JPS6063405A - パタ−ン検査方法及びその装置 - Google Patents
パタ−ン検査方法及びその装置Info
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- JPS6063405A JPS6063405A JP58171811A JP17181183A JPS6063405A JP S6063405 A JPS6063405 A JP S6063405A JP 58171811 A JP58171811 A JP 58171811A JP 17181183 A JP17181183 A JP 17181183A JP S6063405 A JPS6063405 A JP S6063405A
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- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
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- G—PHYSICS
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- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
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- G—PHYSICS
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｔａ＋ 発明の技術分野
本発明はパターン検査方法及びその装置に係り、特にデ
ィジタル値からなる映像情報を用いて行うパターン検査
方法及びその装置に関する。
ィジタル値からなる映像情報を用いて行うパターン検査
方法及びその装置に関する。
（ｂ） 従来技術と問題点
ガラス基板或いは半導体基板表面に同一パターンが繰り
返し形成されたフォトマスク或いは半導体基板の検査方
法として、上記繰り返し形成された多数のパターンのう
ちの２個のパターンの同一部分を比較する方法が多く用
いられている。この２個のパターンを比較する方法には
、アナログ信号の状態で比較する方式と、映像信号をデ
ィジタル値に変換して一旦画像メモリに格納し、比較す
べき部分に対応する情報を上記画像メモリより取り出し
て比較する方法とがある。
返し形成されたフォトマスク或いは半導体基板の検査方
法として、上記繰り返し形成された多数のパターンのう
ちの２個のパターンの同一部分を比較する方法が多く用
いられている。この２個のパターンを比較する方法には
、アナログ信号の状態で比較する方式と、映像信号をデ
ィジタル値に変換して一旦画像メモリに格納し、比較す
べき部分に対応する情報を上記画像メモリより取り出し
て比較する方法とがある。
王妃２方式のうち後者は前者と比べ、一般に検査装置の
ステージ系の不安定動作に起因する信号雑音の影響を回
避し得るという長所を有するが、信号処理に要する時間
は数倍に及ぶ。
ステージ系の不安定動作に起因する信号雑音の影響を回
避し得るという長所を有するが、信号処理に要する時間
は数倍に及ぶ。
この難点を解消し、信号処理時間を短縮し得るディジタ
ル比較方式として、画像メモリより比較しようとする領
域に対応する映像情報から一定の規則に基づいてベクト
ルを発生させ、上下左右４方向のそれぞれについてベク
トルの数を比較することにより、パターンの異常を検出
する方法が提唱され、既に実用化されている。
ル比較方式として、画像メモリより比較しようとする領
域に対応する映像情報から一定の規則に基づいてベクト
ルを発生させ、上下左右４方向のそれぞれについてベク
トルの数を比較することにより、パターンの異常を検出
する方法が提唱され、既に実用化されている。
この方法は信号処理時間が短縮されるとともにパターン
の検査精度も高く、非常に優れた検査方法と目されてい
た。、ところが種々検討の結果、或る種のパターンにつ
いては、かなり大きな異常であっても検出し得ない場合
が存在することがが判明した。
の検査精度も高く、非常に優れた検査方法と目されてい
た。、ところが種々検討の結果、或る種のパターンにつ
いては、かなり大きな異常であっても検出し得ない場合
が存在することがが判明した。
（Ｃ） 発明の目的
本発明の目的は上記問題点を解消して、如何なる種類の
パターンであっても的確且つ高速で異常を検出し得るデ
ィジタル方式のパターン検査方法及びその装置を提供す
ることにある。
パターンであっても的確且つ高速で異常を検出し得るデ
ィジタル方式のパターン検査方法及びその装置を提供す
ることにある。
Ｔｄｌ 発明の構成
本発明に係るパターン検査方法及びその装置の特徴は、
２個の被検査パターンのそれぞれについて、被検査パタ
ーンの原パターンとこれを所定方向に所定量シフトさせ
たパターンとの合成パターンに対応してマトリックス状
に構成されたディジタルデータからなる映像情報を作成
し、該映像情報としての前記マトリックスの縦，横，及
び斜め方向に隣接する各要素間の変化を示すベクトノレ
を発生させ、このベクトルを所定の方法により各方向毎
に比較することにより、パターンの異常を検出すること
及び上記各機能を具備することにある。
２個の被検査パターンのそれぞれについて、被検査パタ
ーンの原パターンとこれを所定方向に所定量シフトさせ
たパターンとの合成パターンに対応してマトリックス状
に構成されたディジタルデータからなる映像情報を作成
し、該映像情報としての前記マトリックスの縦，横，及
び斜め方向に隣接する各要素間の変化を示すベクトノレ
を発生させ、このベクトルを所定の方法により各方向毎
に比較することにより、パターンの異常を検出すること
及び上記各機能を具備することにある。
（ｅ）発明の実施例
まず第１図のシステム構成図により、上記従来の高速の
ディジタル方式のパターン検査装置とこれを用いた従来
のパターン検査方法を説明する。
ディジタル方式のパターン検査装置とこれを用いた従来
のパターン検査方法を説明する。
同図において、１はフォトマスク、２及び２“は左レン
ズ及び右レンズ、３は水銀ランプのような光源（図示せ
ず）から放射された照射光、４及び４゛はイメージセン
サ、５及び６は第１及び第２の電圧アナライザ、７及び
７”はメモリマ・ノブ作成部、８及び８゛はマトリック
ス抽出部．９及び９”はベクトルマツプ作成部、１０は
ベクトル比較部、１１は制御系、１２ 、１３． １４
はいずれも記憶装置（メモリ）を示す。・ 被検査フォトマスク１の透過光を、フォトマスク１を挟
んで光源と反対側に設けされた左モンズ２及び右レンズ
２゛で。左レンズ２及び右レンズ２°はフォトマスクｌ
上の比較すべき２つのチップの対応するパターン位置に
正確に位置決めされている。上記２つのレンズ２，２′
で受光された光信号は、イメージセンサ４，４′ に入
力され、上記光信号強度に対応する電荷量が被検査対象
パターン（図示せず）に蓄えられる。この電荷は電気信
号（アナログ信号）として順次送出され、第１の電圧ア
ナライザ５において１６段階にレベル分けされ、上記電
荷置部ち光信号強度に対応するディジタル信号に変換さ
れ、更に第２の電圧アナライザ６により白色（Ｗ ：
ｗｈｉｔｅ ） 、配色（Ｇｒｅｙ） ＋黒色（Ｂｌａ
ｃｋ ）の３段階のいずれかを示すディジタル信号に変
換され、前記被検査フォトマスクの被検査対象区域の映
像情報として出方される。
ズ及び右レンズ、３は水銀ランプのような光源（図示せ
ず）から放射された照射光、４及び４゛はイメージセン
サ、５及び６は第１及び第２の電圧アナライザ、７及び
７”はメモリマ・ノブ作成部、８及び８゛はマトリック
ス抽出部．９及び９”はベクトルマツプ作成部、１０は
ベクトル比較部、１１は制御系、１２ 、１３． １４
はいずれも記憶装置（メモリ）を示す。・ 被検査フォトマスク１の透過光を、フォトマスク１を挟
んで光源と反対側に設けされた左モンズ２及び右レンズ
２゛で。左レンズ２及び右レンズ２°はフォトマスクｌ
上の比較すべき２つのチップの対応するパターン位置に
正確に位置決めされている。上記２つのレンズ２，２′
で受光された光信号は、イメージセンサ４，４′ に入
力され、上記光信号強度に対応する電荷量が被検査対象
パターン（図示せず）に蓄えられる。この電荷は電気信
号（アナログ信号）として順次送出され、第１の電圧ア
ナライザ５において１６段階にレベル分けされ、上記電
荷置部ち光信号強度に対応するディジタル信号に変換さ
れ、更に第２の電圧アナライザ６により白色（Ｗ ：
ｗｈｉｔｅ ） 、配色（Ｇｒｅｙ） ＋黒色（Ｂｌａ
ｃｋ ）の３段階のいずれかを示すディジタル信号に変
換され、前記被検査フォトマスクの被検査対象区域の映
像情報として出方される。
この映像情報はメモリマツプ作成部７．７″を介して左
側及び右がほのパターンに対応してメモリ１２上に順次
格納される。
側及び右がほのパターンに対応してメモリ１２上に順次
格納される。
以上の操作を制御系１１の制御に基づいてステージ（図
示せず）を移動させながら繰り返すことにより、左側及
び右側の被検査対象パターンのそれぞれに対応してメモ
リマツプ１２Ｌ、 １２Ｒが作成される。
示せず）を移動させながら繰り返すことにより、左側及
び右側の被検査対象パターンのそれぞれに対応してメモ
リマツプ１２Ｌ、 １２Ｒが作成される。
上記イメージセンサ４，４′はそれぞれ例えば５１２ビ
ツトで構成され、また２つのメモリマツプ１２Ｌ、 １
２１？は例えば５１２Ｘ ５１２ビツトで構成され、こ
れの１行または１列に上記イメージセンサ４゜４″が対
応する。従って上記一連の操作を５１２回繰り返すこと
によりそれぞれのメモリマツプが完成する。
ツトで構成され、また２つのメモリマツプ１２Ｌ、 １
２１？は例えば５１２Ｘ ５１２ビツトで構成され、こ
れの１行または１列に上記イメージセンサ４゜４″が対
応する。従って上記一連の操作を５１２回繰り返すこと
によりそれぞれのメモリマツプが完成する。
次に上記マトリックス抽出部８．８′はメモリマツプ１
２Ｌ、 １２Ｒより比較最小単位領域の映像情報をそれ
ぞれ抽出し、メモリ１３に格納する。これにより上記比
較最小単位領域のパターン像に対応する映像情報のマト
リンレス１３Ｌ、 １３Ｒが形成される。
２Ｌ、 １２Ｒより比較最小単位領域の映像情報をそれ
ぞれ抽出し、メモリ１３に格納する。これにより上記比
較最小単位領域のパターン像に対応する映像情報のマト
リンレス１３Ｌ、 １３Ｒが形成される。
このマトリックス１３Ｌ、 １３１１は１６個のセルが
４行×４列に配列さ、これの各セルは被検査フォトマス
ク１のたとえば０．５（μｍ） Ｘ Ｏ，５（＃ｎｔ）
の区域の映像情報を示す。
４行×４列に配列さ、これの各セルは被検査フォトマス
ク１のたとえば０．５（μｍ） Ｘ Ｏ，５（＃ｎｔ）
の区域の映像情報を示す。
次にベクトルマツプ作成部９及び９゛は上記マトリック
ス１３Ｌ、 １３Ｒより映像情報の変化を示すベクトル
を発生させてメモリ１４に格納し、２つのベクトルマツ
プ１４Ｌ、 １４Ｒを作成する。このベクトルは、Ｂ及
びＷが上下・左右に隣接する場合にはＢからＧに向かっ
て発生させる。またＧが存在する場合は、このＧを挟ん
でＢ、Ｇ、Ｗの順に並んでいるときはＧからＷに向かっ
てベクトルを発生させ、Ｇの上下・左右が総てＷのとき
はＧからＷに向かって、またＧの上下・左右が総てＢの
ときはＢからＧへ向かってベクトルを発生させる。
ス１３Ｌ、 １３Ｒより映像情報の変化を示すベクトル
を発生させてメモリ１４に格納し、２つのベクトルマツ
プ１４Ｌ、 １４Ｒを作成する。このベクトルは、Ｂ及
びＷが上下・左右に隣接する場合にはＢからＧに向かっ
て発生させる。またＧが存在する場合は、このＧを挟ん
でＢ、Ｇ、Ｗの順に並んでいるときはＧからＷに向かっ
てベクトルを発生させ、Ｇの上下・左右が総てＷのとき
はＧからＷに向かって、またＧの上下・左右が総てＢの
ときはＢからＧへ向かってベクトルを発生させる。
次にベクトル比較部ｌＯは、このように作成されたベク
トルマツプ１４Ｌ、 １４Ｒを読み出し、ベクトル数を
上下及び左右の各方向毎に比較し、両者間に相違が検出
されたとき被検査パターンに“不良欠陥有り°を示す信
号を送出する。
トルマツプ１４Ｌ、 １４Ｒを読み出し、ベクトル数を
上下及び左右の各方向毎に比較し、両者間に相違が検出
されたとき被検査パターンに“不良欠陥有り°を示す信
号を送出する。
次に上記従来のパターン検査方法によるパターン検査の
具体例を説明する。
具体例を説明する。
第２図に示す第１の従来例は、同図（ａ−１）にみられ
るように左側のパターン１５Ｌに微細な突起２０が存在
する例である。この場合同図（ａ−２）に示すように、
抽出されたマトリックス１３ＬはＷの領域にＢが突出し
たものとなる。これに対し同図（ｂ−１） 、（ｂ−２
）に見られる如く異當のない右側のマトリックス１３Ｒ
は、左半分が総てＢ、右半分が総てＷとなる。従って同
図（ａ−３）、（ｂ−３）に示すように左側のベクトル
マツプ１４Ｌには上述の欠陥部２０より上下両方向に向
かうベクトルが発生するのに対し、右側のベクトルマツ
プ１４Ｒには上下方向に向かうベクトルは発生しない。
るように左側のパターン１５Ｌに微細な突起２０が存在
する例である。この場合同図（ａ−２）に示すように、
抽出されたマトリックス１３ＬはＷの領域にＢが突出し
たものとなる。これに対し同図（ｂ−１） 、（ｂ−２
）に見られる如く異當のない右側のマトリックス１３Ｒ
は、左半分が総てＢ、右半分が総てＷとなる。従って同
図（ａ−３）、（ｂ−３）に示すように左側のベクトル
マツプ１４Ｌには上述の欠陥部２０より上下両方向に向
かうベクトルが発生するのに対し、右側のベクトルマツ
プ１４Ｒには上下方向に向かうベクトルは発生しない。
従って両者間には上方向及び下方向のベクトルの数に差
が有ることとなり、ベクトル比較部１０はこれを検出し
てパターンに不良があることを示す信号を送出する。
が有ることとなり、ベクトル比較部１０はこれを検出し
てパターンに不良があることを示す信号を送出する。
上記第１の従来例のようなパターン欠陥に対しては従来
方法は優れた検出力を有し、ごく細い急峻な突起のよう
な欠陥をも検出することが出来る。
方法は優れた検出力を有し、ごく細い急峻な突起のよう
な欠陥をも検出することが出来る。
その反面成る種の形状の欠陥に対しては検出力が非常に
低下する。
低下する。
第３図に示す第２の従来例は、上述のパターン欠陥を検
出し得ない例であって、同図（ａ−１）に示すように左
側の斜めのパターン１５Ｌに突起が存在し、右側のパタ
ーン１５Ｒは正常な例である。
出し得ない例であって、同図（ａ−１）に示すように左
側の斜めのパターン１５Ｌに突起が存在し、右側のパタ
ーン１５Ｒは正常な例である。
この場合には同図（ａ−２）に見られる如く左側の抽出
されたマトリックス１３Ｌは、Ｗ領域にＢが突出した構
成となるのに対して、同図（ｂ−２）に見られるように
右側のパターン１３Ｒは斜めパターンの境界部に対応す
るセルが総てＧとなる。しかしこの場合には発生された
ベクトルの数は、同図（ａ−３）及び（ｂ−３）に見ら
れる如く上下・左右それぞれの方向に向かうベクトルの
数は総て同一であるため、本従来例においては左右のパ
ターンは同一と判断されてしまう。
されたマトリックス１３Ｌは、Ｗ領域にＢが突出した構
成となるのに対して、同図（ｂ−２）に見られるように
右側のパターン１３Ｒは斜めパターンの境界部に対応す
るセルが総てＧとなる。しかしこの場合には発生された
ベクトルの数は、同図（ａ−３）及び（ｂ−３）に見ら
れる如く上下・左右それぞれの方向に向かうベクトルの
数は総て同一であるため、本従来例においては左右のパ
ターンは同一と判断されてしまう。
第４図に示す第３の従来例もパターンの異常を検出し得
ない例であって、同図（ａ−１）、（ｂ−１）に見られ
るように開口部寸法が左側と右側のパターン１５Ｌ、
１５Ｒで僅かに異なる場合である。この場合には抽出さ
れたマトリックス１３Ｌ、 １３Ｒは同図（ａ−２）及
び（ｂ−２）に見られるように、開口に対応する部分の
Ｗ領域の周囲が左側は総てＧ、右側は総てＢとなる。し
かしこれのベクトルマツプ１４Ｌ、 １４Ｒは同図（ａ
−３） 、（ｂ−３）に見られるように両者は同一とな
り、左右のパターンは同一と判断されてしまう。
ない例であって、同図（ａ−１）、（ｂ−１）に見られ
るように開口部寸法が左側と右側のパターン１５Ｌ、
１５Ｒで僅かに異なる場合である。この場合には抽出さ
れたマトリックス１３Ｌ、 １３Ｒは同図（ａ−２）及
び（ｂ−２）に見られるように、開口に対応する部分の
Ｗ領域の周囲が左側は総てＧ、右側は総てＢとなる。し
かしこれのベクトルマツプ１４Ｌ、 １４Ｒは同図（ａ
−３） 、（ｂ−３）に見られるように両者は同一とな
り、左右のパターンは同一と判断されてしまう。
本願の発明者らは種々検討の結果゛、従来のパターン検
査方法は上述のようにパターン異常を検出することが出
来ない場合があること、及びその原因がベクトルの発生
方法とその比較方法が、パターン形状とその寸法との関
連で必ずしも適切とは言い難かった点にあることを見い
出した。本発明はかかる問題点を解消するためになされ
たものであって、以下本発明を実施例により詳細に説明
する。
査方法は上述のようにパターン異常を検出することが出
来ない場合があること、及びその原因がベクトルの発生
方法とその比較方法が、パターン形状とその寸法との関
連で必ずしも適切とは言い難かった点にあることを見い
出した。本発明はかかる問題点を解消するためになされ
たものであって、以下本発明を実施例により詳細に説明
する。
まず本発明に係るパターン検査装置の一実施例を第５図
を用いて説明する。第５ｒＩ！Ｊは後述の本発明のパタ
ーン検査方法の第１〜第３の実施例に使用したパターン
検査装置の要部構成を示すブロック図プあって、同図で
前記第１図と同一部分は同一符号を付して示しである。
を用いて説明する。第５ｒＩ！Ｊは後述の本発明のパタ
ーン検査方法の第１〜第３の実施例に使用したパターン
検査装置の要部構成を示すブロック図プあって、同図で
前記第１図と同一部分は同一符号を付して示しである。
即ち同図において、１はフォトマスク、２及び２′は左
レンズ及び右レンズ、３は水銀ランプのような光源（図
示せず）から放射された照射光、４及び４′はイメージ
センサ、５及び６は第１及び第２の電圧アナライザ、７
及び７′ｉメそりマツプ作成部、８及び８゛はマトリッ
クス抽出部、９及び９′はベクトルマツプ作製部、１１
は制御系、１２．１３．１４はいずれも記憶装置（メモ
リ）で、以上は従来のパターン検査法を実施するための
パターン検査装置に具備されていたものである。本実施
例では更に、イメージシアリング部２Ｌ２１”、ベクト
ル変化検出部２２゜２２″、メモリ詔、ベクトル変化比
較部Ｕを付設し、メモリ２２にベクトル比較テーブル２
３Ｌ、２３１？を格納するように構成した。更に同図に
おいて、■は合成パターンの映像情報を構成する手段、
Ｈはベクトルマツプを生成する手段、■はベクトルを比
較する手段を示す。
レンズ及び右レンズ、３は水銀ランプのような光源（図
示せず）から放射された照射光、４及び４′はイメージ
センサ、５及び６は第１及び第２の電圧アナライザ、７
及び７′ｉメそりマツプ作成部、８及び８゛はマトリッ
クス抽出部、９及び９′はベクトルマツプ作製部、１１
は制御系、１２．１３．１４はいずれも記憶装置（メモ
リ）で、以上は従来のパターン検査法を実施するための
パターン検査装置に具備されていたものである。本実施
例では更に、イメージシアリング部２Ｌ２１”、ベクト
ル変化検出部２２゜２２″、メモリ詔、ベクトル変化比
較部Ｕを付設し、メモリ２２にベクトル比較テーブル２
３Ｌ、２３１？を格納するように構成した。更に同図に
おいて、■は合成パターンの映像情報を構成する手段、
Ｈはベクトルマツプを生成する手段、■はベクトルを比
較する手段を示す。
次に第６図により本発明品パターン検査方法の第１の実
施例を、前記パターン検査装置の動作とともに説明する
。
施例を、前記パターン検査装置の動作とともに説明する
。
木筆１の実施例は、Ｂ （Ｂ’１ａｃｋ ）優先論理に
従ってパターン異常を検出する例であって、第６図（ａ
−１）及び（ｂ−１）はそれぞれ左レンズ２．右レンズ
２°により検知された２個の被検査対象パターン３１
Ｌ、３１Ｒの一部であり、左側のパターンに微細な突起
前が存在する。これらの像はそれぞれイメージセンサ４
，４゛を介してイメージシアリング部２１，２１°に入
力され、ここだ横方向及び縦方向に所定量シフトされて
同図（ａ−２）、（ｂ−２）に見られるようなシフトパ
ターン３２Ｌ、 、３２Ｒが形成される。更にこれらは
それぞれ原パターン３１Ｌ。
従ってパターン異常を検出する例であって、第６図（ａ
−１）及び（ｂ−１）はそれぞれ左レンズ２．右レンズ
２°により検知された２個の被検査対象パターン３１
Ｌ、３１Ｒの一部であり、左側のパターンに微細な突起
前が存在する。これらの像はそれぞれイメージセンサ４
，４゛を介してイメージシアリング部２１，２１°に入
力され、ここだ横方向及び縦方向に所定量シフトされて
同図（ａ−２）、（ｂ−２）に見られるようなシフトパ
ターン３２Ｌ、 、３２Ｒが形成される。更にこれらは
それぞれ原パターン３１Ｌ。
３１Ｒと合成され、この合成パターンがイメージシアリ
ング部２１．２１°から出力され、前記従来例と同様に
電圧アナライザ５．６を介してメモリマツプ作成部７．
７°に送られる。ここで上記合成パターンに対応するデ
ィジタルデータ・マトリックスが作成され、合成パター
ンの映像情報としてメモ１月２に格納される。次６ζ′
手このメモリマツプからマトリックス抽出部８．８′は
比較最小単位領域の映像情報をそれぞれ抽出し、メモ１
月３に格納する。これにより上記合成パターンの比較最
小単位領域の像に対応する映像情報のマトリックス３３
Ｌ、 ３３１１が形成される。このマトリックス３３Ｌ
、 ３３Ｒは１６個のセルが４行×４列に配列され、こ
れの各セルは被検査フォトマスク１の例えば０．５〔μ
ｍ）Ｘｏ、５（μｍ〕の区域の映像情報を示す。
ング部２１．２１°から出力され、前記従来例と同様に
電圧アナライザ５．６を介してメモリマツプ作成部７．
７°に送られる。ここで上記合成パターンに対応するデ
ィジタルデータ・マトリックスが作成され、合成パター
ンの映像情報としてメモ１月２に格納される。次６ζ′
手このメモリマツプからマトリックス抽出部８．８′は
比較最小単位領域の映像情報をそれぞれ抽出し、メモ１
月３に格納する。これにより上記合成パターンの比較最
小単位領域の像に対応する映像情報のマトリックス３３
Ｌ、 ３３１１が形成される。このマトリックス３３Ｌ
、 ３３Ｒは１６個のセルが４行×４列に配列され、こ
れの各セルは被検査フォトマスク１の例えば０．５〔μ
ｍ）Ｘｏ、５（μｍ〕の区域の映像情報を示す。
上記シフト量は検出しようとするパターン異常の大きさ
及び種類により選択することを要するが、本実施例は縦
方向（Ｙ方向）、横方向（Ｘ方向）ともメモリ１２の２
セル分だけシフトさせた例″である。
及び種類により選択することを要するが、本実施例は縦
方向（Ｙ方向）、横方向（Ｘ方向）ともメモリ１２の２
セル分だけシフトさせた例″である。
また上記合成バクーン像に対応する映像情報を作成する
に際し、本実施例ではＢ優先論理を用いた。即ちパター
ン合成に際し重ね合わせる２つのセルの色が同一の場合
にはその色を合成パターンの色とし、両者が異なる場合
にはＢ側を優先させる。即ち、 Ｂ＋Ｇ−＋Ｂ Ｂ＋Ｗ−’Ｂ Ｇ＋Ｗ−”Ｇとする。更
にこの合成の結果Ｗのセルが上または下、及び左または
右側がともにＢのセルである場合には、これを強制的に
Ｂに変更するという操作を行う。同図（ａ−３）におい
てＢに○印が付されたセルがこれに当たる。
に際し、本実施例ではＢ優先論理を用いた。即ちパター
ン合成に際し重ね合わせる２つのセルの色が同一の場合
にはその色を合成パターンの色とし、両者が異なる場合
にはＢ側を優先させる。即ち、 Ｂ＋Ｇ−＋Ｂ Ｂ＋Ｗ−’Ｂ Ｇ＋Ｗ−”Ｇとする。更
にこの合成の結果Ｗのセルが上または下、及び左または
右側がともにＢのセルである場合には、これを強制的に
Ｂに変更するという操作を行う。同図（ａ−３）におい
てＢに○印が付されたセルがこれに当たる。
次いでベクトルマツプ作成部９，９゛は上記比較最小単
位領域に対する映像情報３３Ｌ、 ３３Ｒからベクトル
を発生させる。本実施例においてはこのベクトルを上下
、左右に隣接せる２個のセル間のみでなく、斜めに隣接
せるセル間においても発生させるようにしたこと、及び
更にＢ−０間： Ｃ−Ｗ間にも必ずベクトルを発生させ
るようにした点が従来のパターン検査方法と異なる。
位領域に対する映像情報３３Ｌ、 ３３Ｒからベクトル
を発生させる。本実施例においてはこのベクトルを上下
、左右に隣接せる２個のセル間のみでなく、斜めに隣接
せるセル間においても発生させるようにしたこと、及び
更にＢ−０間： Ｃ−Ｗ間にも必ずベクトルを発生させ
るようにした点が従来のパターン検査方法と異なる。
同図（ａ−４）は上述のようにして生成したベクトルマ
ツプ１４Ｌである。また右レンズ２゛より入力されたパ
ターンについても同図（ｂ−１）〜（ｂ−４）に示すよ
うに、同様の操作で映像情報のマトリックス３３Ｒが抽
出され、ベクトルマツプ１４Ｒが作成される。
ツプ１４Ｌである。また右レンズ２゛より入力されたパ
ターンについても同図（ｂ−１）〜（ｂ−４）に示すよ
うに、同様の操作で映像情報のマトリックス３３Ｒが抽
出され、ベクトルマツプ１４Ｒが作成される。
次に上記２つのベクトルマツプ１４Ｌ、 １４１のそれ
ぞれについて、ベクトル変化検出部２２．２２”は隣接
せる２つの行のベクトルの数を、縦、横、斜めの各方向
毎に比較し、その各々について差の有無を調べる。
ぞれについて、ベクトル変化検出部２２．２２”は隣接
せる２つの行のベクトルの数を、縦、横、斜めの各方向
毎に比較し、その各々について差の有無を調べる。
同図（ｂ−４）においては、縦方向のベクトルは１本も
なく、横方向のベクトルは総ての行について同一であり
、行間のベクトルの変化はない。これに対しくａ−４）
では縦方向については第２行−第３行間及び第３行−第
４行間で変化が有り、ベクトル変化の数は２個となる。
なく、横方向のベクトルは総ての行について同一であり
、行間のベクトルの変化はない。これに対しくａ−４）
では縦方向については第２行−第３行間及び第３行−第
４行間で変化が有り、ベクトル変化の数は２個となる。
また横方向については第３行−第４行間で変化が有り、
ベクトル変化の数は１個である。このベクトル変化の状
況はメモリ２３にベクトル比較テーブル２３Ｌ、 ２３
Ｒとして格納される。
ベクトル変化の数は１個である。このベクトル変化の状
況はメモリ２３にベクトル比較テーブル２３Ｌ、 ２３
Ｒとして格納される。
次いでベクトル変化比較部２４はベクトル比較テーブル
２３Ｌ、 ２３Ｒを比較し、各方向毎のベクトル変化数
を調べ、何れか一つの方向にでも差が認められれば、差
が有ることを示す信号を送出する。本実施例では縦方向
及び横方向の双方にベクトル変化数に差が有ることとな
り、従ってベクトル変化数比較部又は両者間に差が有る
ことを示す信号を出力する。
２３Ｌ、 ２３Ｒを比較し、各方向毎のベクトル変化数
を調べ、何れか一つの方向にでも差が認められれば、差
が有ることを示す信号を送出する。本実施例では縦方向
及び横方向の双方にベクトル変化数に差が有ることとな
り、従ってベクトル変化数比較部又は両者間に差が有る
ことを示す信号を出力する。
以上のようにして本実施例では微細な突起を検出したが
、上述の一連の過程において、パターンをシフトさせ、
これと原パターンとの合成パターンを作成したのは、微
細な欠陥を拡大して検出を容易にしたものである。また
合成パターンの映像情報を作成する際に、上または下、
及び左または右側がＢの領域であるＷのセルを強制的に
Ｂ領域としたのも、微細パターンの拡大を目的としてい
る。
、上述の一連の過程において、パターンをシフトさせ、
これと原パターンとの合成パターンを作成したのは、微
細な欠陥を拡大して検出を容易にしたものである。また
合成パターンの映像情報を作成する際に、上または下、
及び左または右側がＢの領域であるＷのセルを強制的に
Ｂ領域としたのも、微細パターンの拡大を目的としてい
る。
また本実施例ではベクトルを斜め方向にも発生させてい
るが、これはパターンの変化即ち映像情報の変化を的確
に検出するためである。
るが、これはパターンの変化即ち映像情報の変化を的確
に検出するためである。
なお上記説明においては説明の便宜上、ベクトル変化数
を縦方向及び横方向の双方について比較した例を示した
が、この双方或いは総ての方向について比較することを
要するという意味ではなく、いずれか一つの方向につい
て差が検出されたとき、その段階でパターンに異常有り
と判断して良く、以後の比較は省略して良い。
を縦方向及び横方向の双方について比較した例を示した
が、この双方或いは総ての方向について比較することを
要するという意味ではなく、いずれか一つの方向につい
て差が検出されたとき、その段階でパターンに異常有り
と判断して良く、以後の比較は省略して良い。
また本実施例においては上記ベクトル変化の有無を調べ
る際の判断レベルを可変しても良い。例えば各方向毎の
ベクトルの数の差が１個の場合には変化有りとは認めず
、２個以上異なる場合に始めて変化有りとしても良い。
る際の判断レベルを可変しても良い。例えば各方向毎の
ベクトルの数の差が１個の場合には変化有りとは認めず
、２個以上異なる場合に始めて変化有りとしても良い。
このようにすると以上の検出感度を調整することが可能
であって、問題とする必要のないごく微細な擬似欠陥を
検出してしまうことを防止出来る。
であって、問題とする必要のないごく微細な擬似欠陥を
検出してしまうことを防止出来る。
第７図は本発明のパターン検査方法の第２の実施例を示
す図で、本実施例は斜めに走るパターン上の微細欠陥加
を検出する例である。本実施例においてもＢ優先論理を
用い、且つ各方向毎のベクトルの数を比較することによ
り異常を検出した例である。
す図で、本実施例は斜めに走るパターン上の微細欠陥加
を検出する例である。本実施例においてもＢ優先論理を
用い、且つ各方向毎のベクトルの数を比較することによ
り異常を検出した例である。
第７図（ａ −１） 、（ｂ−１）は原パターン、同図
（ａ−２）、（ｂ−２）はシフトパターンを示し、また
同図（ａ−３）、（ｂ−３）は合成パターンのディジタ
ルデータ・マトリックスである映像情報を示す。なお同
図（ａ−３）におけるＢに０印を付したセルが、Ｂ優先
論理に従って強制的にＢと見なしたセルである。
（ａ−２）、（ｂ−２）はシフトパターンを示し、また
同図（ａ−３）、（ｂ−３）は合成パターンのディジタ
ルデータ・マトリックスである映像情報を示す。なお同
図（ａ−３）におけるＢに０印を付したセルが、Ｂ優先
論理に従って強制的にＢと見なしたセルである。
同図（ａ −４） 、（ｂ−４）は上記映像情報より抽
出されたペクトマツプ１４Ｌ、 １４Ｒである。
出されたペクトマツプ１４Ｌ、 １４Ｒである。
ここまでは前記第１の実施例と変わるところはない。こ
のあと本実施例では２つのベクトルマツプ１４Ｌ、 １
４Ｒにおける各方向毎のベクトルの数を比較することに
より、両者の差を検出することが出来る。図に見られる
ように、本実施例では右上から左下に向かうベクトル及
び左下から右上に向かうベクトルは、左側のベクトルマ
ツプには存在するが右側には認められない。従って本例
はベクトルの数を各方向毎に比較することによって、直
ちに両者に差があることを検出出来る。
のあと本実施例では２つのベクトルマツプ１４Ｌ、 １
４Ｒにおける各方向毎のベクトルの数を比較することに
より、両者の差を検出することが出来る。図に見られる
ように、本実施例では右上から左下に向かうベクトル及
び左下から右上に向かうベクトルは、左側のベクトルマ
ツプには存在するが右側には認められない。従って本例
はベクトルの数を各方向毎に比較することによって、直
ちに両者に差があることを検出出来る。
なお上記ベクトル比較は、第５図に示したパターン検査
装置のベクトル比較テーブル２３Ｌ、２３Ｒとして上記
２つのベクトルマツプ１４Ｌ、 １４１１の各方向毎の
ベクトル数を記録し、これをベクトル変化比較部２４に
より比較を行う。
装置のベクトル比較テーブル２３Ｌ、２３Ｒとして上記
２つのベクトルマツプ１４Ｌ、 １４１１の各方向毎の
ベクトル数を記録し、これをベクトル変化比較部２４に
より比較を行う。
第８図は本発明のパターン検査方法の第３の実施例を示
す図で、パターンに設けられた開口の大きさが僅かに異
なる異常を検出する例で、シフト量を縦、横とも２セル
とし、ｗｌ先論理を用いてパターンの合成を行なった。
す図で、パターンに設けられた開口の大きさが僅かに異
なる異常を検出する例で、シフト量を縦、横とも２セル
とし、ｗｌ先論理を用いてパターンの合成を行なった。
同図（ａ −１） 、（ｂ−１）は原パターン３１［、
、３１Ｒ。
、３１Ｒ。
（ａ−２）、（ｂ−２）はシフトパターン３２Ｌ、 ３
２Ｒを示す。同図（ａ −３） 、（ｂ−３）はＷ優先
論理に従って形成した合成パターンのディジタルデータ
・マトリックスのうちの比較最小単位領域の映像情報３
３Ｌ、 ３３Ｒを示す。この図中Ｗに０印を付したセル
はＷ優先論理に従って強制的にＷと見なしたセルである
。更に同図（ａ −４） 、（ｂ−４）は上記映像情報
より抽出されたペクトマツプ１４Ｌ、 １４Ｒである。
２Ｒを示す。同図（ａ −３） 、（ｂ−３）はＷ優先
論理に従って形成した合成パターンのディジタルデータ
・マトリックスのうちの比較最小単位領域の映像情報３
３Ｌ、 ３３Ｒを示す。この図中Ｗに０印を付したセル
はＷ優先論理に従って強制的にＷと見なしたセルである
。更に同図（ａ −４） 、（ｂ−４）は上記映像情報
より抽出されたペクトマツプ１４Ｌ、 １４Ｒである。
このあと本実施例では２つのベクトルマツプ１４Ｌ、
１４Ｒにおける左右方向のベクトル変化を比較すること
よって両者の差を検出出来る。即ち、左側の図（ａ−４
）では左右方向のベクトル数は各行とも１本ずつで、行
間にベクトル変化は存在しない。
１４Ｒにおける左右方向のベクトル変化を比較すること
よって両者の差を検出出来る。即ち、左側の図（ａ−４
）では左右方向のベクトル数は各行とも１本ずつで、行
間にベクトル変化は存在しない。
これに対し右側の図（ｂ−４）では、左右方向のベクト
ルは第１行、第３行には無く、第２行、第４行には存在
する。従って行間ベクトル変化は各行間で発生すること
となり、行間ベクトル変化の数は３個である。
ルは第１行、第３行には無く、第２行、第４行には存在
する。従って行間ベクトル変化は各行間で発生すること
となり、行間ベクトル変化の数は３個である。
このように本実施例では、左右方向のベクトルについて
行間ベクトル変化数を比較した段階で両者に差があやこ
とが検出される。
行間ベクトル変化数を比較した段階で両者に差があやこ
とが検出される。
上記第１〜第３の実施例は前述の第１〜第３の従来例に
対応するものである。このうち従来のパターン検査方法
では欠陥を検出し得なかった第２及び第３の例も、本発
明を用いることにより上述したように的確に検出できる
。
対応するものである。このうち従来のパターン検査方法
では欠陥を検出し得なかった第２及び第３の例も、本発
明を用いることにより上述したように的確に検出できる
。
なお本発明に係るパターン検査方法及びパターン検査装
置は、前記第１〜第３の実施例及び第５−による説明に
限定されるものではなく、更に種々変形して実施し得る
。
置は、前記第１〜第３の実施例及び第５−による説明に
限定されるものではなく、更に種々変形して実施し得る
。
例えば第５図に示すパターン検査装置の一実施例におい
ては、イメージシアリング部２Ｌ２１’を新たに設け、
これを用いてシフトパターンを作成し、これと環パター
ンとを合成して合成パターンを作成し、この合成パター
ンを示すアナログ信号をディジタル化することによって
合成パターンの映像情報を作成するよう構成した。
ては、イメージシアリング部２Ｌ２１’を新たに設け、
これを用いてシフトパターンを作成し、これと環パター
ンとを合成して合成パターンを作成し、この合成パター
ンを示すアナログ信号をディジタル化することによって
合成パターンの映像情報を作成するよう構成した。
しかし合成パターンの映像情報を構成する手段Ｉの構成
はこれに限定されるものではなく、例えば次のように変
形して実施することが出来る。即ち、原パターンに対応
するディジタルデータ・マトリックスをメモリ上に作成
し、次いでこれをメモリ上でシフトさせてシフトパター
ンのディジタルデータ・マトリックスを作成し、上記２
つのディジタルデータ・マトリックスをメモリ上で合成
することによって、合成パターンの映像情報を作成する
よう構成しても良い。かかる構成は原パターン、シフト
パターン、及び合成パターンそれぞれのディジタルデー
タを格納するメモリと、これらメモリ上のデータを操作
するプログラムによって実現し得る。また上記メモリ上
のデータの操作はプログラムによりソフト的に行う構成
に変えて、電子回路を設け、これを介してハード上で実
行させる構成とすることも可能である。
はこれに限定されるものではなく、例えば次のように変
形して実施することが出来る。即ち、原パターンに対応
するディジタルデータ・マトリックスをメモリ上に作成
し、次いでこれをメモリ上でシフトさせてシフトパター
ンのディジタルデータ・マトリックスを作成し、上記２
つのディジタルデータ・マトリックスをメモリ上で合成
することによって、合成パターンの映像情報を作成する
よう構成しても良い。かかる構成は原パターン、シフト
パターン、及び合成パターンそれぞれのディジタルデー
タを格納するメモリと、これらメモリ上のデータを操作
するプログラムによって実現し得る。また上記メモリ上
のデータの操作はプログラムによりソフト的に行う構成
に変えて、電子回路を設け、これを介してハード上で実
行させる構成とすることも可能である。
更に前記第５図においては説明の便宜上、ベクトルマツ
プを生成する手段■、及びベクトルを比較する手段■を
各１１８のみ設けた例を掲げて説明した。しかし本発明
はこれに変えて上記ベクトルを比較する手段■を複数個
並列に設け、それぞれにより各方向毎のベクトル数或い
はベクトル変化数を示すベクトル比較テーブルの作成、
並びにベクトル変化の比較を並列に実行させるような構
成としても良い。ベクトルを比較する手段■を１系列の
み設けた構成では、各種ベクトル比較テーブルの作成及
び比較を順次シリーズに行わねばならないので、実行時
間が長くなるのに対し、上記並列構成では各種のベクト
ル比較テーブルの作成及び比較を並行して実施すること
が出来ること、そしてこれらのうちから何れか一つに差
が検出されたならば他のベクトル比較手段■の動作を停
止して良く、従って差の検出時間が大幅に短縮できると
いう利点がある。
プを生成する手段■、及びベクトルを比較する手段■を
各１１８のみ設けた例を掲げて説明した。しかし本発明
はこれに変えて上記ベクトルを比較する手段■を複数個
並列に設け、それぞれにより各方向毎のベクトル数或い
はベクトル変化数を示すベクトル比較テーブルの作成、
並びにベクトル変化の比較を並列に実行させるような構
成としても良い。ベクトルを比較する手段■を１系列の
み設けた構成では、各種ベクトル比較テーブルの作成及
び比較を順次シリーズに行わねばならないので、実行時
間が長くなるのに対し、上記並列構成では各種のベクト
ル比較テーブルの作成及び比較を並行して実施すること
が出来ること、そしてこれらのうちから何れか一つに差
が検出されたならば他のベクトル比較手段■の動作を停
止して良く、従って差の検出時間が大幅に短縮できると
いう利点がある。
また上記ベクトル変化比較手段■は専用の電子回路から
なるハード構成としても良く、またプログラムによるソ
フト構成としても良い。
なるハード構成としても良く、またプログラムによるソ
フト構成としても良い。
また本発明は更に次のように変形することも可能である
。
。
パターンを示すアナログ信号をＷ、Ｇ、Ｂからなるディ
ジタルデータに変換する際のスライスレベルは適宜選択
しても良く、更にシフト量もパターン形状、検出すべき
欠陥の大きさ等を考慮して選択して良い。
ジタルデータに変換する際のスライスレベルは適宜選択
しても良く、更にシフト量もパターン形状、検出すべき
欠陥の大きさ等を考慮して選択して良い。
また２つのベクトルマツプ上におけるベクトル数を各方
向毎に比較する際に、両者間に差が１個でも検出されれ
ば差有りとしても、或いは差が２個またはそれ以上のと
き始めて差有りと見なすようにしても良く、これにより
検出感度を任意に選ぶことが出来る。このように検出感
度を選択することによって、擬似欠陥を検出して不良と
見なす必要の無いものを不良としてしまうことを防止出
来る。
向毎に比較する際に、両者間に差が１個でも検出されれ
ば差有りとしても、或いは差が２個またはそれ以上のと
き始めて差有りと見なすようにしても良く、これにより
検出感度を任意に選ぶことが出来る。このように検出感
度を選択することによって、擬似欠陥を検出して不良と
見なす必要の無いものを不良としてしまうことを防止出
来る。
（ｆ） 発明の詳細
な説明した如く本発明により、パターンの異常を的確且
つ高速で検出し得るディジタル方式のパターン検査方法
及びその装置が提供された。
つ高速で検出し得るディジタル方式のパターン検査方法
及びその装置が提供された。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のディジタル方式のパターン検査装置の要
部構成を示すブロック図、第２図〜第４図は従来のパタ
ーン検査方法を示す図、第５図は本発明に係るパターン
検査装置の一実施例の要部構成を示すブロック図、第６
図〜第８図は本発明に係るパターン検査方法の第１〜第
３の実施例を示す図である。 図において、ｌはフォトマスク、２及び２″は左レンズ
及び右レンズ、３は水銀ランプのような光源（図示せず
）から放射された照射光、４及び４゛はイメージセンサ
、５及び６は第１及び第２の電圧アナライザ、７及び７
゛ はメモリマ・ノブ作成部、８及び８°はマトリック
ス抽出部、９及び９′はベクトルマツプ作成部、１０は
ベクトル比較部、１１は制御系、１２．１３．１４はい
ずれも記憶装置（メモリ） 、２１．２１’はイメージ
シアリング部、２２゜２２°はベクトル変化検出部、２
３はメモリ、２３Ｌ、２３Ｒはベクトル比較テーブル、
３ＬＬ、３１Ｒは原パターン、３２Ｌ、 ３２Ｒはシフ
トパターン、３３Ｌ、３３Ｒは比較最小単位の映像情報
、■は合成パターンの映像情報を構成する手段、■はベ
クトルマツプを生成する手段、■はベクトルを比較する
手段を示す。 （ａ−１） （Ｑ −２） （Ｑ−３） ２図 （ｂ−１） （ｂ−２） （ｂ−３） （Ｑ−１） （Ｑ−２） （Ｑ −３） ３図 （ｂ−１） （ｂ−２） （ｂ −３） （（１−１） （Ｑ−２） （α−３） −図 （ｂ−１） （ｂ−２） （ｂ−３ン
部構成を示すブロック図、第２図〜第４図は従来のパタ
ーン検査方法を示す図、第５図は本発明に係るパターン
検査装置の一実施例の要部構成を示すブロック図、第６
図〜第８図は本発明に係るパターン検査方法の第１〜第
３の実施例を示す図である。 図において、ｌはフォトマスク、２及び２″は左レンズ
及び右レンズ、３は水銀ランプのような光源（図示せず
）から放射された照射光、４及び４゛はイメージセンサ
、５及び６は第１及び第２の電圧アナライザ、７及び７
゛ はメモリマ・ノブ作成部、８及び８°はマトリック
ス抽出部、９及び９′はベクトルマツプ作成部、１０は
ベクトル比較部、１１は制御系、１２．１３．１４はい
ずれも記憶装置（メモリ） 、２１．２１’はイメージ
シアリング部、２２゜２２°はベクトル変化検出部、２
３はメモリ、２３Ｌ、２３Ｒはベクトル比較テーブル、
３ＬＬ、３１Ｒは原パターン、３２Ｌ、 ３２Ｒはシフ
トパターン、３３Ｌ、３３Ｒは比較最小単位の映像情報
、■は合成パターンの映像情報を構成する手段、■はベ
クトルマツプを生成する手段、■はベクトルを比較する
手段を示す。 （ａ−１） （Ｑ −２） （Ｑ−３） ２図 （ｂ−１） （ｂ−２） （ｂ−３） （Ｑ−１） （Ｑ−２） （Ｑ −３） ３図 （ｂ−１） （ｂ−２） （ｂ −３） （（１−１） （Ｑ−２） （α−３） −図 （ｂ−１） （ｂ−２） （ｂ−３ン
Claims (6)
- （１）試料表面に繰り返し形成されたパターンのうちか
ら２個の被検査対象パターンのそれぞれについて、原パ
ターンと該原パターンを所定方向に所定量シフトしたパ
ターンとの合成パターン像に対応せるディジタルデータ
・マトリックスからなる映像情報をめ、次いで該２つの
映像情報を構成する前記ディジタルデータ・マトリック
スのそれぞれについて、縦、横、及び斜め方向に隣接せ
る各要素間の変化を示すベクトルを生成し、該ベクトル
を用いて前記２個の被検査対象パターンの異常を検出す
ることを特徴とするパターン検査方法。 - （２）前記２個の映像情報を構成するディジタルデータ
・マトリックスのベクトル数を、縦、横、及び斜め方向
のそれぞれについて比較し、そのいずれかに差が検出さ
れたとき、前記２個の被検査対象パターンのいずれかに
異常があると判断することを特徴とする特許 パターン検査方法。 - （３）前記２個の映像情報を構成するディジタルデータ
・マトリックスのそれぞれにおいて、隣接せる２つの行
についてベクトル数を、縦，横，及び斜めの各方向毎に
比較し、両者が異なるとき当該２つの行間でベクトルの
変化が′有り′と判定し、次いで前記２個の映像情報の
それぞれに対する前記行間のベクトル変化“有り゛の数
を前記各方向毎に比較することを特徴とする前記特許請
求の範囲第１項記載のパターン検査方法。 - （４）試料表面に繰り返し形成されたパターンのうちか
ら選択された２個の被検査対象パターンの、原パターン
と該原パターンを所定方向に所定量シフトさせたパター
ンとの合成パターン像に対応せる映像情報をディジタル
データ・マトリックスとして構成する手段と、該２個の
映像情報のそれぞれにおける縦，横，及び斜め方向に隣
接せる各要素間の変化を示すベクトルを生成する手段と
、前記２個の映像情報の前記ベクトルを比較する手段と
を具備せることを特徴とするパターン検査装置。 - （５）前記ベクトルの比較手段が、前記ベクトルの数を
縦、横、及び斜めの各方向のそれぞれについて比較する
手段であることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載
のパターン検査装置。 - （６）前記比較手段が、前記２個の映像情報を構成する
ディジタルデータ・マトリックスのそれぞれの隣接せる
２つの行についてベクトル数を縦，横。 及び斜めの各方向毎に比較し、当該２つの行間における
ベクトルの変化の有無を検出する手段と、前記２個の映
像情報のそれぞれにおける前記行間のベクトル変化の数
を前記各方向毎に比較する手段とからなることを特徴と
する前記特許請求の範囲第４項記載のパターン検査装置
。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58171811A JPS6063405A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | パタ−ン検査方法及びその装置 |
| DE8484401826T DE3478651D1 (en) | 1983-09-16 | 1984-09-14 | Inspecting method and apparatus for photomask pattern |
| EP84401826A EP0138665B1 (en) | 1983-09-16 | 1984-09-14 | Inspecting method and apparatus for photomask pattern |
| KR1019840005630A KR910001247B1 (ko) | 1983-09-16 | 1984-09-15 | 포토마스크 패턴(photomask pattern)의 검사방법과 장치 |
| US06/651,086 US4669123A (en) | 1983-09-16 | 1984-09-17 | Inspecting method and apparatus for photomask pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58171811A JPS6063405A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | パタ−ン検査方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6063405A true JPS6063405A (ja) | 1985-04-11 |
| JPH0245124B2 JPH0245124B2 (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=15930161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58171811A Granted JPS6063405A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | パタ−ン検査方法及びその装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4669123A (ja) |
| EP (1) | EP0138665B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6063405A (ja) |
| KR (1) | KR910001247B1 (ja) |
| DE (1) | DE3478651D1 (ja) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3587846T2 (de) * | 1984-12-26 | 1994-10-06 | Hitachi Ltd | Verfahren und Gerät zum Prüfen der Geometrie von Mehrschichtmustern für integrierte Schaltungsstrukturen. |
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