JPS606328A - ダイシング装置 - Google Patents

ダイシング装置

Info

Publication number
JPS606328A
JPS606328A JP58113144A JP11314483A JPS606328A JP S606328 A JPS606328 A JP S606328A JP 58113144 A JP58113144 A JP 58113144A JP 11314483 A JP11314483 A JP 11314483A JP S606328 A JPS606328 A JP S606328A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
semiconductor wafer
wafer
dicing
blade
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58113144A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Takano
英明 高野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP58113144A priority Critical patent/JPS606328A/ja
Publication of JPS606328A publication Critical patent/JPS606328A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/08Protective coverings for parts of machine tools; Splash guards
    • B23Q11/0875Wipers for clearing foreign matter from slideways or slidable coverings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/10Arrangements for cooling or lubricating tools or work

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体ウェハーのダイシング装置に関する。
通常、半導体ウェハーは薄いシリコンウェハーの一主面
に写真食刻、選択拡散等の技術により、複数の半導体素
子を配列形成しである。前記半導体ウェハーから各半導
体素子に切断分離する場合、半導体ウェハーのスクライ
ブ領域に切削にょシ溝を形成する、いわゆるダイシング
作業が行なわれている。このダイシング時に切削された
ウェハーのシリコン屑等がウェハーの素子形成部(特に
ボンディングパット面)IC付着し、ポンディング作業
時のボンダビリティを悪くするという問題があった◎こ
のようなダイシング時に付着したシリコン屑は、洗浄に
よシ除去しなければならない。かかる洗浄方法として、
超音波洗浄法が多く利用されている。ところで、この超
音波洗浄法は洗浄水を含む容器内にダイシング後の半導
体ウェハを垂直状態で挿入し、容器下面から超音波振動
を与え、この時に生ずる洗浄水の波動を利用して行うも
のであるが、底部から振動を与える。しかし、この方法
では容器内の洗浄水の波動が上下で均一でないため、半
導体ウェハーの上下面における洗浄度にムラが生じ、好
ましい洗浄効果が得られないという欠点があった0この
ため、超音波洗浄の後に、さらにウェハー全能の容器に
移し、流水洗浄を行うことによって洗浄効果を高める方
法が取られている・しかし、この方法では、超音波洗浄
の他に流水洗浄を必要とし、工程数の増加を招き、また
、各洗浄毎にウェハーを移し換える作業を必要とするた
め、洗浄作業に多くの時間を要するという問題があった
したがって、本発明の目的とするところは、洗浄効果を
高め、作業工程の簡略化を図ることができる洗浄手段を
有したダイシング装置を供給することである。
上記目的を達成するために、本発明は、ダイシング時に
スクラバー洗浄を行うことを特徴とするものである。
以下図を用い詳細に説明する。
第1図は本発明の実施例による切屑除去用手段として洗
浄用ブラシを有した回転ブレードの断面図である。ブレ
ード4はフランジ2とフランジ3により固定され、回転
軸lに取9つけられる。そして洗浄用ブラシ5は、ブレ
ード4の両面近くの、フランジ2.フランジ2の外周面
に取りつけられ、ブレード4と同一回転する。
第2図は、ダイシング部の概略正面図である・ブレード
4と洗浄用ブラシ5は回転軸1に取り付けられ高速回転
する。半導体ウェハー6を吸着したテーブル7が、左右
方向(X方向)に移動し、回転軸が前後方向(Y方向)
に間欠移動することによプ、半導体ウェハー6に切削溝
が、形成される。この時、切削水をノズル8から供給し
、かつ、切屑除去ブラシ5により、切屑はウェハーの素
子形成部(特にポンディングパッド面)よシ取り除かれ
る・ したがって本発明によれば、スクラバー洗浄であるため
、洗浄効果が極めて良く、またその効果は半導体ウェハ
ー面に対して全面均一となる。また、ダイシング時に同
時に洗浄するため、従来のように超音波洗浄後、流水洗
浄を行なうという2段式の洗浄を行なう必要がなく、工
程の簡略化が可能となる0
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例によるダイシング装置のブレー
ド部の断面図である。第2図は本発明の実施例によるダ
イシング装置のダイシング部概略正面図である。 図中、1・・・・・・ブレード回転軸、2・旧・・フラ
ンジA%3・・・・・・フランジB、 4・・・・・・
ブレード、5・・・・・・切屑除去用ブラシ、6・・・
・・・半導体ウェハー、7・・・・・・吸着テーブル、
8・・・・・・切削水用ノズル・射21 図 范 2 図 13

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体ウェハーを回転ブレードにより切断するダイシン
    グ装置にお匹て、該回転ブレードのブレード保持用フラ
    ンジに切屑除去用洗浄手段を有することを特徴とするダ
    イシング装置。
JP58113144A 1983-06-23 1983-06-23 ダイシング装置 Pending JPS606328A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58113144A JPS606328A (ja) 1983-06-23 1983-06-23 ダイシング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58113144A JPS606328A (ja) 1983-06-23 1983-06-23 ダイシング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS606328A true JPS606328A (ja) 1985-01-14

Family

ID=14604682

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58113144A Pending JPS606328A (ja) 1983-06-23 1983-06-23 ダイシング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS606328A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107553204A (zh) * 2017-10-10 2018-01-09 无锡华美钼业有限公司 钼合金加工专用切割机

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107553204A (zh) * 2017-10-10 2018-01-09 无锡华美钼业有限公司 钼合金加工专用切割机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6112373B2 (ja)
JP2002329685A (ja) ダイシング装置
KR102858924B1 (ko) 웨이퍼의 분할 방법
JPS606328A (ja) ダイシング装置
JPH05206266A (ja) ウェハダイシング装置
JPH06177245A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2007149860A (ja) 基板の分割方法および分割装置
JP2001345287A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2943212B2 (ja) 半導体ウェハのダイシング方法及びダイシング装置
JP2958375B2 (ja) 半導体ウェハのダイシング方法及びダイシング装置
JPH0590406A (ja) 半導体ウエハのダイシング方法
JPH04213826A (ja) 半導体製造用ウェーハ洗浄装置
JPS6247153B2 (ja)
JPS5919329A (ja) 洗浄方法とその装置
JPH03149183A (ja) 半導体基板の切削方法
JPH0158047B2 (ja)
JPH01210314A (ja) 半導体ウェハーの切断方法
JPH03294160A (ja) 研削砥石および研削装置
JPH02113907A (ja) ダイシング方法及びその装置
JPH118211A (ja) Icウェハのダイシング装置の装置構造、ダイシング方法、及びicウェハの洗浄方法
JP2555228Y2 (ja) ダイシング装置
JPH04162647A (ja) 半導体装置
JPH11176771A (ja) ダイシング方法及びダイシング装置
JP3853873B2 (ja) 半導体ウエハの分割方法
JP4909575B2 (ja) 洗浄方法,洗浄装置