JPS6065708A - 金属酸化物被膜の形成方法 - Google Patents
金属酸化物被膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS6065708A JPS6065708A JP17222483A JP17222483A JPS6065708A JP S6065708 A JPS6065708 A JP S6065708A JP 17222483 A JP17222483 A JP 17222483A JP 17222483 A JP17222483 A JP 17222483A JP S6065708 A JPS6065708 A JP S6065708A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal oxide
- substrate
- ozone
- formation
- organometallic compound
- Prior art date
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- Granted
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- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明の金属酸化物被膜の形成方法の改良に関し、特に
、金属酸化物からなる光学的薄膜の形成に適する。
、金属酸化物からなる光学的薄膜の形成に適する。
たとえば、光干渉膜を構成する酸化チタン薄膜などの金
属酸化物膜を得る方法として、従来から真空蒸着法、ス
パッタ法、化学的気相析出法などが行なわれてきた。し
かし、このような方法は装置が複雑で作業性が劣る欠点
があった。
属酸化物膜を得る方法として、従来から真空蒸着法、ス
パッタ法、化学的気相析出法などが行なわれてきた。し
かし、このような方法は装置が複雑で作業性が劣る欠点
があった。
近年、このような欠点を解消する手段として有機金属化
合物溶液を塗布して酸化する方法が開発された。この方
法は有機金属化合物の溶液を基体に塗布し、空気中で焼
成して金属酸化物に変成するものである。しかし、この
方法は焼成前の１摸中に存在する有機物成分を完全に除
去するため、あるいは金属を完全に酸化するために焼成
温度を高くする必要がある。この場合、必然的に多くの
熱源を必要とし、また加熱装置も大形になる。
合物溶液を塗布して酸化する方法が開発された。この方
法は有機金属化合物の溶液を基体に塗布し、空気中で焼
成して金属酸化物に変成するものである。しかし、この
方法は焼成前の１摸中に存在する有機物成分を完全に除
去するため、あるいは金属を完全に酸化するために焼成
温度を高くする必要がある。この場合、必然的に多くの
熱源を必要とし、また加熱装置も大形になる。
本発明は比較的低温で焼成できる金属酸化物被膜の形成
方法を提供することを目的とする。
方法を提供することを目的とする。
有機金属化合物を塗布した基体をオゾンを含む雰囲気中
で焼成することにより、オゾンの強い酸他力を利用して
低温で有機金属化合物を酸化するものである。
で焼成することにより、オゾンの強い酸他力を利用して
低温で有機金属化合物を酸化するものである。
ｒｉｏ２ｍ算で３重量％のチタンを含む有機チタン化合
物たとえばチタンアルコキシドの有機溶剤溶液に板状石
英基体を浸漬し、２２０ｍｍ／分の速度で引上げて上記
有機チタン化合物を塗布した。
物たとえばチタンアルコキシドの有機溶剤溶液に板状石
英基体を浸漬し、２２０ｍｍ／分の速度で引上げて上記
有機チタン化合物を塗布した。
ついで、オゾン発生器から１００ｍ１ｌｌ／分の流量で
１容量％のオゾンを含む空気を電気炉内に導入し、この
炉内で上記有機チタン化合物を塗布した基体を５００℃
の温度で１０分間焼成した。すると、塗布された有機チ
タン化合物は酸化されて酸化チタンからなる薄膜に変成
した。この薄膜はち−密で光透過率に優れ光屈折率が大
きい。そうして。
１容量％のオゾンを含む空気を電気炉内に導入し、この
炉内で上記有機チタン化合物を塗布した基体を５００℃
の温度で１０分間焼成した。すると、塗布された有機チ
タン化合物は酸化されて酸化チタンからなる薄膜に変成
した。この薄膜はち−密で光透過率に優れ光屈折率が大
きい。そうして。
この形成方法では、有機チタン化合物溶液の濃度や粘度
あるいは基体の引上げ速度を調整することによって膜厚
を任意に調整できる。
あるいは基体の引上げ速度を調整することによって膜厚
を任意に調整できる。
つぎにこの方法で製作した試料と空気中で焼成した比較
例とについて、製品の特性を比較した。
例とについて、製品の特性を比較した。
この結果を次表に示す。
この表からも、本例方法は焼成温度が５００ ℃でも従
来の焼成温度７００℃のものと同等の特性のものが得ら
れる。
来の焼成温度７００℃のものと同等の特性のものが得ら
れる。
なお、オゾンの濃度が高いと酸化反応が強すぎて得られ
た膜の組織が粗になることがある。実験によれば、予め
空気中で５ｏｏ℃で予備的に焼成し、ついでオゾンを含
む空気中で焼成すれば、ち密で質のよい被膜を得ること
ができ、特に不良発生のおそれがなく、またこの場合、
オゾン濃度を高くして焼成時間を短縮できる。
た膜の組織が粗になることがある。実験によれば、予め
空気中で５ｏｏ℃で予備的に焼成し、ついでオゾンを含
む空気中で焼成すれば、ち密で質のよい被膜を得ること
ができ、特に不良発生のおそれがなく、またこの場合、
オゾン濃度を高くして焼成時間を短縮できる。
さらに、本発明において、焼成中に連続または不連続に
オゾン濃度を上げることによってμＬ成待時間短縮する
ことができる。この場合、力′Ｃ成の始めはオゾン濃度
をＯにし、以後、連続または不連続にオゾン濃度を上げ
れば被膜が厚い場合に特に適する。
オゾン濃度を上げることによってμＬ成待時間短縮する
ことができる。この場合、力′Ｃ成の始めはオゾン濃度
をＯにし、以後、連続または不連続にオゾン濃度を上げ
れば被膜が厚い場合に特に適する。
なお、前述の実施例は酸化チタン被膜の形成方法につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、他の金属たとえば
、シリカ、酸化錫、酸化ジルコニウムなどの被膜形成に
も適用して同様な効果がある。そうして、オゾンを含む
雰囲気とは前述の空気にオゾンを含ませたものに限らず
、窒素、炭酸ガスなど酸化性のない気体にオゾンを含ま
せたものでもよい。
て述べたが、本発明はこれに限らず、他の金属たとえば
、シリカ、酸化錫、酸化ジルコニウムなどの被膜形成に
も適用して同様な効果がある。そうして、オゾンを含む
雰囲気とは前述の空気にオゾンを含ませたものに限らず
、窒素、炭酸ガスなど酸化性のない気体にオゾンを含ま
せたものでもよい。
また、塗布法は浸漬引げ法に限らず、スピンナー法、ス
プレー法など既知の総ての方法でもよい。
プレー法など既知の総ての方法でもよい。
さらに、本発明においで、目的とする被膜の厚さには限
定はなく、その用途も自由である。さらに、本発明は光
干渉膜のように異種の薄膜を多数重層させる場合にも、
その１種または全種の薄膜の形成に適用できる。そうし
て、基体の種類や形状には何んの制限もない。
定はなく、その用途も自由である。さらに、本発明は光
干渉膜のように異種の薄膜を多数重層させる場合にも、
その１種または全種の薄膜の形成に適用できる。そうし
て、基体の種類や形状には何んの制限もない。
本発明の金属酸化物被膜の形成方法は有機金属化合物を
塗布した基体をオゾンを含む雰囲気中で焼成して有機金
属化合物を酸化し、この金属の酸化物からなる被膜に形
成するので、低温度で焼成しても良好な酸化物被膜が得
られる。
塗布した基体をオゾンを含む雰囲気中で焼成して有機金
属化合物を酸化し、この金属の酸化物からなる被膜に形
成するので、低温度で焼成しても良好な酸化物被膜が得
られる。
Claims (3)
- （１）基体に有機金属化合物を塗布し、オゾンを含む雰
囲気中で焼成して上記有機金属化合物を酸化し、この金
属の酸化物からなる被膜に形成したことを特徴とする金
属酸化物被膜の形成方法。 - （２）有機金属化合物を塗布した基体を予め空気中で予
備的に焼成し、それからオゾンを含む雰囲気中で焼成す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の金属酸
化物被膜の形成方法。 - （３）焼成中雰囲気中のオゾン濃度を次第に高くするこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項記載
の金属酸化物被覆の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17222483A JPS6065708A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 金属酸化物被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17222483A JPS6065708A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 金属酸化物被膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6065708A true JPS6065708A (ja) | 1985-04-15 |
| JPH0371365B2 JPH0371365B2 (ja) | 1991-11-13 |
Family
ID=15937894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17222483A Granted JPS6065708A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 金属酸化物被膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6065708A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000046153A1 (en) * | 1999-02-04 | 2000-08-10 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing anatase type titanium dioxide and titanium dioxide coating material |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FI122606B (fi) | 2009-05-25 | 2012-04-13 | Outotec Oyj | Menetelmä laimean rikkihapon väkevöimiseksi sekä väkevöintilaitteisto laimean rikkihapon väkevöimiseksi |
-
1983
- 1983-09-20 JP JP17222483A patent/JPS6065708A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000046153A1 (en) * | 1999-02-04 | 2000-08-10 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing anatase type titanium dioxide and titanium dioxide coating material |
| US6770257B1 (en) | 1999-02-04 | 2004-08-03 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Processes for producing anatase titanium oxide and titanium oxide coating material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0371365B2 (ja) | 1991-11-13 |
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