JPS6070536A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPS6070536A JPS6070536A JP58179916A JP17991683A JPS6070536A JP S6070536 A JPS6070536 A JP S6070536A JP 58179916 A JP58179916 A JP 58179916A JP 17991683 A JP17991683 A JP 17991683A JP S6070536 A JPS6070536 A JP S6070536A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ビームを用いて情報が記録される光情報記録
媒体に関し、特に光ビームを吸収し孔形成あるいは光学
的性質変化を起こす情報記録薄膜に関するものである、 従来より、光情報記録薄膜に光ビームを照射し、該光ビ
ームの光エネルギーあるいは熱エネルギーによって前記
光情報記録膜に孔おるいは凹凸Cピット)を形成;、あ
るいは透過率、屈折率等の光学的性質を変化させること
により情報を記録15、次に微弱な光ビームを、情報が
記録された前記光情報記録薄膜に照射し、上記ピットあ
るいは光学的性質変化部分からの光ビーム反射光の反射
光量変化あるいは位相変化を読み取る高密度光情報記録
媒体が知られている。
媒体に関し、特に光ビームを吸収し孔形成あるいは光学
的性質変化を起こす情報記録薄膜に関するものである、 従来より、光情報記録薄膜に光ビームを照射し、該光ビ
ームの光エネルギーあるいは熱エネルギーによって前記
光情報記録膜に孔おるいは凹凸Cピット)を形成;、あ
るいは透過率、屈折率等の光学的性質を変化させること
により情報を記録15、次に微弱な光ビームを、情報が
記録された前記光情報記録薄膜に照射し、上記ピットあ
るいは光学的性質変化部分からの光ビーム反射光の反射
光量変化あるいは位相変化を読み取る高密度光情報記録
媒体が知られている。
前記光ビームは微小面積に高密度のエネルギーを集中さ
せる必要があわ へ11ウノ、−11ドミウム(HeC
dl、アルゴンCAr)、ヘリウムネオン(HeNe)
等のガスレーザー光あるいはガリウムアルミ≦ウムヒ素
(GaAlAs)半導体レーザー光が使用される。
せる必要があわ へ11ウノ、−11ドミウム(HeC
dl、アルゴンCAr)、ヘリウムネオン(HeNe)
等のガスレーザー光あるいはガリウムアルミ≦ウムヒ素
(GaAlAs)半導体レーザー光が使用される。
前記光情報記録薄膜は、小さい光ビームエネルギーで情
報が記録されねばならず、テルルITe)。
報が記録されねばならず、テルルITe)。
ビスマス(Bi)、ヒ素(A8)、セレン(Se)等の
低融点金属およびその化合物1色素あるいは顔料を含む
有機高分子物質、金属有機物複合物が用いられる。これ
ら光情報記録薄膜用部材の中で前記金属薄膜を配録薄膜
とする光情報記録媒体は長時間高温多湿の環境下に放置
されると該金属記録薄膜の酸化によって光ビームの吸収
量が減少し情報を記録するに必要な光ビームエネルギー
が増大する。あるいは既に情報が記録された金属薄膜光
記録媒体が高温多湿の環境下に放置されると該金属記録
薄膜からの反射光が減少し読み出された情報を示す信号
のコントラストが低下する。
低融点金属およびその化合物1色素あるいは顔料を含む
有機高分子物質、金属有機物複合物が用いられる。これ
ら光情報記録薄膜用部材の中で前記金属薄膜を配録薄膜
とする光情報記録媒体は長時間高温多湿の環境下に放置
されると該金属記録薄膜の酸化によって光ビームの吸収
量が減少し情報を記録するに必要な光ビームエネルギー
が増大する。あるいは既に情報が記録された金属薄膜光
記録媒体が高温多湿の環境下に放置されると該金属記録
薄膜からの反射光が減少し読み出された情報を示す信号
のコントラストが低下する。
本発明はか\る欠点を解消するためになされたもので長
時間高温多湿の環境下に放置されても情報記録膜が酸化
することなく、したがって光ビニムによる情報記録再生
特性の経時変化が小さい金属薄膜を記録薄膜とする光情
報記録媒体を提供することにある。
時間高温多湿の環境下に放置されても情報記録膜が酸化
することなく、したがって光ビニムによる情報記録再生
特性の経時変化が小さい金属薄膜を記録薄膜とする光情
報記録媒体を提供することにある。
本発明の特徴は、光ビームを用いて情報を記録再生する
光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録薄膜
がアンチモン(sb)およびテルル(re)を含む合金
薄膜であり、該薄膜中のsb含有量が原子パーセントで
10パーセント以上。
光情報記録媒体において、該光情報記録媒体の記録薄膜
がアンチモン(sb)およびテルル(re)を含む合金
薄膜であり、該薄膜中のsb含有量が原子パーセントで
10パーセント以上。
70係以下、テルル含有量が原子パーセントで3゜パー
セント以上、 90パーセント以下であることにある。
セント以上、 90パーセント以下であることにある。
以下実施例に従って詳細に説明する。
光情報記録媒体に使用される基板は熱伝導度が小さく、
該基板表面が平滑でキズが少々いことが必要で、又例え
ば)1(′、ビームを基板を通(−7で記録薄膜に照射
する場合は該光ビームに対I〜で透過性でなければなら
ない。このような基板には記録再生レーザー光に対t、
7透明な合成樹脂、例えばポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルポリスルホン々ど、
あるいはガラスが用いられる。
該基板表面が平滑でキズが少々いことが必要で、又例え
ば)1(′、ビームを基板を通(−7で記録薄膜に照射
する場合は該光ビームに対I〜で透過性でなければなら
ない。このような基板には記録再生レーザー光に対t、
7透明な合成樹脂、例えばポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルポリスルホン々ど、
あるいはガラスが用いられる。
情報記録薄膜は前記基板上に接して設けることもできる
が、前記基板上に低熱伝導物質からなる熱遮断性薄膜、
前記基板上に存在するキズを除去する高分子塗膜又は光
ビーム反射性薄膜を介して設けることもできる。金属記
録薄膜は公知の技術、例えば真空蒸着、スパッタリング
。
が、前記基板上に低熱伝導物質からなる熱遮断性薄膜、
前記基板上に存在するキズを除去する高分子塗膜又は光
ビーム反射性薄膜を介して設けることもできる。金属記
録薄膜は公知の技術、例えば真空蒸着、スパッタリング
。
イオンブレーティングによって前記基板上に被着させる
ことができる。
ことができる。
本実施例においては前記金属記録薄膜は真空蒸着法にて
基板上に被着させた、石英ガラス製了ンブルに所定の組
成の金属記録薄膜となるようsbとTeを秤量して入れ
、該アンプル内ヲIO’〜10 PaK排気し先端を封
じた。sbおよびTOが封入されたアンプルを電気炉に
入れ、800°05時間加熱を行った後アンプルを急冷
し中から5b−Te合金を取り出した。Sb、TOの他
に第三の金属例えばBi、 As、 Se を含む三元
合金を作製する場合もSb、TOおよび第三の金属を所
望の割合に秤量して石英アンプル内に真空封入し、上記
方法と同様にして三元合金を作製することができる。か
〈jて得られた合金を約100メツシユに粉砕し真空蒸
着装置にセットされたポートに入れ、真空槽内を10
〜10 Paに排気し抵抗加熱法で合金を蒸発させ基板
上に合金薄膜を被着させた。基板は直径20cm、厚さ
1mmのポリメチルメタクレート樹脂を使用し、ボート
上30cm の位置に水平て保持し蒸着中は毎分100
回転の速さで回転させた。
基板上に被着させた、石英ガラス製了ンブルに所定の組
成の金属記録薄膜となるようsbとTeを秤量して入れ
、該アンプル内ヲIO’〜10 PaK排気し先端を封
じた。sbおよびTOが封入されたアンプルを電気炉に
入れ、800°05時間加熱を行った後アンプルを急冷
し中から5b−Te合金を取り出した。Sb、TOの他
に第三の金属例えばBi、 As、 Se を含む三元
合金を作製する場合もSb、TOおよび第三の金属を所
望の割合に秤量して石英アンプル内に真空封入し、上記
方法と同様にして三元合金を作製することができる。か
〈jて得られた合金を約100メツシユに粉砕し真空蒸
着装置にセットされたポートに入れ、真空槽内を10
〜10 Paに排気し抵抗加熱法で合金を蒸発させ基板
上に合金薄膜を被着させた。基板は直径20cm、厚さ
1mmのポリメチルメタクレート樹脂を使用し、ボート
上30cm の位置に水平て保持し蒸着中は毎分100
回転の速さで回転させた。
前記合金材料の組成および金属記録薄膜の組成はケイ光
X線分析装曾により定量した。
X線分析装曾により定量した。
上述の方法にて作製され六金属記録薄膜光記録媒体の記
録再生試験は、記録再生用光ビームと17で波長が33
(lhmの半導体1/−ザーを使用ル−ザーバワーは前
記記録薄膜上で記録時5mW。
録再生試験は、記録再生用光ビームと17で波長が33
(lhmの半導体1/−ザーを使用ル−ザーバワーは前
記記録薄膜上で記録時5mW。
再生時0.5mWで行った。記」信号はI Ml(Zの
デジタル信号である。また、上述の方法にて作製された
金属記録薄膜記録光記録媒体の高温多湿環境下における
経時変化は、該光情報記録媒体を温度60°C湿度95
パーセントの環境に50時間放置りまた前後の金属記録
薄膜の反射率変化およびl MB2の再生信号のCN比
(キャリア信号とノイズの比)を測定することにより評
価(1,た。
デジタル信号である。また、上述の方法にて作製された
金属記録薄膜記録光記録媒体の高温多湿環境下における
経時変化は、該光情報記録媒体を温度60°C湿度95
パーセントの環境に50時間放置りまた前後の金属記録
薄膜の反射率変化およびl MB2の再生信号のCN比
(キャリア信号とノイズの比)を測定することにより評
価(1,た。
表1は本実施例による光情報記録媒体の金属記録薄膜の
組成と該光情報記録媒体を高温多湿環境下に放置l、た
前後の金属記録薄膜の反射率変化、およびl MB2の
再生信号のCN比変化を示す。
組成と該光情報記録媒体を高温多湿環境下に放置l、た
前後の金属記録薄膜の反射率変化、およびl MB2の
再生信号のCN比変化を示す。
表 1
表iにおいて、R1及びR2は光情報記録媒体を高温多
湿環境下に放置する前及び放置した後の金属記録薄膜の
反射率をそれぞれ示し、Ic/N)1及びIc/N12
は光情報記録媒体に信号を記録[7た後、該光情報記録
媒体を高温多湿環境下に放置する前及び放置[6た後の
再生信号のCN比をそれぞれ示す。
湿環境下に放置する前及び放置した後の金属記録薄膜の
反射率をそれぞれ示し、Ic/N)1及びIc/N12
は光情報記録媒体に信号を記録[7た後、該光情報記録
媒体を高温多湿環境下に放置する前及び放置[6た後の
再生信号のCN比をそれぞれ示す。
ここで、金属薄膜記録膜中のsbの含有量が原子パーセ
ントを10バーセント以上、70パーセント以下とi、
たのは、Sbが10バーセント以下の時は前記金属薄膜
が高温多湿環境下において酸化しやすく、光情報記録媒
体記録再生特性の経時変化が大きくなり、70チ以上の
時は光情報記録媒体に光ビームを用いて情報を記録する
に要する光ビームエネルギーが大きくなるという理由で
ある。又、金属薄膜記録膜中のTe含有量が原子パーセ
ントで30パ一セント以上、90)く−セント以下とす
る理由は、Teが30パーセント以下では光情報記録媒
体に光ビームを用いて情報を記録するに要する光ビーム
エネルギーが大きくなり、90パ一セント以上の時は金
属薄膜が高温多湿環境下において酸化しやすく光情報記
録媒体記録再生特性の経時変化が大きくなるからである
。
ントを10バーセント以上、70パーセント以下とi、
たのは、Sbが10バーセント以下の時は前記金属薄膜
が高温多湿環境下において酸化しやすく、光情報記録媒
体記録再生特性の経時変化が大きくなり、70チ以上の
時は光情報記録媒体に光ビームを用いて情報を記録する
に要する光ビームエネルギーが大きくなるという理由で
ある。又、金属薄膜記録膜中のTe含有量が原子パーセ
ントで30パ一セント以上、90)く−セント以下とす
る理由は、Teが30パーセント以下では光情報記録媒
体に光ビームを用いて情報を記録するに要する光ビーム
エネルギーが大きくなり、90パ一セント以上の時は金
属薄膜が高温多湿環境下において酸化しやすく光情報記
録媒体記録再生特性の経時変化が大きくなるからである
。
以上説明iたように本発明による光情報記録媒体は高温
多湿環境下においても該光記録媒体の金属薄膜記録膜の
酸化が極小で、該光記録媒体の記録再生特性の経時変化
が小さく環境安定性に優れた元情報記録媒体である。
多湿環境下においても該光記録媒体の金属薄膜記録膜の
酸化が極小で、該光記録媒体の記録再生特性の経時変化
が小さく環境安定性に優れた元情報記録媒体である。
Claims (1)
- 基板と該基板上に形成された薄膜を有し、該薄膜へ光ビ
ームを照射1.7情報を記録する光情報Fl)媒体にお
いて、F記薄膜がアンチモンオヨびテルルを含む合金薄
膜であり、該薄膜中のアンチモン含有量が原子ノく−セ
ントで10ノく−セント以上、70チ以下、テルル含有
量が原子ノく−セントチ30パーセフト以上、90ノく
一セント以下であることを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58179916A JPS6070536A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58179916A JPS6070536A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6070536A true JPS6070536A (ja) | 1985-04-22 |
Family
ID=16074156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58179916A Pending JPS6070536A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6070536A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990007181A1 (en) * | 1988-12-19 | 1990-06-28 | Eastman Kodak Company | Erasable phase change optical recording elements and methods |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5745676A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-15 | Fujitsu Ltd | Cut-out system of character |
| JPS59109392A (ja) * | 1982-12-15 | 1984-06-25 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 光学的情報記録媒体 |
-
1983
- 1983-09-28 JP JP58179916A patent/JPS6070536A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5745676A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-15 | Fujitsu Ltd | Cut-out system of character |
| JPS59109392A (ja) * | 1982-12-15 | 1984-06-25 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 光学的情報記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990007181A1 (en) * | 1988-12-19 | 1990-06-28 | Eastman Kodak Company | Erasable phase change optical recording elements and methods |
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