JPS60635Y2 - 粉末原料の流動層式焼成炉 - Google Patents
粉末原料の流動層式焼成炉Info
- Publication number
- JPS60635Y2 JPS60635Y2 JP16889180U JP16889180U JPS60635Y2 JP S60635 Y2 JPS60635 Y2 JP S60635Y2 JP 16889180 U JP16889180 U JP 16889180U JP 16889180 U JP16889180 U JP 16889180U JP S60635 Y2 JPS60635 Y2 JP S60635Y2
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- Japan
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- fluidized bed
- powder raw
- bed forming
- forming section
- raw materials
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Landscapes
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、粉末原料の流動層式焼成炉に関するもので、
詳しくは、セメントやアルミナなどの粉末原料を、ロー
タリキルンによらないで、流動層を用いて焼成する焼成
炉に関するものである。
詳しくは、セメントやアルミナなどの粉末原料を、ロー
タリキルンによらないで、流動層を用いて焼成する焼成
炉に関するものである。
セメント原料の焼成炉としては、古くからロータリキル
ンが使用されているが、ロータリキルンは比較的径が犬
きいうえ、長さの長い重量物の回転体であるため、これ
を流動焼成炉に置換することができれば、数多くの利点
があることが知られている。
ンが使用されているが、ロータリキルンは比較的径が犬
きいうえ、長さの長い重量物の回転体であるため、これ
を流動焼成炉に置換することができれば、数多くの利点
があることが知られている。
しかし、一般に流動層は空気と燃料の混合が不完全で、
空気比は少なくとも１．３を必要とし、クリンカの焼成
可能な高温度に昇温させてその高温度を維持することが
困難である。
空気比は少なくとも１．３を必要とし、クリンカの焼成
可能な高温度に昇温させてその高温度を維持することが
困難である。
本考案は、流動層における空気と燃料の混合をよくする
ため、流動層下部を希薄流動層として酸素の利用率を高
め、流動層の昇温を容易にするとともに、この希薄流動
層形成部に焼成バーナを設置してそこに高温焼成域を形
威し、クリンカの形成を助長するようにし、また焼成す
べき原料をその希薄流動層に供給してフリーボードに飛
び出すことを抑えるようしたもので、その一実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。
ため、流動層下部を希薄流動層として酸素の利用率を高
め、流動層の昇温を容易にするとともに、この希薄流動
層形成部に焼成バーナを設置してそこに高温焼成域を形
威し、クリンカの形成を助長するようにし、また焼成す
べき原料をその希薄流動層に供給してフリーボードに飛
び出すことを抑えるようしたもので、その一実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。
図面において、１は流動層式焼成炉で、下から下へ順に
、希薄流動層形成部２と、濃流動層形成部３と、フリー
ボード部４とを有している。
、希薄流動層形成部２と、濃流動層形成部３と、フリー
ボード部４とを有している。
すなわち、下から上へ順に、第１逆円錐部５と第１円筒
部６で希薄流動層形成部２を、第２逆円錐部７と第２円
筒部８で濃流動層形成部３を、第３逆円錐部９と第３円
筒部１０でフリーボード部４を構成しており、かつ、前
記各部の横断面積の大きさく直径の大きさ）は、希薄流
動層形成部２が最小で、濃流動層形成部３が中間で、フ
リーボード部４が最大である。
部６で希薄流動層形成部２を、第２逆円錐部７と第２円
筒部８で濃流動層形成部３を、第３逆円錐部９と第３円
筒部１０でフリーボード部４を構成しており、かつ、前
記各部の横断面積の大きさく直径の大きさ）は、希薄流
動層形成部２が最小で、濃流動層形成部３が中間で、フ
リーボード部４が最大である。
また希薄流動層形成部２には、焼成バーナ１１と粉末原
料供給口１２とが設けられ、この供給口１２に接続され
た原料シュート１３の途中に圧縮空気管１４が該供給口
１２のほうに向けて接続されている。
料供給口１２とが設けられ、この供給口１２に接続され
た原料シュート１３の途中に圧縮空気管１４が該供給口
１２のほうに向けて接続されている。
その他、１５は炉頂壁、１６は排ガス出口、１７は前記
希薄流動層形成部２に接続された燃焼用空気ダクトであ
る。
希薄流動層形成部２に接続された燃焼用空気ダクトであ
る。
このように構成された噴流層の流動層式焼成炉１におい
ては、予熱されたセメント原料または予熱後に仮焼され
たセメント原料などの粉末原料は、原料シュート１３か
ら原料供給口１２を経て希薄流動層形成部２内に導入さ
れる。
ては、予熱されたセメント原料または予熱後に仮焼され
たセメント原料などの粉末原料は、原料シュート１３か
ら原料供給口１２を経て希薄流動層形成部２内に導入さ
れる。
このとき、原料シュート１３の途中には圧縮空気管１４
を設けであるので、粉末原料は圧縮空気により希薄流動
層形成部２に装入される。
を設けであるので、粉末原料は圧縮空気により希薄流動
層形成部２に装入される。
この希薄流動層形成部２では、横断面積が比較的小さい
ため、流動層の上昇風速が犬であって、粒子の存在が希
薄であり、したがって、酸素の利用率が高められ、昇温
が容易である。
ため、流動層の上昇風速が犬であって、粒子の存在が希
薄であり、したがって、酸素の利用率が高められ、昇温
が容易である。
この希薄流動層形成部２での原料は濃流動層形成部７に
移動して焼成されてクリンカとなり、やがて生長して大
きくなると、自重により下降腰回び希薄流動層形成部２
で完全に焼成され、矢印１８で示すようにクリンカクー
ラに送られる。
移動して焼成されてクリンカとなり、やがて生長して大
きくなると、自重により下降腰回び希薄流動層形成部２
で完全に焼成され、矢印１８で示すようにクリンカクー
ラに送られる。
なお排ガスは排ガス出口１６から仮焼炉などに送られる
が、この出口１６は炉頂壁１５の中央でなく、端のほう
に偏心させて設けであるので、フリーボード部４に飛散
した被焼成物を同伴して排出される割合いが少なくなる
。
が、この出口１６は炉頂壁１５の中央でなく、端のほう
に偏心させて設けであるので、フリーボード部４に飛散
した被焼成物を同伴して排出される割合いが少なくなる
。
また上記実施例では粉末原料供給口１２を希薄流動層形
成部２のみに設けたものを示したが、濃流動層形成部３
にも同様な供給口を設けて粉末原料を前記両部２と３に
供給するようにしてもよい。
成部２のみに設けたものを示したが、濃流動層形成部３
にも同様な供給口を設けて粉末原料を前記両部２と３に
供給するようにしてもよい。
上述のように、本考案は、下から上へ順に、希薄流動層
形成部と、濃流動層形成部と、フリーボード部とを有し
、かつ、流動層最下部である希薄流動層形成部に焼成バ
ーナを備えているので、燃焼に際しての酸素の利用率を
高め、流動層の昇温を容易にするとともに、希薄流動層
形成部が高温燃焼域となってクリンカの形成が助長され
、また希薄流動層形成部に粉末原料供給口を備えている
ので、その供給口から流動層内に投入された粉末原料は
直ちにフリーボード部に到達することなく、フリーボー
ド部に飛び出すことがかなり抑制される。
形成部と、濃流動層形成部と、フリーボード部とを有し
、かつ、流動層最下部である希薄流動層形成部に焼成バ
ーナを備えているので、燃焼に際しての酸素の利用率を
高め、流動層の昇温を容易にするとともに、希薄流動層
形成部が高温燃焼域となってクリンカの形成が助長され
、また希薄流動層形成部に粉末原料供給口を備えている
ので、その供給口から流動層内に投入された粉末原料は
直ちにフリーボード部に到達することなく、フリーボー
ド部に飛び出すことがかなり抑制される。
図は本考案の一実施例を示した断面立面図である。
１・・・・・・流動層式焼成炉 ２・・・・・・希薄流
動層形成部、３・・・・・・濃流動層形成部、４・・・
・・・フリーボード部、１１・・・・・・焼成バーナ、
１２・・・・・・粉末原料供給口。
動層形成部、３・・・・・・濃流動層形成部、４・・・
・・・フリーボード部、１１・・・・・・焼成バーナ、
１２・・・・・・粉末原料供給口。
Claims (1)
- 下から上へ順に、希薄流動層形成部と、濃流動層形成部
と、フリーボード部とを有し、かつ、前記各部の横断面
積の大きさの関係は、希薄流動層形成部が最小で、濃流
動層形成部が中間で、フリーボード部が最大であり、し
かも、前記希薄流動層形成部には、焼成バーナと粉末原
料供給口とを備えていることを特徴とする、粉末原料の
流動層式焼成炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16889180U JPS60635Y2 (ja) | 1980-11-27 | 1980-11-27 | 粉末原料の流動層式焼成炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16889180U JPS60635Y2 (ja) | 1980-11-27 | 1980-11-27 | 粉末原料の流動層式焼成炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5791093U JPS5791093U (ja) | 1982-06-04 |
| JPS60635Y2 true JPS60635Y2 (ja) | 1985-01-09 |
Family
ID=29527439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16889180U Expired JPS60635Y2 (ja) | 1980-11-27 | 1980-11-27 | 粉末原料の流動層式焼成炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60635Y2 (ja) |
-
1980
- 1980-11-27 JP JP16889180U patent/JPS60635Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5791093U (ja) | 1982-06-04 |
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