JPS6056308A - 透明導電電極膜のパタ−ニング法 - Google Patents
透明導電電極膜のパタ−ニング法Info
- Publication number
- JPS6056308A JPS6056308A JP16348883A JP16348883A JPS6056308A JP S6056308 A JPS6056308 A JP S6056308A JP 16348883 A JP16348883 A JP 16348883A JP 16348883 A JP16348883 A JP 16348883A JP S6056308 A JPS6056308 A JP S6056308A
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- Japan
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- transparent conductive
- film
- conductive electrode
- patterning
- electrode film
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- Pending
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- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明はディスプレイ装置等における金属酸化物透明電
極膜のバターニング方法に関する。
極膜のバターニング方法に関する。
（２）技術の背景
電子式数字等表示は産業用の装置のみでなく、ポケット
型電卓、ディジタルＩＩ′Ｊｌ計、電子式腕時剖等に多
用されている。かかる表示には例えば電界発光ディスプ
レイが用いられ、それはガラス基板上の螢光体の薄いフ
ィルムからなり、螢光体と前面の電極は透明である。こ
の電極は一般に透明導電電極膜と呼称されるが、本発明
はそれのパターニングに関するものである。
型電卓、ディジタルＩＩ′Ｊｌ計、電子式腕時剖等に多
用されている。かかる表示には例えば電界発光ディスプ
レイが用いられ、それはガラス基板上の螢光体の薄いフ
ィルムからなり、螢光体と前面の電極は透明である。こ
の電極は一般に透明導電電極膜と呼称されるが、本発明
はそれのパターニングに関するものである。
（３）従来技術と問題点
従来の透明導電膜のパターニングにおいては、その透明
導電膜上にそのままレジストを塗布し、このレジストの
露光、現像処理によりパターニングして透明導電膜のエ
ツチングを行い、透明電極を形成していたが、このよう
な方法によるとエツチング後の目視等によるパターン検
査において、パターンが透明であることから、パターン
同志のショートあるいはパターンのオープン（穴などの
隙間があること）等の目視による欠陥検査が困難である
ことが経験された。
導電膜上にそのままレジストを塗布し、このレジストの
露光、現像処理によりパターニングして透明導電膜のエ
ツチングを行い、透明電極を形成していたが、このよう
な方法によるとエツチング後の目視等によるパターン検
査において、パターンが透明であることから、パターン
同志のショートあるいはパターンのオープン（穴などの
隙間があること）等の目視による欠陥検査が困難である
ことが経験された。
（４）発明の目的
本発明は上記従来の問題に泥み、透明な導電電極膜のエ
ツチングにおりるパターン検査を容易にし、しかも透明
導電膜の抵抗値になんら影響を与えない透明導電膜のパ
ターニング方法を提供することを目的とする。
ツチングにおりるパターン検査を容易にし、しかも透明
導電膜の抵抗値になんら影響を与えない透明導電膜のパ
ターニング方法を提供することを目的とする。
（５）発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、透明基板上に形成さ
れたディスプレイ装置用の透明導電電極膜をパターニン
グする方法において、該透明電極股上に金属薄膜を全面
に被着した後にフォトレジストを用いたパターニングを
行い、金属膜および透明導電膜のエツチングを順次行い
、フォトレジスト除去後に上部金属膜の選択的エツチン
グを行うことを特徴とする透明導電電極膜のパターニン
グ方法を提供することによって達成される。
れたディスプレイ装置用の透明導電電極膜をパターニン
グする方法において、該透明電極股上に金属薄膜を全面
に被着した後にフォトレジストを用いたパターニングを
行い、金属膜および透明導電膜のエツチングを順次行い
、フォトレジスト除去後に上部金属膜の選択的エツチン
グを行うことを特徴とする透明導電電極膜のパターニン
グ方法を提供することによって達成される。
（６）発明の実施例
以下本発明実施例を図面によって詳説する。
本発明においてはＮｉＣｒ、 Ｔｉ＋ Ｔａ、 Ｍｏ、
Ｗ等の金属と透明導電膜を構成する酸化インジウム間
に選択性に優れたエツチング液、エツチング法があるこ
とを利用して目視検査時には、パターニングされた金属
／透明導電電極という２１１構成で検査を容易にし、検
査後前記の金属膜を選択的にエツチング除去するもので
ある。金属としてＮｊＣｒを用いた本発明の第１実施例
を第１図を参照して示す。
Ｗ等の金属と透明導電膜を構成する酸化インジウム間
に選択性に優れたエツチング液、エツチング法があるこ
とを利用して目視検査時には、パターニングされた金属
／透明導電電極という２１１構成で検査を容易にし、検
査後前記の金属膜を選択的にエツチング除去するもので
ある。金属としてＮｊＣｒを用いた本発明の第１実施例
を第１図を参照して示す。
ガラス基板１上に形成されたＩＩＡ厚１０００人の透明
導電電極膜ずなわち１ｎ２０３（Ｓｎ）膜２上に（第１
図（ａ）） 、５００人の金属膜ずなわちＮｉＣｒ膜３
を真空蒸着法（またはスパッタ法）により被着形成する
（第１図（ｂ））。
導電電極膜ずなわち１ｎ２０３（Ｓｎ）膜２上に（第１
図（ａ）） 、５００人の金属膜ずなわちＮｉＣｒ膜３
を真空蒸着法（またはスパッタ法）により被着形成する
（第１図（ｂ））。
その後、感光性レジストＩＩ欠４． （それはポジ型で
もネガ型でもよい）を用いたフォトリソグラフィにより
パターン形成を行う。パターン形成後のレジスト膜４は
第２図の平面図に示される。
もネガ型でもよい）を用いたフォトリソグラフィにより
パターン形成を行う。パターン形成後のレジスト膜４は
第２図の平面図に示される。
次いで硝酸第２セリウムアンモン（（Ｎｈ ）２ Ｃｅ
（ＮＯ３）６）を含んだ水溶液でＮｉＣｒ膜３を、塩化
第２鉄（ＦｅＣＰ！、３）を含んだ水溶液でＩｎ２０３
（Ｓｎ）膜２のエツチングを順次行い、引続きレジスト
膜４の除去を行う。この後、目視によりショート、オー
プンの検査を行い必要に応じて修整を行う。この検査は
黄色のＮｔＣｒ膜３があるため目視によって容易にかつ
確実に行うことができる。
（ＮＯ３）６）を含んだ水溶液でＮｉＣｒ膜３を、塩化
第２鉄（ＦｅＣＰ！、３）を含んだ水溶液でＩｎ２０３
（Ｓｎ）膜２のエツチングを順次行い、引続きレジスト
膜４の除去を行う。この後、目視によりショート、オー
プンの検査を行い必要に応じて修整を行う。この検査は
黄色のＮｔＣｒ膜３があるため目視によって容易にかつ
確実に行うことができる。
この検査と修整後に硝酸第２セリウムアンモン液でＮｉ
Ｃｒ膜３のみの選択エツチングを行い透明導電電極膜の
パターンを得る。ＮｉＣｒエッチャントのＩｎ２Ｑ３（
Ｓｎ）抵抗値にの影響は５時間の浸漬に対して５％程度
の増加があるだ＆ｊであり、ＮｉＣｒのエツチング時間
は数十秒程度であるので実用上全く問題がないことが確
認された。
Ｃｒ膜３のみの選択エツチングを行い透明導電電極膜の
パターンを得る。ＮｉＣｒエッチャントのＩｎ２Ｑ３（
Ｓｎ）抵抗値にの影響は５時間の浸漬に対して５％程度
の増加があるだ＆ｊであり、ＮｉＣｒのエツチング時間
は数十秒程度であるので実用上全く問題がないことが確
認された。
次に１’ａを用いた本発明の第２実施例を示す。前例と
同様に１０００人の透明導電電極膜すなわち１ｎ２０３
（Ｓｎ）膜上に５００人の金属膜すなわち１’ａ股を真
空蒸着により被着形成する。パターニング後、フレオン
（ＣＦ４）ガスの円筒形プラズマエツチング装置でガス
圧Ｉ Ｔｏｒｒ、高周波電力２００ Ｗで金属ＩＱ（１
’ａ＞のエツチング（ドライエツチング）を行う。エツ
チング時間は５０秒である。その後、前記のＩｎ２Ｑ３
（Ｓｎ）エッチャントでエツチングを行い、レジストの
除去、目視検査、修整を行う。Ｔａは黒灰色であるため
、第１実施例の場合と同様に目視検査が容易にかつ確実
になされる。
同様に１０００人の透明導電電極膜すなわち１ｎ２０３
（Ｓｎ）膜上に５００人の金属膜すなわち１’ａ股を真
空蒸着により被着形成する。パターニング後、フレオン
（ＣＦ４）ガスの円筒形プラズマエツチング装置でガス
圧Ｉ Ｔｏｒｒ、高周波電力２００ Ｗで金属ＩＱ（１
’ａ＞のエツチング（ドライエツチング）を行う。エツ
チング時間は５０秒である。その後、前記のＩｎ２Ｑ３
（Ｓｎ）エッチャントでエツチングを行い、レジストの
除去、目視検査、修整を行う。Ｔａは黒灰色であるため
、第１実施例の場合と同様に目視検査が容易にかつ確実
になされる。
この後に前記条件のプラズマエツチングでＴａ１ｌＲの
除去を行い、パターニングが完了する。このようなガス
プラズマエツチングのＩｎ２Ｏ３（Ｓｎ）抵抗−値への
影響は１０分間のエツチングに対して２０％程度の増加
があるだけであり、Ｔａのエツチング時間は５０秒程度
であるので、多少のオーバーエツチングがあっても実用
上殆ど問題ない。なお、第２実施例のトライエツチング
は、サイトエツチングを伴わないレジストパターン通り
のエツチングがなされる利点がある。
除去を行い、パターニングが完了する。このようなガス
プラズマエツチングのＩｎ２Ｏ３（Ｓｎ）抵抗−値への
影響は１０分間のエツチングに対して２０％程度の増加
があるだけであり、Ｔａのエツチング時間は５０秒程度
であるので、多少のオーバーエツチングがあっても実用
上殆ど問題ない。なお、第２実施例のトライエツチング
は、サイトエツチングを伴わないレジストパターン通り
のエツチングがなされる利点がある。
（７）発明の効果
以上詳細に説明した如く、本発明によれば、ディスプレ
イ装置に用いる透明導電電極膜のパターン検査が容易に
なるので検査時間を大幅に短縮することが可能となる効
果がある。
イ装置に用いる透明導電電極膜のパターン検査が容易に
なるので検査時間を大幅に短縮することが可能となる効
果がある。
第１図は本発明の方法を実施する工程を示す断面図、第
２図は第１図の工程により得られたレジスト膜のパター
ンを示す平面図である。 ■−ガラス基板、２−透明導電電極膜 （Ｉｎ２０３（Ｓｎ） ） 、３−金１！膜（ＮｉＣｒ
）、４− レジスト膜
２図は第１図の工程により得られたレジスト膜のパター
ンを示す平面図である。 ■−ガラス基板、２−透明導電電極膜 （Ｉｎ２０３（Ｓｎ） ） 、３−金１！膜（ＮｉＣｒ
）、４− レジスト膜
Claims (1)
- 透明基板上に形成されたディスプレイ装置用の透明導電
電極膜をパターニングする方法において、該透明電極股
上に金属薄膜を全面に被着した後にフォトレジストを用
いたパターニングを行い、金属膜および透明導電１挨の
エツチングを順次行い、フォトレジスト除去後に上部金
属膜の選択的エツチングを行うことを特徴とする透明導
電電極膜のパターニング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16348883A JPS6056308A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 透明導電電極膜のパタ−ニング法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16348883A JPS6056308A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 透明導電電極膜のパタ−ニング法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6056308A true JPS6056308A (ja) | 1985-04-01 |
Family
ID=15774814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16348883A Pending JPS6056308A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 透明導電電極膜のパタ−ニング法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6056308A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769179A (en) * | 1985-03-20 | 1988-09-06 | Mitsubishi Cable Industries, Limited | Flame-retardant resin compositions |
| JPH02207418A (ja) * | 1989-02-06 | 1990-08-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 銅薄膜パターニング方法 |
-
1983
- 1983-09-06 JP JP16348883A patent/JPS6056308A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769179A (en) * | 1985-03-20 | 1988-09-06 | Mitsubishi Cable Industries, Limited | Flame-retardant resin compositions |
| JPH02207418A (ja) * | 1989-02-06 | 1990-08-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 銅薄膜パターニング方法 |
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