニルを製造する方法の改良に関する。
さらに詳しくは「パラジウム金属および/またはその化
合物とョゥ化メチルの存在下に無水酢酸と水素とを反応
させて酢酸ビニルを製造する方法において助触媒として
リチウム、カリウム、セシウム、バリウム、ストロンチ
ウムの弗化物L塩化物、臭化物、沃化物または有機酸塩
を反応液に対して2.5×10‐3乃至1の重量%用い
ることを特徴とする酢酸ビニルの製造方法。従来、酢酸
ビニルの製造方法としてはアセチレンを原料とする方法
が古くから知られていたが、近年、エチレンに原料転換
する方法が開発され、有利なエチレン法に変ってきた。
エチレンから酢酸ビニルの直接合成は塩化パラジウム触
媒あるいはこの系に酢酸ソーダを共存させるなどの方法
が端緒であった。一方また、これとは別の方法としてア
セトアルデヒドおよび無水酢酸を素原料としてエチリデ
ンジアセテート(1・1ージアセトキシェタン)を経由
して、あるいは直接、酢酸ビニルおよび酢酸に変換する
方法が提案されている〔例えば、Hydrocarbn
Process、44(11)287(1965)、英
国特許1112555、米国特許2021698、24
25389286015隻等があげられる。〕。すなわ
ち、これらの方法はアセトアルデヒドと無水酢酸との直
接反応によるものや、アセトアルデヒドと無水酢酸との
反応で一日ェチリデンジアセテートを製造し、次にこれ
を熱分解して酢酸ビニルを製造する方法として知られて
いる。またこれらとは別の方法として、無水酢酸と水素
とを反応させて、一段で酢酸ビニルを合成する方法を本
発明者らは既に提案した(特願昭55一138411)
。
この方法は1種または2種以上の第8族金属および/ま
たはその化合物と塩化物、臭化物および/または沃化物
であるハロゲン化物との存在下、無水酢酸と水素とを反
応させることにより酢酸ビニルを製造する方法である。
この方法においては目的生成物である酢酸ビニルの他に
ェチリデンジアセテート、アセトアルデヒドなどの副生
成物が生成することがある。本発明者らは従来の方法の
欠点を解消し、酢酸ビニルの生成速度および選択率を向
上すべく鋭意研究を続け、適切な添加物を加えることに
よって上記目的が達成されることを見出して本発明を完
成した。
すなわち本発明はパラジウム金属およびノまたはその化
合物とョゥ化メチルの存在下に無水酢酸と水素とを反応
させて酢酸ビニルを製造する方法において助触媒として
リチウム、カリウム、セシウム、バリウムト ストロン
チウムの弗化物、塩化物、臭化物、沃化物または有機酸
塩を反応液に対して2.5×10‐3乃至1の重量%用
いることを特徴とする酢酸ビニルの製造方法。
本発明による無水酢酸の水素還元反応による酢酸ピニル
の詳細な生成反応機構は明確ではないが、総合反応とし
て次の化学反応式で表わすことができる。
2(C比CO)20十日2一CH2=CHOCOCH3
十本日3COO日上記化学式で表わされる反応はパラジ
ウム金属および/またはその化合物とョウ化メチルを触
媒として使用しL更に前記の幼触媒を用いることにより
好適に進めることができる。
パラジウム金属触媒の形態は任意のあらゆる型で利用で
きる。
たとえば、金属それ自体、または徴分砕した形の金属、
ラネー金属の形態あるいは炭酸塩、酸化物、過酸化物、
水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩、ハロゲン化物、シ
アン化物、チオシァン化物、スルフオン酸塩、C,〜C
5の低級アルコキシドたとえばメトキシドまたはエトキ
シド、フェノキシド、カルボキシイオンが1〜20炭素
原子のアルカン酸から誘導される金属カルボン酸塩、オ
キシハロゲン化物、水素化物、カルボニル、亜硝酸塩、
亜硫酸塩、亜リン酸塩、アセチルァセトン塩、硫化物、
およびアンモニア、シアン、ァミン類、アミノ酸類等を
酢位した化合物がある。その一部を例示すれば、Pd金
属、PdX2、P服2・2日20、P帆2・が日3、P
d(CN)2、Pも日、Pd(OH)2、Pd(OH)
2・州日3、Pd(N03)2、Pも0、Pd0、Pd
02、PdS04・汎20「PもS、〔Pd(PPh3
)2〕CI2、PdS、PdS2、Pd3(P04)2
、Na2PdX4、Pd〔(n−C4は)3P〕(CO
)CI2、K2PdX4、Li2PdX4、Pd(OA
c)2、Pd(AcAc)2・P帆2(PhCN)2・
Pd(SCN)2・Pd(NC)2、ベンゼンスルホン
酸パラジウム(上記式中の×はF、CI、Brまたは1
、Phはフェニル基、Ac0はアセトキシ基、AcAc
はアセチルアセトネート基をそれぞれ示す。)があげら
れる。また、シリカ、ポリ塩化ビニルあるいはホスフィ
ン、シリル、アミン、ピリジンまたはスルフイド結合に
よって交差結合されたポリスチレン−ジビニルベンゼン
基村に結合された第8族金属〔例えば、CHEMTEC
H、560−566p(1973);117−12幼(
1975)などに代表的に例示されている〕よりなる金
属ポリマー銭体を用いることもできる。以上の如く、本
発明においては触媒金属としてパラジウム金属を用いる
。
金属触媒は最初から「あるいは最終的に反応液に可溶な
形で使用して均一触媒とすることもできる。
この代りに不顔性または一部しか溶解しない形のものを
使用して、不均一触媒系とすることもできる。不均一触
媒系の場合、第血族金族化合物あるいは金属それ自体、
微粉砕した形の金属またはラネー金属などの形態でも使
用することも可能であるが、後述する担体上に担持して
使用することもできる。この場合、担持方法は例えば通
常の浸薄法、混練法、吸着法、共沈法、イオン交換法等
によるがその他の方法も実施可能である。
その一部を例示するとパラジウム金属あるいはその金属
化合物と、必要に応じてその他の成分を含有する溶液を
担体に合浸し、ついでホルマリン、水素、ギ酸ソーダ、
一酸化炭素、ナトリウムボロ/・ィドラィド、リチウム
アルミニウムハイドライド「あるいはヒドラジンなどの
通常の還元手段によって金属化合物を金属へ変性せしめ
て、乾燥することによって行なわれるが、もとよりこれ
らの方法にのみ限定されるものでなく、パラジウム金属
および/またはその化合物を担持させうる限り、方法の
いかんを問うものではない。使用される担体としては炭
素、グラフアィト、骨炭、アルミナ、シリカ、シリカア
ルミナ、硫酸バリウム、ゼオラィト、スピネル、マグネ
シア付アルミナ、トリア、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化トリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化
亜鉛、タンタリウム、粘土、ケイソウ士、セライト、ア
スベスト、軽石、ボーキサイト、白土、Super−F
iltrolのような天然および処理された白土、炭化
シリコン、沸石および沸石モレキュラシーブ、セラミッ
ク蜂鏡、ボリア「セメントなどが用いられるが、好まし
くは炭素、グラフアィト、骨炭、アルミナ、シリカ、シ
リカアルミナ、硫酸バリウム、ゼオライト、スピネル、
マグネシア付アルミナが用いられる。上記担体は均一粒
度および不均一粒度および毛細管状の粒子として用いら
れ必要に応じて成型物、押出物、セラミック棒、ボール
、破壊細片、タイルおよびそれらの類似物のような型で
用いられる。以上述べた如く、本発明による第血族金属
触媒は均一触媒および不均一触媒のいずれの形態でも使
用できることを開示したが、水素化速度、あるいは触媒
の分離、回収を容易にするという点で不均一触媒を用い
ることは好ましい実施態様である。
本発明では金属触媒とともにョゥ化メチルの存在を必要
とする。
本発明において使用するパラジウム金属触媒の使用量は
均一触媒を用いるか不均一触媒を用いるか、あるいは不
均一触媒の場合反応を流動床で行なうか固定床によって
異なるが、原理的にはあらゆる範囲の使用量が可能であ
る。
しかしながら一般的にいって、パラジウム金属基準で反
応液に対して、1×10‐4乃至25重量%、好ましく
は5×10‐4乃至2の重量%、さらに好ましくは1×
10‐3乃至15重量%の範囲が選択されるが、特に2
.5×10‐3乃至1の重量%の範囲は有効である。又
、パラジウム金属触媒とともに使用するョウ化メチルの
使用量はヨウ素原子基準で反応液の全容量を基準にして
1そ当り10‐3〜15モル、好ましくは10‐2〜5
モル、さらに好ましくは10‐1〜3モルの範囲で用い
られる。本発明においては、以上に述べた触媒系の他に
、更に反応速度を高め、或いは目的生成物への選択率を
向上させるために助触媒を使用する。
本発明で用いる助触媒はリチウム、カリウム、セシウム
、バリウム「ストロンチウムの弗化物、塩化物、臭化物
、沃化物または有機酸塩、好ましくは酢酸塩のような化
合物である。もちろんこれらを混合使用することもでき
、時には有利である。助触媒はパラジウム金属触媒と共
に、或いは別に、担体上に担持して使用することもでき
る。
助触媒の使用量は反応液に対して2.5×10‐3乃至
1の重量%である。本発明においては、上記触媒系の他
に溶媒を使用することによって目的生成物である酢酸ビ
ニルの生成速度および選択率を向上させることができる
。
使用し得る好ましい溶媒は2すのこおける誘電率が18
以下、好ましくは15以下、更に好ましくは8以下、最
適には6.5以下の有機物である。
溶媒として使用する有機物の構造はどのようなものであ
ってもさしっかえないが、炭素数5〜20の脂肪族炭化
水素、炭素数6〜20の芳香族炭化水素、炭素数4〜2
0の有機酸ェステル、炭素数4〜20のエーテル、炭素
数4〜20のケトン、炭素数4〜20のアルコール、炭
素数4〜20のハロゲン化炭化水素などが使用し得る。
飽和脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、有機酸ェステル
は好ましい溶媒である。使用し得る溶媒を具体的に例示
するとペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン「ノナ
シ、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テト
ラデカン、ベンタデカン、ヘキサデカン、シクロベンタ
ン、シクロヘキサンならびにこれらのアルキル譲導体な
どの脂肪族炭化水素ベンゼン、トルエン、o一、m−、
p−キシレン「トリメチルベンゼン類、エチルベンゼン
、プロピルベンゼン、ナフタレン、ビフエニル、ジフェ
ニルメタンならびにこれらのアルキル誘導体などの芳香
族炭化水素酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢
酸アミル、酢酸へキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸オ
クチル、酢酸フェニル、酢酸トリル、酢酸ペンジル、ギ
酸プチル、ギ酸アミル、ブロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、安息香酸メチル
、安息香酸エチル、トルィル酸メチル、アジピン酸ジメ
チル、エチレングリコールジアセテート、ジエチレング
リコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテ
−ト、y−ヴアレロラクトン、6ーカフ。
ロラクトンなどの有機酸ェステルジエチルヱーテル「ジ
プロピルエーテル「メチルブチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ブチルエチルエーテル、ジアミルエーテル、ジ
フエニルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン、
114−ジオキサン、プチルプロピルエーテル、べ・ン
ジルエチルエーテル、フエネトール、ジベンジルェーテ
ルなどのエーテル類アセトフエノン、シクロヘキサノン
、3ーベンタノン「4ーメチルー2ーベンタノンなどの
ケトン類1−ペンタノールt 3ーメチルー1−ブタノ
−ル、3−メチル一2プロパノール「1ーヘキサノール
、1−オクタノール、シクロヘキサノール、フエ/−ル
、ベンジルアルコールなどのアルコール類クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ヨードベンゼンなどのハロゲン
化炭化水素使用する溶媒の量には特に制限はないが「通
常、反応液に対して1〜95重量%、好ましくは2〜9
の重量%、更に好ましくは5〜9の重量%、最も好まし
くは5〜8の重量%使用する。
反応液の2500における誘電率が19以下好ましくは
18以下、更に好ましくは17以下になるように溶媒の
種類と量を選ぶことが好ましい。本発明の方法を実施す
るには反応温度が20〜50000、好ましくは30〜
350qo、更に好ましくは40〜25000の領域が
適当であるが80〜220qoの領域が特に有効である
。
反応全圧もまた反応液を液相に保ち、水素を適当な分圧
に保つのに十分であれば製造における重要なパラメータ
ではない。
水素の好適な分圧は0.05〜30の気圧、最適には0
.1〜200気圧、さらに最適には0.2〜100気圧
であるが、これより広い0.01〜500気圧の範囲の
分圧でもさしつかえない。使用される水素は必ずしも純
度の高ものではなくても良く、一酸化炭素、二酸化炭素
、メタン、窒素、希ガス等を含有していても良い。原料
ガスは合成ガス(一酸化炭素と水素の混合ガス)の形態
で供給することができる。一般には、水素ガス中に一酸
化炭素が混在するおそれ強い反応ガス中の一酸化炭素は
触媒を安定化し、副反応を抑制する傾向がある。したが
って、反応ガス中に0.1モル%以上、好ましくは1モ
ル%以上、さらに好ましくは2モル%以上の一酸化炭素
を混在させることは好ましい実施態様である。本発明の
原料である無水酢酸は例えばアセトアルデヒドの酸化「
あるいはアセトアルデヒドの酸化又はメタノールと一酸
化炭素の反応により生成した酢酸をケテンを中間体とし
て経由するいわゆるワツカ一法によって供給することも
できるし、あるいは酢酸メチルと一酸化炭素の反応によ
り生成した無水酢酸を利用することもできる。
〔例えば特公昭52−3920袴開昭51一65709
特閥階54−59214等があげられる。〕以上のよう
な場合、原料中に酢酸、酢酸メチル「アセトアルデヒド
等の不純物が混入するであろうことが予想されるが、反
応の総合収支を乱さないかぎり、上記不純物も許容して
反応を好適に進めることが出来る。
尚t酢酸メチルのカルボニル化反応により生成した無水
酢酸を原料として使用する場合、同カルボニル化反応に
おいて原料ガスとして合成ガスを使用し、この工程にお
ける反応廃ガスの一部または全部を本発明における水素
化反応の原料ガスとして利用することもできる。さらに
水素化反応工程における反応廃ガスの一部または全部を
前記カルボニル化反応工程に再利用するなどして原料ガ
ス、反応廃ガスを相互に転用することは合理的な実施態
様である。又、前記方法による無水酢酸は沃化メチルの
ようなハロゲン化物を助触媒として製造されるが、カル
ボニル化反応におけるョウ化メチルの一部または全部を
本発明の反応のョウ化メチル触媒の一部又は全部として
利用することもできる。さらに本発明の反応工程におけ
るョウ化メチル触媒の一部又は全部を前記カルボニル化
反応工程に再利用するなどして、ョウ化メチル触媒を相
互に転用することは合理的な実施態様である。反応原料
ならびに溶媒中に水が混在することは一般に生じうる現
象であるが、水素、ならびに無水酢酸は市販の反応剤を
存在することがありがちな程度の少量の水の混在は許容
して問題は生じない。
しかしながら、通常本発明に用いる一種以上の反応原料
ならびに溶媒に10モル%以上の水が混在することは避
けるべきであって、反応系への大過剰な水の誘導は原料
および生成物の分解を招来し易い。この点において5モ
ル%、さらに好まし〈は3モル%以下の含水量であるこ
とが望ましい。水は反応生成物ではないので反応液を無
水に近い条件に保つことは、反応帯に導入される必要な
反応剤、溶媒ならびに反応作動液を適正な乾燥状態に維
持することによって簡単に達成される。本発明の方法は
回分式、半回分式あるいは連続式で実施することができ
る。また不均一触媒の場合「反応型式は流動床型式ある
いは固定床型式のいずれでも実施可能である。本発明の
方法においては、反応液はョウ化メチル触媒、原料無水
酢酸、反応中間体、ェチリデンジアセテート、目的達成
物酢酸ビニル、副生成物酢酸および主成分とする混合液
の状態に保たれているが生成する酢酸ビニルを反応液か
ら分離し、重合反応を生起する性質を有する酢酸ビニル
の反応系内濃度を低く維持することが肝要である。
したがって生成物の分離、例えば蒸留によって反応液中
の酢酸ビニルの濃度は反応液に対して25重量%以下、
好ましくは15重量%以下、さらに好ましくは1の重量
%以下に保たれるが、5重量%以下の濃度に維持するこ
とは特に有効である。又、同様に本発明の反応において
は副生成物である酢酸が大過剰反応系へ滞留することは
避けるべきであり、目的生成物の生成を阻害する傾向が
ある。
したがって反応液中の酢酸の濃度は反応液に対して50
重量%以下、好ましくは40重量%以下、さらに好まし
くは3の重量%以下に保たれるが2の重量%以下の濃度
にすることは特に有効である。前記した反応液からの酢
酸ビニルおよび酢酸の分離操作を有効にするため蒸発除
去を行なうことができる。
以上の点に関して例示するだけの目的で本発明の方法を
実施する曲型的な反応系および分離系の説明図を示す図
面を参照することによってさらに容易に理解することが
できるだろう。
第1図において反応帯10は任意のタイプの1基以上の
圧力反応器よりなり、この反応器に適当な触媒、典型的
にいって、沃化メチルと組合わされたパラジウム金属よ
りなる触媒を含む反応液を導入する。
水素を含む原料ガスは11を経由して反応帯10の低部
へ圧入し、無水酢酸は12から導入する。反応帯10か
ら13を経由する反応および禾反応の流出流はその主要
部分に分けるため、一基以上の蒸留ユニット、たとえば
フラッシュ装置およびび/または分留塔よりなる分離帯
20‘こ導入される。本質的に非揮発性触媒成分を含有
する反応混合物中の高沸点成分は21を経由して反応帯
10へ循環される。アセトアルデヒド、沃化メチルL酢
酸メチル、酢酸ビニルおよび酢酸等よりなる反応混合物
中の低沸点成分は22を経由して「一基以上の蒸留ユニ
ットよりなる分離帯30へ導入される。アセトアルデヒ
ド、沃臭化メチルおよび酢酸メチルは33を経由して反
応帯10へ循環されるが粗分離された酢酸ビニルと酢酸
は31あるいは32より一緒にあるいは別々に抜き出さ
れる。次に前記方法とは別の好ましい方法を説明する。
第2図において反応帯10川ま任意のタイプの1基以上
の圧力反応器よりなり、この反応器に適当な触媒・典型
的にいって沃化メチルと組合わされたパラジウム金属よ
りなる触媒を含む反応液を導入する。
原料ガスは101から循環ガス流109とともに103
を経由して反応帯100の低部へ圧入し無水酢酸は10
2から導入する。反応帯100から105を経由する流
出流、すなわち反応ガスを含む反応および未反応の流出
蒸気流はその主要成分に分けるため、この分野の専門家
がよく知っているように、一基以上の気液分離器および
蒸留ユニットよりなる分離帯200に導入される。すな
わち、水素を含む流出蒸気流は105を経由して分離帯
200で気液分離される。非凝縮性の水素を含むガス流
は108から109をとおって、101からの供給ガス
とともに103を経由して反応帯100へ循環されるが
必要に応じて110より一部系外へ放出されることもあ
る。一方前記反応ガス流とともにアセトアルデヒド、沃
化メチル、酢酸メチル、酢酸ピニルおよび酢酸などの成
分はストリッピングおよび/または蒸発により105を
経由して、分離帯200で気液分離されるが、酢酸、無
水酢酸の一部分、あるいはアセトアルデヒド、沃化メチ
ル、酢酸メチルなどの成分は大部分が反応ガス流ととも
に反応帯100へ循環される。一方、分離帯200で気
液分離された酢酸ビニルおよび酢酸を含む流出流は10
7を経由して分離帯300へ導入される。主として酢酸
メチル、沃化メチルよりなる低沸点成分は300から3
03を経由して反応帯100へ循環し、また主として無
水酢酸とェチリデンジアセテートならびに溶媒よりなる
高沸点成分は300から304を経て反応帯100へ循
環される。目的生成物である酢酸ビニルと酢酸は301
あるいは302より一緒にあるいは別に抜き出される。
場合によっては反応中に生成することのある創生重合物
、その他の高沸点副生物の蓄積を防止するため、あるい
は触媒の一部を抜き出すために反応帯中の反応液の一部
を104よりパージすることもある。以上詳細に説明し
た本発明の方法は新規な反応により酢酸ビニルを無水酢
酸と水素を反応させることにより製造するものであり工
業的意義はきわめて高いものである。
以下実施例によりさらに具体的に説明する。実施例 1 耐圧反応器に無水酢酸135夕、沃化メチル15夕、5
%パラジウム活性炭(日本エンゲルハルト製、市販品)
4.5夕および酢酸、リチウム5.0夕を入れ、水素と
一酸化炭素の混合ガス(舷:CO!2:1)を用いて5
0k9′のGとし、水素を補いながら50k9/塊G、
175℃に保って30分間反応させた。
反応後の液中には相当量の酢酸と共に酢酸ビニル1.4
3夕、ェチリデンジアセテート18.4夕が含まれてい
た。比較例 1 酢酸リチウムを加えなかった以外は実施例1と同様に行
なった。
反応後の液中には相当量の酢酸と共に酢酸ビニル0.6
75夕、ヱチリデンジアセテ−ト35.1夕、酢酸エチ
ル0.136夕が含まれていた。実施例 2 耐圧反応器に無水酢酸1359、沃化メチル15外パラ
ジウム・ブラック0.45夕および弗化カリウム2.0
夕を入れL水素を用いて10k9′のG、175℃に保
って30分間反応させた。
反応後の液中には相当量の酢酸と共に酢酸ビニル1。1
4夕、ェチリデンジアセテート4.92夕が含まれてい
た。
実施例3〜11、比較例2沃化メチル15夕、パラジウ
ム・ブラック0.45夕を使用し、添加物を加えて「実
施例2と同様にして10kg′のG、17500で30
分間反応させた結果を表1にまとめて示す。
比較例2は何も添加しない例である。
表 1 実施例 12 耐圧反応器に無水酢酸90夕、沃化メチル15夕「エチ
リデンジアセテート45.0夕、パラジウム・フラック
0.075夕、沃化バリウム(艶121が20)4.5
夕を入れ、水素を用いて10k9′のG、175qoで
2時間反応させた。
反応後の液中には相当量の酢酸と共に酢酸ビニル2.0
8夕、ェチリデンジアセテート45.1夕、アセトアル
デヒド0.041夕が含まれていた。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明の方法を実施する工程図の
例示であり、図中の番号はそれぞれl0;反応帯、20
,30:分離帯、11;原料ガス供給ライン、12;原
料及び触媒供給ライン、100;反応帯、200,30
0;分離帯、101;原料供給ラインを示す。 鯖ノ図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 パラジウム金属および/またはその化合物とヨウ化
    メチルの存在下に無水酢酸と水素とを反応させて酢酸ビ
    ニルを製造する方法において、助触媒としてリチウム、
    カリウム、セシウム、バリウム、ストロンチウムの弗化
    物、塩化物、臭化物、沃化物または有機酸塩を反応液に
    対して2.5×10^−^3乃至10重量%用いること
    を特徴とする酢酸ビニルの製造方法。
JP17360581A 1981-10-29 1981-10-29 酢酸ビニルの製造方法 Expired JPS605581B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62117097A (ja) * 1985-11-18 1987-05-28 株式会社クレデイックス 自動商品貸出機における商品貸出方式

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JPS62117097A (ja) * 1985-11-18 1987-05-28 株式会社クレデイックス 自動商品貸出機における商品貸出方式

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