JPS6069896A - ダイナミック型の半導体記憶装置 - Google Patents
ダイナミック型の半導体記憶装置Info
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- JPS6069896A JPS6069896A JP58176584A JP17658483A JPS6069896A JP S6069896 A JPS6069896 A JP S6069896A JP 58176584 A JP58176584 A JP 58176584A JP 17658483 A JP17658483 A JP 17658483A JP S6069896 A JPS6069896 A JP S6069896A
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- signal
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はダイナミック型の半導体記憶装置に係シ、特に
消費電力の低減に関する。
消費電力の低減に関する。
従来、ダイナミック型のランダムアクセスメモリ、所謂
ダイナミックRAMでは動作時にジャンクションがフォ
ワードにガることを防ぎ、かつノヤンクシゴン容量を小
さくして動作速度を高速化するために基板電位発生回路
を設けて基板を負極性の電位とするr−ツにしたものが
ある。
ダイナミックRAMでは動作時にジャンクションがフォ
ワードにガることを防ぎ、かつノヤンクシゴン容量を小
さくして動作速度を高速化するために基板電位発生回路
を設けて基板を負極性の電位とするr−ツにしたものが
ある。
第1図はこのような基板電位発生回路の一例を示すブロ
ック図で、たとえばリングオシレーターで構成しだ自励
発振器1の出力f1を増幅器2へ力えて波形整形する。
ック図で、たとえばリングオシレーターで構成しだ自励
発振器1の出力f1を増幅器2へ力えて波形整形する。
そして増幅器2の出力をチャージ+l?ンノ部3へ与え
て基板電位Vbbヲ得るようにしてい/こ。このチャー
ジポンプ部3は増幅器2の出力をコンデンサ3Aを介し
て第1.第2のダイオード3B 、3Cのカソードおよ
びアノードへ与え、第1のダイオード3Bから基板電位
Vbbを得、第2のダイオード3Cのカソードを基f!
:電位に接続するようにしている。
て基板電位Vbbヲ得るようにしてい/こ。このチャー
ジポンプ部3は増幅器2の出力をコンデンサ3Aを介し
て第1.第2のダイオード3B 、3Cのカソードおよ
びアノードへ与え、第1のダイオード3Bから基板電位
Vbbを得、第2のダイオード3Cのカソードを基f!
:電位に接続するようにしている。
しかしながらこのようなものでは、基板電位発生回路の
負荷特性は、たとえば第2図に示すようになる。すなわ
ち第2図において、縦軸は基板電位発生回路が汲み出し
得るポンプ電流で、■maxはその最大電流である。ま
たVbbは基板電位、vbbDCはその最大電圧である
。そしてこのような負荷特性の基板電位発生回路を用い
て基板にリークを生じると、それによって基板電位Vb
bが低下するために充分な余裕をみてIンゾ電流Ipu
mpの最大値ImaXを設定しておく必要がある。とこ
ろでポンプ電流工 の最大値を大 ump きくするためには、自励発振器1の発振周波数fを高く
し、また増幅器2の出力信号ΔVを大きくシ、また、チ
ャージポンプ部3のカップリング容量Cpを大きくすれ
ばよい。しかしながらこのようにすると、基板電位発生
回路のディメンションが大きくなシブリチャージ時の消
費電流I。c2が大きくなる。すなわち、ダイナミック
RAMの状態がアクティブであるか、シリチャージであ
るかに係わらずポンプ電流Ipumpを多く流そうとす
ると、゛グリチャージ時の消費電流■cc2も増大する
欠点がある。
負荷特性は、たとえば第2図に示すようになる。すなわ
ち第2図において、縦軸は基板電位発生回路が汲み出し
得るポンプ電流で、■maxはその最大電流である。ま
たVbbは基板電位、vbbDCはその最大電圧である
。そしてこのような負荷特性の基板電位発生回路を用い
て基板にリークを生じると、それによって基板電位Vb
bが低下するために充分な余裕をみてIンゾ電流Ipu
mpの最大値ImaXを設定しておく必要がある。とこ
ろでポンプ電流工 の最大値を大 ump きくするためには、自励発振器1の発振周波数fを高く
し、また増幅器2の出力信号ΔVを大きくシ、また、チ
ャージポンプ部3のカップリング容量Cpを大きくすれ
ばよい。しかしながらこのようにすると、基板電位発生
回路のディメンションが大きくなシブリチャージ時の消
費電流I。c2が大きくなる。すなわち、ダイナミック
RAMの状態がアクティブであるか、シリチャージであ
るかに係わらずポンプ電流Ipumpを多く流そうとす
ると、゛グリチャージ時の消費電流■cc2も増大する
欠点がある。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、プリチャ
ージ時の消費電流を大幅に減少することができるダイナ
ミック型の半導体記憶装置を提供することを目的とする
ものである。
ージ時の消費電流を大幅に減少することができるダイナ
ミック型の半導体記憶装置を提供することを目的とする
ものである。
すなわち本発明は、ダイナミックRAMの動作を制御す
る信号に基づいて、基板電位発生回路の動作を制御する
ことを特徴とするものである。
る信号に基づいて、基板電位発生回路の動作を制御する
ことを特徴とするものである。
以下本発明の一実施例を第3図に示すブロック図、第4
図に示す負荷特性図を参照して詳細に説明する。第3図
において図中11は自励発振器でその発振周波数f2は
、たとえば第1図に示す自励発振器と同じでよい。そし
て12は自励発振器11の出力を増幅し、波形整形する
第1の増幅器である。そして第1の増幅器12の出力Δ
V1を第1のチャージポンプ部13へ4/lて基板電位
Vbbを7得るようにしている。この第1のチャージポ
ンプ部13は、第1の増幅器12の出力をコンデンサJ
JAを介してダイオード13B 、 I JCのカソー
ドおよびアノードへ与え、ダイオード13Bのアノード
から基板電位Vbbを得、ダイオード13Cのカソード
を基準電位に接続するようにしている。そして14は第
2の増幅器で、当該ダイナミックRAMの動作を制御す
る信号を増幅し、波形整形して第2のチャージポンプ部
15へ与える。この第2のチャージポンプ部15は、第
2の増幅器14の出力Δ■2をコンデンサ15Aを介し
てダイオード15B、15Cのカソードおよびアノード
へ与え、ダイオード15Bのアノードを第1のチャージ
471部13の出力に並列に接続し、ダイオード15C
のカソードを基準電位に接続している。
図に示す負荷特性図を参照して詳細に説明する。第3図
において図中11は自励発振器でその発振周波数f2は
、たとえば第1図に示す自励発振器と同じでよい。そし
て12は自励発振器11の出力を増幅し、波形整形する
第1の増幅器である。そして第1の増幅器12の出力Δ
V1を第1のチャージポンプ部13へ4/lて基板電位
Vbbを7得るようにしている。この第1のチャージポ
ンプ部13は、第1の増幅器12の出力をコンデンサJ
JAを介してダイオード13B 、 I JCのカソー
ドおよびアノードへ与え、ダイオード13Bのアノード
から基板電位Vbbを得、ダイオード13Cのカソード
を基準電位に接続するようにしている。そして14は第
2の増幅器で、当該ダイナミックRAMの動作を制御す
る信号を増幅し、波形整形して第2のチャージポンプ部
15へ与える。この第2のチャージポンプ部15は、第
2の増幅器14の出力Δ■2をコンデンサ15Aを介し
てダイオード15B、15Cのカソードおよびアノード
へ与え、ダイオード15Bのアノードを第1のチャージ
471部13の出力に並列に接続し、ダイオード15C
のカソードを基準電位に接続している。
なおここで第1のチャージポンプ部13のカップリング
コンデンサ13には第1図に示すチャージポンプ部3の
カップリングコンデンサ3Aよシも小さな容量のものを
用いる。したがって、第3図における第1の増幅器12
は第1図における増幅器2よりも小さなディメンジョン
のものでよい。
コンデンサ13には第1図に示すチャージポンプ部3の
カップリングコンデンサ3Aよシも小さな容量のものを
用いる。したがって、第3図における第1の増幅器12
は第1図における増幅器2よりも小さなディメンジョン
のものでよい。
壕だ第2のチャージポンプ部15のカップリングコンデ
ンサ15には、第1のチャージポンプ部13のカップリ
ングコンデンサ13Aの容量との和が、略第1図に示す
チャージポンプ部30カップリングコンデンサ3Aの容
量に等しくなるようにすればよい。したがって第2の増
幅器14のディメンジョンは第1図に示す増幅器2に比
して少しだけ小さくすればよい。
ンサ15には、第1のチャージポンプ部13のカップリ
ングコンデンサ13Aの容量との和が、略第1図に示す
チャージポンプ部30カップリングコンデンサ3Aの容
量に等しくなるようにすればよい。したがって第2の増
幅器14のディメンジョンは第1図に示す増幅器2に比
して少しだけ小さくすればよい。
第4図は上記実施例の負荷特性を示す図である。すなわ
ち、ダイナミックRAMにおいて、基板電位Vbb−\
のリークの主原因となる基板電流はアクティブ動作を始
めるときからアクティブ動作が終了するまでの期間に多
量に流れ込む。
ち、ダイナミックRAMにおいて、基板電位Vbb−\
のリークの主原因となる基板電流はアクティブ動作を始
めるときからアクティブ動作が終了するまでの期間に多
量に流れ込む。
これに対してノリチャージ期間はプリチャージ動作の開
始直後を除いて基板電流はほとんど流れない。したがっ
て、基板電位発生回路のポンプ電流I はプリチャージ
時はわずかでよく、ump アクティブ時の大きな流れ込み電流に対応した能力があ
ればよい。したがって、第4図において第1の増幅器1
2の出力で駆動される第1のチャージ、ポンプ部13は
図示4Nで示すように小さなポンプ電流I 1を有する
ようにする。
始直後を除いて基板電流はほとんど流れない。したがっ
て、基板電位発生回路のポンプ電流I はプリチャージ
時はわずかでよく、ump アクティブ時の大きな流れ込み電流に対応した能力があ
ればよい。したがって、第4図において第1の増幅器1
2の出力で駆動される第1のチャージ、ポンプ部13は
図示4Nで示すように小さなポンプ電流I 1を有する
ようにする。
ump
また第2の増幅器14の出力で駆動される第2のチャー
ジポンプ部15は図示+2で示すように大きなポンプ電
流I 2を有するようにすump る。そして第2の増幅器14へはダイナミックRAMの
動作を制御する信号を与えてアクティブ動作の期間だけ
駆動するようにしている。一方、第一の増幅器12は自
励発振器11の出力によシ常時、動作させて第4図に示
すポンプ電流IpL1mp 1を流すようにしている。
ジポンプ部15は図示+2で示すように大きなポンプ電
流I 2を有するようにすump る。そして第2の増幅器14へはダイナミックRAMの
動作を制御する信号を与えてアクティブ動作の期間だけ
駆動するようにしている。一方、第一の増幅器12は自
励発振器11の出力によシ常時、動作させて第4図に示
すポンプ電流IpL1mp 1を流すようにしている。
したがってアクティブ時には第1.第2のチャー・ゾポ
ンプ部13 、 ’15のポンプ電流の加算値Iadd
が基板電位Vbbから第1.第2のチャージポンプ部1
3゜15へ流れるようにしている。
ンプ部13 、 ’15のポンプ電流の加算値Iadd
が基板電位Vbbから第1.第2のチャージポンプ部1
3゜15へ流れるようにしている。
すなわちダイナミックRAMのアクティブ時には第1.
第2の増幅器12.14は並列に太きな電流容量Iad
aで基板電位へのリーク電流を吸い込む。またプリチャ
ージ時には第1の増幅器12のみを動作させることによ
多消費電流を大幅に減少させるようにしている。したが
って、全体の消費電流を著しく少なくすることができる
。
第2の増幅器12.14は並列に太きな電流容量Iad
aで基板電位へのリーク電流を吸い込む。またプリチャ
ージ時には第1の増幅器12のみを動作させることによ
多消費電流を大幅に減少させるようにしている。したが
って、全体の消費電流を著しく少なくすることができる
。
第5図は上記実施例の第2の増幅器14、第2のチャー
ジポンプ部15の具体例を示す回路図である。すなわち
図中■。c、V811はそれぞれ電源および接地である
。なお第2の増幅器14の構成は、一般的なダイナミッ
クRAMに用いるクロックジェネレータと同様の構成と
している。
ジポンプ部15の具体例を示す回路図である。すなわち
図中■。c、V811はそれぞれ電源および接地である
。なお第2の増幅器14の構成は、一般的なダイナミッ
クRAMに用いるクロックジェネレータと同様の構成と
している。
すなわち、トランジスタ14a〜14に、コンデンサ1
41からなる増幅器14は、外部からダイナミックRA
Mを制御するために与えるロウアドレスセレク)(M号
RASに同期し、かつこのRASに遅れて変化する信号
φ。、φ0にょシ動作する。なお信号φ、は増幅器14
への入力信号、φDはリセット信号である。そしてプリ
チャージ時には信号φ9は°゛L”レベル、信号φ。は
”H”レベルとし、増幅器14の出力ノード14mを電
源電圧vc0にプリチャージする。この状態では増幅器
14にはほとんど電流は流れ々い。すなわちRASがI
I HITレベルでプリチャージの状態では基板電位発
生回路の消費電流を大幅に低減することができる。
41からなる増幅器14は、外部からダイナミックRA
Mを制御するために与えるロウアドレスセレク)(M号
RASに同期し、かつこのRASに遅れて変化する信号
φ。、φ0にょシ動作する。なお信号φ、は増幅器14
への入力信号、φDはリセット信号である。そしてプリ
チャージ時には信号φ9は°゛L”レベル、信号φ。は
”H”レベルとし、増幅器14の出力ノード14mを電
源電圧vc0にプリチャージする。この状態では増幅器
14にはほとんど電流は流れ々い。すなわちRASがI
I HITレベルでプリチャージの状態では基板電位発
生回路の消費電流を大幅に低減することができる。
一方、*hs カ″H″レベルから” L″レベル変化
してアクティブ状態になると、信号φいは” L”レベ
ルカラ“H″レベル変化シ、信号φoはH”レベルから
″L″レベルへ変化する。
してアクティブ状態になると、信号φいは” L”レベ
ルカラ“H″レベル変化シ、信号φoはH”レベルから
″L″レベルへ変化する。
したがって、増幅器14の出力ノード14aはH″から
′L#へ変化し、チャージ−ンノ部15が動作する。そ
してこの第2のチャージポンプ部15のポンプ電流I
2が第1のチャージump ポンプ部13のポンプ電流工 1に加わシリump −り電流が増大しても基板電位Vbbを所定電圧に保持
することができる。すなわちアクティブ時には、チャー
ジポンプ部15のカップリングコンデンサ15にの出力
側のノード15aは、増幅器14の出力を与えられて第
2のチャージポンプ部15が動作し、基板電位Vbbを
低下させることなく所定電位に保持させる。
′L#へ変化し、チャージ−ンノ部15が動作する。そ
してこの第2のチャージポンプ部15のポンプ電流I
2が第1のチャージump ポンプ部13のポンプ電流工 1に加わシリump −り電流が増大しても基板電位Vbbを所定電圧に保持
することができる。すなわちアクティブ時には、チャー
ジポンプ部15のカップリングコンデンサ15にの出力
側のノード15aは、増幅器14の出力を与えられて第
2のチャージポンプ部15が動作し、基板電位Vbbを
低下させることなく所定電位に保持させる。
なおチャージポンプ部15のトランジスタ15bは第3
図におけるダイオード15Bに相当し、まだトランジス
タ15c、15d、15eは第3図におけるダイオード
15Cに相当する。
図におけるダイオード15Bに相当し、まだトランジス
タ15c、15d、15eは第3図におけるダイオード
15Cに相当する。
そして第6図は第5図に示す回路の動作を説明する波形
図でRAS (第6図(a))に遅れて変化し、かつ逆
相および同相の信号φ□、φD(第6図(b) (c)
)を得る。そしてこの信号φえ、φnKよシ増幅器1
4を制御し、出力ノード14 の変化をカップリングコ
ンデンサ15kを介してチャージポンプ部15へ与える
。そしてアクティブ時タケ、第2のチャージポンプ部1
5が動作して基板電位Vbbへ流れ込むリーク電流が増
大しても充分に吸い出すことができる。
図でRAS (第6図(a))に遅れて変化し、かつ逆
相および同相の信号φ□、φD(第6図(b) (c)
)を得る。そしてこの信号φえ、φnKよシ増幅器1
4を制御し、出力ノード14 の変化をカップリングコ
ンデンサ15kを介してチャージポンプ部15へ与える
。そしてアクティブ時タケ、第2のチャージポンプ部1
5が動作して基板電位Vbbへ流れ込むリーク電流が増
大しても充分に吸い出すことができる。
なお、第5図に示す回路はRASが変化するときだけ動
作して電流を消費し、それ以外の期間は電流は流れない
。したがって、画が°゛H”レベルの期間が長い程、消
費電流を大幅に低減することができる。また芥がIt
H″レベル期間の消費電流も、たとえば第1図に示すよ
うな従来のものに比して少なくできる。
作して電流を消費し、それ以外の期間は電流は流れない
。したがって、画が°゛H”レベルの期間が長い程、消
費電流を大幅に低減することができる。また芥がIt
H″レベル期間の消費電流も、たとえば第1図に示すよ
うな従来のものに比して少なくできる。
また第5図に示すような回路構成では、第6図に示す波
形図のようにRASが°“L″レベル変化した後、1回
だけチャージポンプ部15が動作するが、この動作でア
クティブ時に増加する基板電位Vbbへのリーク電流を
充分に汲み出すことができる。
形図のようにRASが°“L″レベル変化した後、1回
だけチャージポンプ部15が動作するが、この動作でア
クティブ時に増加する基板電位Vbbへのリーク電流を
充分に汲み出すことができる。
なお、RASが″L#レベルに変化した後、チャージ2
71部15を1回だけ動作させるものだけでなく、複数
回、動作させるようにしてもよい。すなわちこの場合、
RASに同期し、かつ所望回数だけ変化する入力信号φ
A1リセット信号φ0を得る必要がある。第7図乃至第
9図はこのような信号を得る回路を示す図で、RASの
変化後、チャージ−ンゾ部を2回ずつ動作させるために
入力信号φAおよびリセット信号φ。を生成する回路を
示すものである。
71部15を1回だけ動作させるものだけでなく、複数
回、動作させるようにしてもよい。すなわちこの場合、
RASに同期し、かつ所望回数だけ変化する入力信号φ
A1リセット信号φ0を得る必要がある。第7図乃至第
9図はこのような信号を得る回路を示す図で、RASの
変化後、チャージ−ンゾ部を2回ずつ動作させるために
入力信号φAおよびリセット信号φ。を生成する回路を
示すものである。
すなわち、第1O図に示す波形図のように、RAS (
第10図(a))が“L″レベル変化し、アクティブ状
態になると、順次に立上る内部クロック信号φirB〜
φ1n4(第1Q図(b))を得る。
第10図(a))が“L″レベル変化し、アクティブ状
態になると、順次に立上る内部クロック信号φirB〜
φ1n4(第1Q図(b))を得る。
そしてこの内部クロック信号φin1〜φin4とRA
Sと同相のクロック信号φP(第10図(C))を第7
図、第8図に示す回路へ与えてクロック信号φ1(第1
0図(e))、φ3(第10図(f))を得る。そして
上記クロック信号φ!、φ3およびRASの逆相のクロ
ック信号φr0を第9図に示す回路へ与えてRASの立
下り後、2回ずつ変化する入力信号φA(第10図(g
))、!Jセット信号φD(第10図(h))を得る。
Sと同相のクロック信号φP(第10図(C))を第7
図、第8図に示す回路へ与えてクロック信号φ1(第1
0図(e))、φ3(第10図(f))を得る。そして
上記クロック信号φ!、φ3およびRASの逆相のクロ
ック信号φr0を第9図に示す回路へ与えてRASの立
下り後、2回ずつ変化する入力信号φA(第10図(g
))、!Jセット信号φD(第10図(h))を得る。
すなわち、第7図に示す回路はトランジスタ16a〜1
6dからなシ、内部クロックφin+ rφin2およ
びクロック信号φ2によりクロック信号φ1を生成する
。同様に第8図に示す回路は、トランジスタ17a〜1
7dからなシ、内部クロックφin31 φin4およ
びクロック信号φ2によシクロツク信号φ3を生成する
。
6dからなシ、内部クロックφin+ rφin2およ
びクロック信号φ2によりクロック信号φ1を生成する
。同様に第8図に示す回路は、トランジスタ17a〜1
7dからなシ、内部クロックφin31 φin4およ
びクロック信号φ2によシクロツク信号φ3を生成する
。
そして第9図に示す回路はトランジスタ18a〜1B+
からなシクロツク信号φ1.φ2.φP。
からなシクロツク信号φ1.φ2.φP。
φ、8からクロック信号φA、φ0を生成する。す々わ
ちトランジスタ18a〜18fはクロック信号φ1.φ
2を入力とするOR回路で、この出力φ□はクロック信
号φl、φ3がH”レベルのときにH#となる。そして
、トランジスタ18g〜18iで上記出力φ□の反転信
号φ。を得るようにしている。
ちトランジスタ18a〜18fはクロック信号φ1.φ
2を入力とするOR回路で、この出力φ□はクロック信
号φl、φ3がH”レベルのときにH#となる。そして
、トランジスタ18g〜18iで上記出力φ□の反転信
号φ。を得るようにしている。
このようKすればRAS (第10図(a))がパL#
になりてから2回ずつ変化するクロック信号φA(第1
0図0))およびその反転信号φD(第10図G))が
得られる。そしてこのクロック信号φ□、φ0を第5図
に示す増幅器14の対応する入力へ与えれば、チャージ
ポンプ部15のノード14 m 、 15 aは第10
図(i)(j)に示すように変化し、RASが°′L”
レベルになる毎に2回ずつ基板電位Vbbヘリーク電流
を汲み出す。なおこのようにすればRASが′L”レベ
ルになる毎に2回ずつチャージポンプ部15が動作する
ので基板電位Vbbへのリーク電流の増加にも対応でき
る。なお、上記実施例でチャージポンプ部を動作させる
タイミングは、ダイナミックRAM内のクロック信号に
よって決定しているので任扁に設定することができる。
になりてから2回ずつ変化するクロック信号φA(第1
0図0))およびその反転信号φD(第10図G))が
得られる。そしてこのクロック信号φ□、φ0を第5図
に示す増幅器14の対応する入力へ与えれば、チャージ
ポンプ部15のノード14 m 、 15 aは第10
図(i)(j)に示すように変化し、RASが°′L”
レベルになる毎に2回ずつ基板電位Vbbヘリーク電流
を汲み出す。なおこのようにすればRASが′L”レベ
ルになる毎に2回ずつチャージポンプ部15が動作する
ので基板電位Vbbへのリーク電流の増加にも対応でき
る。なお、上記実施例でチャージポンプ部を動作させる
タイミングは、ダイナミックRAM内のクロック信号に
よって決定しているので任扁に設定することができる。
しかしてこのようにすれば基板電位Vbbレベルに影響
を与えるリーク電流はアクティブ時に多くプリチャージ
時には少ないことに着目し、アクティブ時だけ基板電位
発生回路の出力を増加させ、それによって全体の消費電
流を大幅に減少することができる。一方、半導体集積回
路の高集積化とともに高速化、低消費電力化が進められ
、スタティック型メモリではC−MOS化によって対応
している。これに対してダイナミック型メモリにおいて
も、消費電力の低減を図ることが望まれていた。しかし
て従来のダイナミックRAMで消費電力の低減を図るこ
とは極めて困難であったが、上記実施例によれば大幅に
消費電力を低減することができる。たとえば従来のダイ
ナミックRAMでプリチャージ時の消費電流は、基板電
位発生回路以外の部分で約0 、6 mA 。
を与えるリーク電流はアクティブ時に多くプリチャージ
時には少ないことに着目し、アクティブ時だけ基板電位
発生回路の出力を増加させ、それによって全体の消費電
流を大幅に減少することができる。一方、半導体集積回
路の高集積化とともに高速化、低消費電力化が進められ
、スタティック型メモリではC−MOS化によって対応
している。これに対してダイナミック型メモリにおいて
も、消費電力の低減を図ることが望まれていた。しかし
て従来のダイナミックRAMで消費電力の低減を図るこ
とは極めて困難であったが、上記実施例によれば大幅に
消費電力を低減することができる。たとえば従来のダイ
ナミックRAMでプリチャージ時の消費電流は、基板電
位発生回路以外の部分で約0 、6 mA 。
自励発振器部分で約0.4mA、増幅器部分で約1.6
mA程度で合計約2.6mAであった。これに対して上
記実施例では増幅器部分の消費電流は約0.2mA程度
にでき合計約1.2mAの電流を消費するにすぎない。
mA程度で合計約2.6mAであった。これに対して上
記実施例では増幅器部分の消費電流は約0.2mA程度
にでき合計約1.2mAの電流を消費するにすぎない。
したがって、上記実施例に加えて、さらにプリチャージ
時の基板電位発生回路および自励発振器部分の消費電流
の低減化が進めば全消費電流を1 mA以下とすること
も可能である。そして全消費電流を1 mA以下とすれ
ばダイナミックRAMの内容を、たとえばバッテリーに
よシバツクアップすることも可能になシ、この結果ダイ
ナミックRAMの市場を大幅に拡大でき、たとえばバッ
テリーパックアップ−を一行なう用途にも使用すること
ができる。
時の基板電位発生回路および自励発振器部分の消費電流
の低減化が進めば全消費電流を1 mA以下とすること
も可能である。そして全消費電流を1 mA以下とすれ
ばダイナミックRAMの内容を、たとえばバッテリーに
よシバツクアップすることも可能になシ、この結果ダイ
ナミックRAMの市場を大幅に拡大でき、たとえばバッ
テリーパックアップ−を一行なう用途にも使用すること
ができる。
なお本発明は上記実施例に限定されるものではなく、た
とえば基板電位Vbbへのリーク電流がビット線の充電
及び放電の時のみ増大する場合は、画の切換時に第2の
チャージポンプ部15を1回ずつ動作させるようにして
もよい。
とえば基板電位Vbbへのリーク電流がビット線の充電
及び放電の時のみ増大する場合は、画の切換時に第2の
チャージポンプ部15を1回ずつ動作させるようにして
もよい。
この場合、たとえば第11図に示すブロック図のように
RASを単発パルス発生回路19へ与えiの切換を検出
するRAS−DTに応動してクロック信号φ、を得\さ
らにこの信号φ□をダイナミックなインバータ20によ
シ反転してクロック信号φ。を得るようにすればよい。
RASを単発パルス発生回路19へ与えiの切換を検出
するRAS−DTに応動してクロック信号φ、を得\さ
らにこの信号φ□をダイナミックなインバータ20によ
シ反転してクロック信号φ。を得るようにすればよい。
そして上記クロック信号φ、、φ0を、たとえば第5図
に示すような増幅器14へ入力信号およびリセット信号
として与える。このようにすれば、たとえば第12図に
示す波形図のようにRAS (第12図(a))が立下
シ、有効になると、その切換りの検出信号RAS−DT
に応動して1発のノソルス信号が出力されそれによって
、クロック信号φA(第12図(b))・φD(第12
図(C))を生成することができる。したがって第5図
に示すチャージポンプ部15のノード14m(第12図
(d) ) 、 15 a(第12図(e))はRAS
の切換シ毎に立下シ、それによって基板電位Vbbへの
リーク電流を汲み出すことができる。このようなもので
は、特に、基板電位Vbbへのリーク電流がビット線の
充電および放電時にのみ増大する場合に有効である。
に示すような増幅器14へ入力信号およびリセット信号
として与える。このようにすれば、たとえば第12図に
示す波形図のようにRAS (第12図(a))が立下
シ、有効になると、その切換りの検出信号RAS−DT
に応動して1発のノソルス信号が出力されそれによって
、クロック信号φA(第12図(b))・φD(第12
図(C))を生成することができる。したがって第5図
に示すチャージポンプ部15のノード14m(第12図
(d) ) 、 15 a(第12図(e))はRAS
の切換シ毎に立下シ、それによって基板電位Vbbへの
リーク電流を汲み出すことができる。このようなもので
は、特に、基板電位Vbbへのリーク電流がビット線の
充電および放電時にのみ増大する場合に有効である。
また本発明は、RASがL”レベルになシ有効になった
後、ビット線の充電が終了して“H#レベルになるまで
の間に複数発のノ七ルスを第2の増幅器14へ与えて第
2のチャージポンプ部15を駆動するようにしてもよい
。この場合、たとえば第13図に示すブロック図のよう
にRASを複数パルス発生回路21およびタイマ22へ
与え、このタイマ22の設定時間毎に複数発、たとえば
4発のパルスを発生してクロック信号φ、を得、さらに
この信号φ□をダイナミックなインバータ23へ与えて
反転し、クロック信号φ0を得るようにすればよい。そ
してこのクロック信号φ□、φ0を、たとえば第5図に
示すような増幅器14へ与えればよい。このよ、うにす
れば第14図に示す波形図のように、RAS (第14
図(a))が立下り有効になると、クロック信号φ□、
φD(第14図(b)(C))が4発ずつ出力される。
後、ビット線の充電が終了して“H#レベルになるまで
の間に複数発のノ七ルスを第2の増幅器14へ与えて第
2のチャージポンプ部15を駆動するようにしてもよい
。この場合、たとえば第13図に示すブロック図のよう
にRASを複数パルス発生回路21およびタイマ22へ
与え、このタイマ22の設定時間毎に複数発、たとえば
4発のパルスを発生してクロック信号φ、を得、さらに
この信号φ□をダイナミックなインバータ23へ与えて
反転し、クロック信号φ0を得るようにすればよい。そ
してこのクロック信号φ□、φ0を、たとえば第5図に
示すような増幅器14へ与えればよい。このよ、うにす
れば第14図に示す波形図のように、RAS (第14
図(a))が立下り有効になると、クロック信号φ□、
φD(第14図(b)(C))が4発ずつ出力される。
そしてこの信号φ□、φ0を第2の増幅器14へ与えて
第2のチャージポンプ部15を駆動することによシ、チ
ャージポンプ部150ノード14m(第14図(d)
) 、 15 g (第14図(e))は扉の立下り毎
に4回ずつ変化し、それによって基′@を位Vbbへの
リーク電流を汲み出すととができる。このようにすれば
、特に基板電位Vbbへのリーク電流がメモリのアクテ
ィブ時に、突然に流れる場合に有効である。また第13
図に示すような構成は、ダイナミックRAM内にタイマ
を有うるメモリの場合は、このタイマを用いることによ
り容易に実現することができる。
第2のチャージポンプ部15を駆動することによシ、チ
ャージポンプ部150ノード14m(第14図(d)
) 、 15 g (第14図(e))は扉の立下り毎
に4回ずつ変化し、それによって基′@を位Vbbへの
リーク電流を汲み出すととができる。このようにすれば
、特に基板電位Vbbへのリーク電流がメモリのアクテ
ィブ時に、突然に流れる場合に有効である。また第13
図に示すような構成は、ダイナミックRAM内にタイマ
を有うるメモリの場合は、このタイマを用いることによ
り容易に実現することができる。
以上のように本発明によれは、蛎にプリテヤーソ状態に
おりる基板電位発生回路の消費電流を大幅に減少するこ
とができ、それによって全体の消費電力を低減し、信頼
性を向上することができるダイナミック型の半導体記憶
装置を提供することができる。
おりる基板電位発生回路の消費電流を大幅に減少するこ
とができ、それによって全体の消費電力を低減し、信頼
性を向上することができるダイナミック型の半導体記憶
装置を提供することができる。
第1図は従来の基板電位発生回路の一例を示すブロック
図、第2図は第1図に示す基板電位発生回路の負荷特性
を示す図、第3図は本発明の一実施例を示すブロック図
、第4図は第3図に示す基板電位発生回路の負荷特性を
示す図、第5図は上記実施例の第2の増幅器および第2
のチャージボング部を示す回路図、第6図は第5図に示
す回路の動作を説明する波形図、第7図、第8図、第9
図は第5図に示す回路へ与える本発明の他の実施例のク
ロック信号φ1.φ3およびφ□、φ0を生成する回路
図、第10図(a)〜(j)は第7図乃至第9図に示す
回路で得られたクロック信号を第5図に示す回路へ与え
た動作を示す波形図、第11図は本発明の他の実施例の
クロック信号φ人、φ0を得る回路のブロック図、第1
2図(、)〜(、)は第11図に示す回路で得たクロッ
ク信号φえ、φゎによる動作を説明する波形図、第13
図は本発明のさらに他の実施例のクロック信号φえ、φ
。を得る回路のブロック図、第14図(、)〜(、)は
第13図に示す回路で得たクロック信号φい、φ0によ
る動作を説明する波形図である。 11・・・自励発振器、12・・・第1の増幅器、13
・・・第1のチャーソポンプ部、14・・・第2の増幅
器、15・・・第2のチャージ号?ンプ部。
図、第2図は第1図に示す基板電位発生回路の負荷特性
を示す図、第3図は本発明の一実施例を示すブロック図
、第4図は第3図に示す基板電位発生回路の負荷特性を
示す図、第5図は上記実施例の第2の増幅器および第2
のチャージボング部を示す回路図、第6図は第5図に示
す回路の動作を説明する波形図、第7図、第8図、第9
図は第5図に示す回路へ与える本発明の他の実施例のク
ロック信号φ1.φ3およびφ□、φ0を生成する回路
図、第10図(a)〜(j)は第7図乃至第9図に示す
回路で得られたクロック信号を第5図に示す回路へ与え
た動作を示す波形図、第11図は本発明の他の実施例の
クロック信号φ人、φ0を得る回路のブロック図、第1
2図(、)〜(、)は第11図に示す回路で得たクロッ
ク信号φえ、φゎによる動作を説明する波形図、第13
図は本発明のさらに他の実施例のクロック信号φえ、φ
。を得る回路のブロック図、第14図(、)〜(、)は
第13図に示す回路で得たクロック信号φい、φ0によ
る動作を説明する波形図である。 11・・・自励発振器、12・・・第1の増幅器、13
・・・第1のチャーソポンプ部、14・・・第2の増幅
器、15・・・第2のチャージ号?ンプ部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)半導体基板へ基板電位を与える基板電位発生回路
を内蔵したダイナミック型の半導体メモリにおいて、上
記メモリの動作を制御するために外部から与えられる外
部信号により上記基板電6ン発生回路の動作を制御する
ことを特徴とするダイナミック型の半導体記憶装置。 (2、特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、基板
電位発生回路は自励発振器の出力を第1の増幅器を介し
て与えられる第1のチャージIンプ部と、メモリの動作
を制御するために外部から与えられる外部信号を第2の
増幅器を介して与えられる第2のチャージヂンプ部とを
具備することを特徴とするダイナミック型の半導体記憶
装置。 (3)特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、外部
信号はロウアドレスセレク) 信号(RAS)を用いる
ととを特徴とするダイナミック型の半導体記憶装置。 (4)特許請求の範囲第2項記載のものにおいて、第2
の増幅器へ外部信号の切換り時に複数発のノ4ルス信号
を与えて制御することを特徴とするダイナミック型の半
導体記憶装置。 (5) 特許請求の範囲第2項記載のものにおいて、第
2の増幅器へロウアドレスセレクト信号が立下シ有効に
なった後立上るまでの間に複数発のパルス信号を与えて
制御することを特徴とするダイナミック型の半導体記憶
装置。 (6)特許請求の範囲第1項乃至第4項記載のものにお
いて、第2の増幅器を外部入力信号の切換シ時に変化す
る信号で制御することを特徴とするダイナミック型の半
導体記憶装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58176584A JPS6069896A (ja) | 1983-09-24 | 1983-09-24 | ダイナミック型の半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58176584A JPS6069896A (ja) | 1983-09-24 | 1983-09-24 | ダイナミック型の半導体記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6069896A true JPS6069896A (ja) | 1985-04-20 |
Family
ID=16016115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58176584A Pending JPS6069896A (ja) | 1983-09-24 | 1983-09-24 | ダイナミック型の半導体記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6069896A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60107857A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-13 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 集積回路チツプにおける電圧発生回路 |
| JPS62283491A (ja) * | 1986-06-02 | 1987-12-09 | Matsushita Electronics Corp | 基板バイアス電圧発生器 |
| JPS63138594A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Nec Corp | ダイナミツクメモリ |
| US6125075A (en) * | 1985-07-22 | 2000-09-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
| JP2002343082A (ja) * | 2001-05-04 | 2002-11-29 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリ装置のネガティブ電圧発生器 |
-
1983
- 1983-09-24 JP JP58176584A patent/JPS6069896A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60107857A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-13 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 集積回路チツプにおける電圧発生回路 |
| US6125075A (en) * | 1985-07-22 | 2000-09-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
| US6363029B1 (en) | 1985-07-22 | 2002-03-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
| US6970391B2 (en) | 1985-07-22 | 2005-11-29 | Renesas Technology Corporation | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
| JPS62283491A (ja) * | 1986-06-02 | 1987-12-09 | Matsushita Electronics Corp | 基板バイアス電圧発生器 |
| US7002856B2 (en) | 1986-07-18 | 2006-02-21 | Renesas Technology Corporation | Semiconductor device incorporating internal power supply for compensating for deviation in operating condition and fabrication process conditions |
| JPS63138594A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Nec Corp | ダイナミツクメモリ |
| JP2002343082A (ja) * | 2001-05-04 | 2002-11-29 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリ装置のネガティブ電圧発生器 |
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