JPS607427A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS607427A JPS607427A JP11545883A JP11545883A JPS607427A JP S607427 A JPS607427 A JP S607427A JP 11545883 A JP11545883 A JP 11545883A JP 11545883 A JP11545883 A JP 11545883A JP S607427 A JPS607427 A JP S607427A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- photosensitive resin
- film
- resin composition
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 32
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 36
- -1 urethane diacrylate compound Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 claims description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N methyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 3
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000010009 beating Methods 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 239000011353 cycloaliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical group ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXEHULHXWHEJJD-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(CCCC)=CC=C1OCC1OC1 DXEHULHXWHEJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OCC1OC1 CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRWFFFOEIHGUBG-UHFFFAOYSA-N 3,4-Epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclo-hexanecarboxylate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1C(=O)OCC1CC2OC2CC1C GRWFFFOEIHGUBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKJSFKIUVDXFMS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis[4-(diethylamino)-2-methylphenyl]methyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=CC=1)N(CC)CC)C)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1C OKJSFKIUVDXFMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100328519 Caenorhabditis elegans cnt-2 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKOPRXMOOHDZFV-UHFFFAOYSA-N NC(=O)OCC.CC(C(C)(C)N=C=O)CCCCN=C=O Chemical compound NC(=O)OCC.CC(C(C)(C)N=C=O)CCCCN=C=O RKOPRXMOOHDZFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233805 Phoenix Species 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 229940111759 benzophenone-2 Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMSRBKPMLUGHCR-UHFFFAOYSA-N bromohydrin Chemical group BrC[C]1CO1 JMSRBKPMLUGHCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N chlorohydrin Chemical group CC#CC#CC#CC#C\C=C\C(Cl)CO XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- MKVYSRNJLWTVIK-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical class CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O MKVYSRNJLWTVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZMPIUODFXBXSC-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCOC(N)=O JZMPIUODFXBXSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- VYMDGNCVAMGZFE-UHFFFAOYSA-N phenylbutazonum Chemical compound O=C1C(CCCC)C(=O)N(C=2C=CC=CC=2)N1C1=CC=CC=C1 VYMDGNCVAMGZFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- UMFCIIBZHQXRCJ-NSCUHMNNSA-N trans-anol Chemical compound C\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 UMFCIIBZHQXRCJ-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性樹脂組成物に閂する。更に訂しくは印刷
配線板製造、金ハ梢密加工等に使用し得る優れた特性を
有する保膜yx形成用の感光性(I′1脂組成物に関す
る。
配線板製造、金ハ梢密加工等に使用し得る優れた特性を
有する保膜yx形成用の感光性(I′1脂組成物に関す
る。
従来、精密加工業界9例えば印刷配線板製造等において
めっきあるいはエツチングのためのレジスト形成に感光
性樹脂組成物を用いることは良く知られている。また最
近では無電解めっきマスク。
めっきあるいはエツチングのためのレジスト形成に感光
性樹脂組成物を用いることは良く知られている。また最
近では無電解めっきマスク。
ソルダマスク等の永久マスクの分野にも感光性樹脂組成
物が用いられてきている。
物が用いられてきている。
永久マスクは、耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性。
電気的特性9機械的特性等の優れた特性が要求されるた
め、使用できる感光性樹脂は限られている。
め、使用できる感光性樹脂は限られている。
特開昭52−117985号公報、特開昭54−101
8号公報、特開昭53−56018号公報等には永久マ
スクとして:使用!能な感光性樹脂組成物が開示されて
いる。、しかしこれらの感光性樹脂組成物は高分子結合
剤およびモノマを主成分としており厚膜の保護被膜の形
成には不、iきでおる。
8号公報、特開昭53−56018号公報等には永久マ
スクとして:使用!能な感光性樹脂組成物が開示されて
いる。、しかしこれらの感光性樹脂組成物は高分子結合
剤およびモノマを主成分としており厚膜の保護被膜の形
成には不、iきでおる。
すなわち、これらの感光性樹脂組成物ではガラス転移温
度の高い、高分子結合剤が用いられているため、感光層
を形成する場合には、まず該感光性樹脂組成物をトルエ
ン、メチルエチルケトン、塩化メチレン等の有機溶剤に
均一に溶解iたは分散させ9次に塗布、乾燥して感光層
を形成し〃けれにならない。そのため、厚膜に力ると、
乾燥時に気泡が発生したり、樹脂の流動が起こり易く、
均一な保詐被膜形成は困難である。
度の高い、高分子結合剤が用いられているため、感光層
を形成する場合には、まず該感光性樹脂組成物をトルエ
ン、メチルエチルケトン、塩化メチレン等の有機溶剤に
均一に溶解iたは分散させ9次に塗布、乾燥して感光層
を形成し〃けれにならない。そのため、厚膜に力ると、
乾燥時に気泡が発生したり、樹脂の流動が起こり易く、
均一な保詐被膜形成は困難である。
一方、特開昭53−13696号公報に0、耐熱性およ
び密着性に優れ、ソルダマスクとして使用可能なUV硬
化型の無溶剤型液状樹脂組成物が提案されている。
び密着性に優れ、ソルダマスクとして使用可能なUV硬
化型の無溶剤型液状樹脂組成物が提案されている。
この液状組成物は、少なくとも2つのラジカル重合性不
飽和基を有する化合物の少なくとも1種および下記式〔
I〕 〔式中Zれ環式二塩基酸基、几1は炭素数1〜3のアル
キレフ基、R2は水素原子又はメチル基、Xは塩素原子
又は臭素原子である。〕で表わされる化合物を含有し、
スクリーン印刷法により画像を形成することができる。
飽和基を有する化合物の少なくとも1種および下記式〔
I〕 〔式中Zれ環式二塩基酸基、几1は炭素数1〜3のアル
キレフ基、R2は水素原子又はメチル基、Xは塩素原子
又は臭素原子である。〕で表わされる化合物を含有し、
スクリーン印刷法により画像を形成することができる。
この組成物についてtよ、写真法の適用も可能でろ9.
この場合には特公昭46−39404号公報、特公昭4
8−23284号公報、特開昭49−43701号公報
等に示される塗布装置を用い基板上に一定厚の液状感光
層を形成し、像的な活性光線の照射および現像により精
密な画像を形成することができる。しかし特開昭53−
13696号公報に開示される液状樹脂組成物は硬化被
膜の電気絶縁性、耐電食性等に改善点が残されている。
この場合には特公昭46−39404号公報、特公昭4
8−23284号公報、特開昭49−43701号公報
等に示される塗布装置を用い基板上に一定厚の液状感光
層を形成し、像的な活性光線の照射および現像により精
密な画像を形成することができる。しかし特開昭53−
13696号公報に開示される液状樹脂組成物は硬化被
膜の電気絶縁性、耐電食性等に改善点が残されている。
これらの事実に鑑み1本発明者等が種々検討した結果、
特開昭53−13696号公報記載の化合物と□エポキ
シ基を少なくとも1個有する化合物とを組み合せて用い
たときに、電気絶縁性、耐電食性及び解像力に優れた硬
化膜が得られることを見い出した。□ 本発明の目的は、厚膜の保fiJFJ成が容易で。
特開昭53−13696号公報記載の化合物と□エポキ
シ基を少なくとも1個有する化合物とを組み合せて用い
たときに、電気絶縁性、耐電食性及び解像力に優れた硬
化膜が得られることを見い出した。□ 本発明の目的は、厚膜の保fiJFJ成が容易で。
更に、解像度、金ハに対する讃着性、電気絶紗性。
耐電食性等の特性に優れた感光性樹脂組成物を提供する
ことにある。
ことにある。
本発明は、(a)末端エチレン基を少なくとも2個有す
る光重合性化合物の少なくとも1種、(b)式0)で表
わされる化合物〔式中Zは環式二塩基酸残基。
る光重合性化合物の少なくとも1種、(b)式0)で表
わされる化合物〔式中Zは環式二塩基酸残基。
Blは炭素数1〜3のアルキレン基、几2は水素原子又
はメチル基、Xは塩素原子又は1%素原子である。〕の
少なくともilm、(C)エポキシ基を有する化合物の
少なくとも1種及び[d)活性光線により遊離ラジカル
を生成する増感剤または(および)増感剤系を含有して
なる感光性樹脂組成物に関する。
はメチル基、Xは塩素原子又は1%素原子である。〕の
少なくともilm、(C)エポキシ基を有する化合物の
少なくとも1種及び[d)活性光線により遊離ラジカル
を生成する増感剤または(および)増感剤系を含有して
なる感光性樹脂組成物に関する。
o oti
本発明の提案する感光性樹脂組成物を構成する成分の各
々について以下詳細に説明する。
々について以下詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、末端エグーレン基を少な
くとも2個有する光重合性化合物の少なくとも1種を必
須成分として含有する。この化合物としては、多価アル
コールのアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル
が適当であり、トリメチロールプロパン、トリメチロー
ルエタン、ペンタエリスリトール、I、3−ブナし/ン
グリンl−ル。
くとも2個有する光重合性化合物の少なくとも1種を必
須成分として含有する。この化合物としては、多価アル
コールのアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル
が適当であり、トリメチロールプロパン、トリメチロー
ルエタン、ペンタエリスリトール、I、3−ブナし/ン
グリンl−ル。
1.4−ブチレングリフール、1,6−へキリンジオー
ル、ソロピレノグリコール、トリグロビレングリコール
、ポリフロピレンゲリコール、エチレンクリコール、ホ
リエテレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジブ
ロムネオペンチルグリコール、ビスフェノールAの2個
のフェノール!水酸基にエチレンオキサイドを各々1〜
10個反応させて得られる2価アルコール、ビスフェノ
ールAの2個のフェノール性水酸基にプロピレンオキサ
イドを各々1〜10個反応させて1.%られる2価アル
コール、テトラブロムビスフェノールAの2個のフェノ
ール性水酸基にプロピレンオキサイドを各々1〜10個
反応させて得られる2価アルコール等の多価アルコール
のアクリル酸、エステル及びメタクリル酸エステルを例
として挙げ得る。
ル、ソロピレノグリコール、トリグロビレングリコール
、ポリフロピレンゲリコール、エチレンクリコール、ホ
リエテレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジブ
ロムネオペンチルグリコール、ビスフェノールAの2個
のフェノール!水酸基にエチレンオキサイドを各々1〜
10個反応させて得られる2価アルコール、ビスフェノ
ールAの2個のフェノール性水酸基にプロピレンオキサ
イドを各々1〜10個反応させて1.%られる2価アル
コール、テトラブロムビスフェノールAの2個のフェノ
ール性水酸基にプロピレンオキサイドを各々1〜10個
反応させて得られる2価アルコール等の多価アルコール
のアクリル酸、エステル及びメタクリル酸エステルを例
として挙げ得る。
また環状脂肪族エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。
脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。
等のエポキシ基を少なくとも2個有する化合物とメタク
リル酸あるいはメタクリル酸との反応生成物、更に(イ
)ジイソシアナート、(ロ)2価アルコールのアクリル
酸モノJーステル又はメタクリルn訃モジエステル更に
場合により(ハ)2価アルコールを反応させてイ:)シ
れるウレタンジアクリレート化合物ヌはウレタンジメタ
クリレート化合物等も使用用能である。ウレタンジアク
リレート化合物およびウレタンジメタクリレート化合物
の具体例としてはトリメチルへキサメチレンジイソシア
ナート/2−ヒドロキシエチルアクリレート反応物,ト
1)メグルヘキづメチレンジイソシアナート/シクロ−
・キサンジメタノール/2−ヒドロキシエチノトアクリ
レート反応物,トリメチル−\キサメチレンジイソシア
ナート/2−ヒドロキシエチルアクリレート反応物,ト
リメチルへキサメチレンジイソシアナート/2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート反応物,トリメチルへキサメ
チレンジイソシアナート/2−ヒドロキシフロビルメタ
クリレート反応物,ヘキザメテレンジイソ/丁太−ト/
2−ヒドロキシフロビルメタクリレート反応物.イソ月
;ロンジイソシアナート/2−ヒドロキシエチルアクリ
レート反応物,インホロンジインシアナート/2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート反応物。
リル酸あるいはメタクリル酸との反応生成物、更に(イ
)ジイソシアナート、(ロ)2価アルコールのアクリル
酸モノJーステル又はメタクリルn訃モジエステル更に
場合により(ハ)2価アルコールを反応させてイ:)シ
れるウレタンジアクリレート化合物ヌはウレタンジメタ
クリレート化合物等も使用用能である。ウレタンジアク
リレート化合物およびウレタンジメタクリレート化合物
の具体例としてはトリメチルへキサメチレンジイソシア
ナート/2−ヒドロキシエチルアクリレート反応物,ト
1)メグルヘキづメチレンジイソシアナート/シクロ−
・キサンジメタノール/2−ヒドロキシエチノトアクリ
レート反応物,トリメチル−\キサメチレンジイソシア
ナート/2−ヒドロキシエチルアクリレート反応物,ト
リメチルへキサメチレンジイソシアナート/2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート反応物,トリメチルへキサメ
チレンジイソシアナート/2−ヒドロキシフロビルメタ
クリレート反応物,ヘキザメテレンジイソ/丁太−ト/
2−ヒドロキシフロビルメタクリレート反応物.イソ月
;ロンジイソシアナート/2−ヒドロキシエチルアクリ
レート反応物,インホロンジインシアナート/2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート反応物。
2、6ジイソシアナートカプロン酸メチル/2−ヒドロ
キシエチルアクリレート反応物,2.6ジイソシアナー
トカフロン酸メチル/2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート反応物等を挙げることができる。
キシエチルアクリレート反応物,2.6ジイソシアナー
トカフロン酸メチル/2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート反応物等を挙げることができる。
本発明の第二の必須成分は上記の式(1)で表わされる
化合物である。式〔I〕で表わされる化合物は特公昭5
3−37214号公報に開示されており,例えば、環式
二塩基酸無水物から下式で表わされる反応によって容易
に製造することができる(式中Z.R’.R2,Xは式
(11で定義したものと同一である)。
化合物である。式〔I〕で表わされる化合物は特公昭5
3−37214号公報に開示されており,例えば、環式
二塩基酸無水物から下式で表わされる反応によって容易
に製造することができる(式中Z.R’.R2,Xは式
(11で定義したものと同一である)。
式(a)
式fbl
環式二塩基酸無水物の例としてはこはく酸無水物。
無水フタル酸,無水へキサヒドロフタル酸,無水テトラ
ヒドロフタル酸,無水ノ・イミツク酸(日立化成工mt
+3.6エンドメチレンl, 2, 3. 6テトラヒ
ドロ無水フタル酸の商品名)無水メチルレノ・イミツク
ス酸(日立化成工iFIJi3.6エンドメグーレン1
.2。
ヒドロフタル酸,無水ノ・イミツク酸(日立化成工mt
+3.6エンドメチレンl, 2, 3. 6テトラヒ
ドロ無水フタル酸の商品名)無水メチルレノ・イミツク
ス酸(日立化成工iFIJi3.6エンドメグーレン1
.2。
3、6テトラヒドメチル無水フタル酸の商品名)等を挙
げることができる。
げることができる。
式(13で表わされる化合物はクロルヒドリン基筒たけ
ブロムヒドリン基を含有する一価のアクリル漬エステル
またはメタクリル酸エステルであり。
ブロムヒドリン基を含有する一価のアクリル漬エステル
またはメタクリル酸エステルであり。
この化合物を含む液状型の感光性樹脂組成物は優れた解
像度を有するものである。
像度を有するものである。
本発明で使用する感つ“0性樹脂組成物は少なくとも1
個のエポキシ基を少なくとも1個有する化合物を必須成
分として含有する。このエポキシ基含有化合物は、光照
射、熱処理等により式[1)で表わされる化合物から発
生するハロゲン化水素を捕獲し、硬化膜の劣化を防止し
°fた金屈を腐食から保設するために用いるものである
。エポキシ基を少なくとも1個有する化合物の例として
は、フェニルグリシジルエーテル、p−ブチルフェノー
ルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、
アクリグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート
、オクチレンオキサイド、ビスフェノールAのジグリシ
ジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、チッ
ソ社製脂環式エポキシ樹脂(チラノノックス206.チ
ツソノツクス221゜チッソノックス201等)、ダイ
セル化学工業((1)製脂環式エポキシ樹脂七ロキサイ
ド2021等を挙げることができる。
個のエポキシ基を少なくとも1個有する化合物を必須成
分として含有する。このエポキシ基含有化合物は、光照
射、熱処理等により式[1)で表わされる化合物から発
生するハロゲン化水素を捕獲し、硬化膜の劣化を防止し
°fた金屈を腐食から保設するために用いるものである
。エポキシ基を少なくとも1個有する化合物の例として
は、フェニルグリシジルエーテル、p−ブチルフェノー
ルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、
アクリグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート
、オクチレンオキサイド、ビスフェノールAのジグリシ
ジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、チッ
ソ社製脂環式エポキシ樹脂(チラノノックス206.チ
ツソノツクス221゜チッソノックス201等)、ダイ
セル化学工業((1)製脂環式エポキシ樹脂七ロキサイ
ド2021等を挙げることができる。
本発明で用いる感光性樹脂組成物は、活性光により遊離
ラジカルを生成する増感剤または(および)増感剤系を
必須成分と1〜で3−有一ノる。f42用できる増感剤
とじτは、V(1換または非置換の多核・X″ノン類9
えは、2−エチルアントラヤノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメグールrントラキノン、1.2−
ベンズアンi・ラキノン、2.3−ジフェニルアントラ
キノン等、ジアヒチルおよびベンジル等のケトアルドニ
ル化合物、ベンゾイン、ビバロン等のα−ケタルドニル
アル1−ル類およびニーデル類、α−炭化水素置換芳香
族アシLj イン類9例えはα−フェニル−ベンゾ・1
ン、α。
ラジカルを生成する増感剤または(および)増感剤系を
必須成分と1〜で3−有一ノる。f42用できる増感剤
とじτは、V(1換または非置換の多核・X″ノン類9
えは、2−エチルアントラヤノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメグールrントラキノン、1.2−
ベンズアンi・ラキノン、2.3−ジフェニルアントラ
キノン等、ジアヒチルおよびベンジル等のケトアルドニ
ル化合物、ベンゾイン、ビバロン等のα−ケタルドニル
アル1−ル類およびニーデル類、α−炭化水素置換芳香
族アシLj イン類9例えはα−フェニル−ベンゾ・1
ン、α。
α−シェド八へシアセトフェノン等、ベンゾフェノ>’
、4.4’−ビスジアルキルアミノベンソフニ1−ノン
等の芳香族ケトン類を例示でき、これらは、中独でも組
合せてもよい。使用できる増感剤系としてはス4.5−
)リアリールイミダゾール二月体と2−メルカプトペ
ンゾギナゾール、ロイコクリスタルバイオレット、トリ
ス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)メタン
等との組合せ4例示できる。葦た。それ自体で光開始性
はないが、前述した物質と組合せて用いることにより全
体として元捌始性能のより良好な増感剤系となるような
添加剤を用いることができる。例えばベンゾフェノンに
対するトリエタノールアミン等の三級アミンなどである
。これら増感剤または(および)増感剤系は上記の(a
l光重合性化合物、(b)式CDで表わされる化合物お
よび(C)エポキシ基を有する化合物に対して0.5〜
10重量%含有されることが好ましい。
、4.4’−ビスジアルキルアミノベンソフニ1−ノン
等の芳香族ケトン類を例示でき、これらは、中独でも組
合せてもよい。使用できる増感剤系としてはス4.5−
)リアリールイミダゾール二月体と2−メルカプトペ
ンゾギナゾール、ロイコクリスタルバイオレット、トリ
ス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)メタン
等との組合せ4例示できる。葦た。それ自体で光開始性
はないが、前述した物質と組合せて用いることにより全
体として元捌始性能のより良好な増感剤系となるような
添加剤を用いることができる。例えばベンゾフェノンに
対するトリエタノールアミン等の三級アミンなどである
。これら増感剤または(および)増感剤系は上記の(a
l光重合性化合物、(b)式CDで表わされる化合物お
よび(C)エポキシ基を有する化合物に対して0.5〜
10重量%含有されることが好ましい。
末端エチレン基を少なくとも2個有する光重合性化合物
の少なくとも1種を20〜90重景部。
の少なくとも1種を20〜90重景部。
式[1〕で表わきれる化合物の少なくとも1種を40〜
5重量部少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物の
少なくとも1種を40〜5MN部および活性光により遊
離ラジカルを生成する増感剤または(および)増感剤系
を1〜101景部の範囲とすることが、光重合性、解像
度、硬化物の密着性等の点で好ましい。
5重量部少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物の
少なくとも1種を40〜5MN部および活性光により遊
離ラジカルを生成する増感剤または(および)増感剤系
を1〜101景部の範囲とすることが、光重合性、解像
度、硬化物の密着性等の点で好ましい。
本発明になる感光性樹脂組成物は以上の必須成分に加え
て9種々の目的のだめに副次的成分を21有せしめるこ
とができる。副次的成分としてtJ熱爪合防止剤、染料
、顔料、消泡剤、11〔燃剤、用塑剤、密着性向上剤、
エポキシ4!’i Iff¥の宿在性硬化剤等ヲ童げる
ことができる。これらの副次的成分の選択は通常の感)
“0性樹脂組成物と同様の考慮のもとに行なわれる。
て9種々の目的のだめに副次的成分を21有せしめるこ
とができる。副次的成分としてtJ熱爪合防止剤、染料
、顔料、消泡剤、11〔燃剤、用塑剤、密着性向上剤、
エポキシ4!’i Iff¥の宿在性硬化剤等ヲ童げる
ことができる。これらの副次的成分の選択は通常の感)
“0性樹脂組成物と同様の考慮のもとに行なわれる。
本発明の感光性樹脂組成物は常法にbt″)て保h!被
膜を形成り、得る。たとえば本発明の感光性樹脂組成物
全常温ないし150℃で攪拌混合し一1均一化した後、
加工保静ずべき基板上に10へ一300ttmの厚さに
塗布し、この上にネガフィルム・をあて、活性光を像的
に照射して露光部を硬化させ。
膜を形成り、得る。たとえば本発明の感光性樹脂組成物
全常温ないし150℃で攪拌混合し一1均一化した後、
加工保静ずべき基板上に10へ一300ttmの厚さに
塗布し、この上にネガフィルム・をあて、活性光を像的
に照射して露光部を硬化させ。
次いで現像処理により未露光部を溶出することにより仰
「ユ被膜を形成−Jることができる。イ・ガフイルノ、
に感光層が刺着ノーるのを防止するために、ネガフィル
ムと感光層の間にポリエチレンプレツタレートフィルム
、ポリプロピレンフィルム、酢酸セルロースフィルム、
ポリカーボネートフィル11等の透明なカバーフィルム
を介在させること(> ”1能である。高解像の保護被
膜を得る場合には、カバーフィルムの厚さは25μm以
下であることが重子しい。
「ユ被膜を形成−Jることができる。イ・ガフイルノ、
に感光層が刺着ノーるのを防止するために、ネガフィル
ムと感光層の間にポリエチレンプレツタレートフィルム
、ポリプロピレンフィルム、酢酸セルロースフィルム、
ポリカーボネートフィル11等の透明なカバーフィルム
を介在させること(> ”1能である。高解像の保護被
膜を得る場合には、カバーフィルムの厚さは25μm以
下であることが重子しい。
現像処理に用いられる現像液は露光部にダメージを与え
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液の例としてはL L
1− トリクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、ジ
エチレングリコールモツプチルエーテル/炭酸ナトリウ
ム水溶液等の有様溶剤/希アルカリ水溶液混合液など倉
卒けることができる。
ず、未露光部を選択的に溶出するものであればその種類
については特に制限はない。現像液の例としてはL L
1− トリクロルエタン等のハロゲン化炭化水素、ジ
エチレングリコールモツプチルエーテル/炭酸ナトリウ
ム水溶液等の有様溶剤/希アルカリ水溶液混合液など倉
卒けることができる。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は通當のエツチン
グ、めっき等のための耐食膜となるが。
グ、めっき等のための耐食膜となるが。
現像後の活性光の露光及び80℃ないし200℃での加
熱処理により更に優れた特性を有する保膜膜となる。現
像後の活性光の露光及び加熱処理の順序はどちらが先で
もよい。このようにしてイ(すられる保護被膜はトリク
レン、メチルエチルケトン。
熱処理により更に優れた特性を有する保膜膜となる。現
像後の活性光の露光及び加熱処理の順序はどちらが先で
もよい。このようにしてイ(すられる保護被膜はトリク
レン、メチルエチルケトン。
イソプロピルアルコール、トルエン等の有機溶剤に十分
に耐え、酸性水溶液又はアルカリ水溶液にも耐える。更
に配熱性1機(爪的特性にも優れているので、ソルダマ
スク等の永久的ガ保護膜として使用し得る。更に本発明
の感光性樹脂組成物ケ用いて形成される被膜は優れた化
学的、物理的’Fν性を有することから、多層印刷配線
板の崩間絶行層。
に耐え、酸性水溶液又はアルカリ水溶液にも耐える。更
に配熱性1機(爪的特性にも優れているので、ソルダマ
スク等の永久的ガ保護膜として使用し得る。更に本発明
の感光性樹脂組成物ケ用いて形成される被膜は優れた化
学的、物理的’Fν性を有することから、多層印刷配線
板の崩間絶行層。
感光性接着剤、塗料、プラスチックレリーフ、印刷版制
料等にも用いられる。
料等にも用いられる。
次に本発明の実施例を示す。ごこに示す興だ11例は9
本発明の実施態様を示すものであり9:本発明はこれに
よって制限されるものではない。
本発明の実施態様を示すものであり9:本発明はこれに
よって制限されるものではない。
実施例中E部」は重凧部を示す。
実施例1
トリメチルへキサメチレンジイソシアナート1モルと2
−ヒト「コキシエチルアクリレート2モルとを反応させ
て得られたウレタン′)−1クリレ一ト化合物 ・ ・
・・・80部 無水フタル酸、2−ヒドロキシエヂルメククリレート、
エピクロルヒドリンから合成しだ式[:11Fで表わさ
れる化合物 ・・・・・・・・15部七ロキサイド20
21 (ダイセル化学工業111 f4脂環式エポキシ
樹脂) ・・・・・・・・・ 5部ベンゾフェノン ・
・・・・・・・・2.7部ミヒラーケトン ・・・・・
・・・・0.3部p−メトキシフェノール ・・・・−
・・・・0.1部上記の配合で粘度約30ボアーズ(2
5℃)の感光性樹脂組成物を調製し+ rj’cJ 1
πmのステンレス板上に厚さ80μm K塗布し、ネガ
マスク通し。
−ヒト「コキシエチルアクリレート2モルとを反応させ
て得られたウレタン′)−1クリレ一ト化合物 ・ ・
・・・80部 無水フタル酸、2−ヒドロキシエヂルメククリレート、
エピクロルヒドリンから合成しだ式[:11Fで表わさ
れる化合物 ・・・・・・・・15部七ロキサイド20
21 (ダイセル化学工業111 f4脂環式エポキシ
樹脂) ・・・・・・・・・ 5部ベンゾフェノン ・
・・・・・・・・2.7部ミヒラーケトン ・・・・・
・・・・0.3部p−メトキシフェノール ・・・・−
・・・・0.1部上記の配合で粘度約30ボアーズ(2
5℃)の感光性樹脂組成物を調製し+ rj’cJ 1
πmのステンレス板上に厚さ80μm K塗布し、ネガ
マスク通し。
オーク製作所製超高圧水銀灯フエーツクス3000を使
用し+ ’ 15 Q lnJ #2で照射した。露光
後30分放置したのち、i、1.1−)リクロルエタン
を用いて18℃で30秒間スプレー現像した。現像後8
0℃で10分間加熱乾燥し、東芝を材((iG iU
24管外線照射装置を使用し25 J /Ctn”で照
射した。その後150℃で30分間加熱処理した。ネノ
7=マスクに相応する精密な像状の硬化被膜が得られた
。
用し+ ’ 15 Q lnJ #2で照射した。露光
後30分放置したのち、i、1.1−)リクロルエタン
を用いて18℃で30秒間スプレー現像した。現像後8
0℃で10分間加熱乾燥し、東芝を材((iG iU
24管外線照射装置を使用し25 J /Ctn”で照
射した。その後150℃で30分間加熱処理した。ネノ
7=マスクに相応する精密な像状の硬化被膜が得られた
。
この被膜はトリクレン、トルエン、イノプT1パノール
、10係硫酸水溶液にそれぞれ25℃、1時間浸漬後も
何の変化も認められず、更に260℃。
、10係硫酸水溶液にそれぞれ25℃、1時間浸漬後も
何の変化も認められず、更に260℃。
10秒のはんだ処理にも耐え、クラックの発生。
銀箔からのはく印は認められず、ソルダマスクとして用
い得ることがわかりだ。
い得ることがわかりだ。
CH3
11
II
実施例2
実施例1の感光性樹脂組成物を日立化成工業flie製
銅張績層板MCL−E−67(片面板、板jIvL 6
” + fi’lR’i厚、 35 μm )をコー
ツチンクし−Cイ乍?Vし戸ニクシ型電(叙(=フィン
幅2007Nll、ライン間隔300μ!11)−ヒに
約100μローの厚塾に塗イji L/た。θ、に東芝
′lu月09製紫外紗朋射舊派(:1ν格電圧200V
、定格消費用カフ、2粘り、適合ランプ■56 (10
L7″2 、ラング本数1本)を使用し、50J /
ctn2 で照射した。その後150 ’Qで30分間
加熱処理した。このように処理され1ζクシ型’ij
価に40“C990係Iもiiの環境下で20日間、1
00■の直流電圧を印加したが、電極に変色番」、認め
しれン1かった。比較のために、冥施例1の感光性樹脂
組成物から七ロキリーイド2021を除いた感)Y:性
樹脂組成物について、同上の処理を行なったところ、電
圧印加3日で陽極に変色が発生した。このことから本発
明になる感光性樹脂組成物は特開昭53−13696号
公報に示される感光性樹脂組成物に比べ耐電食性に優れ
、永久保護被膜としての信頼性に優れていることが示さ
れる。
銅張績層板MCL−E−67(片面板、板jIvL 6
” + fi’lR’i厚、 35 μm )をコー
ツチンクし−Cイ乍?Vし戸ニクシ型電(叙(=フィン
幅2007Nll、ライン間隔300μ!11)−ヒに
約100μローの厚塾に塗イji L/た。θ、に東芝
′lu月09製紫外紗朋射舊派(:1ν格電圧200V
、定格消費用カフ、2粘り、適合ランプ■56 (10
L7″2 、ラング本数1本)を使用し、50J /
ctn2 で照射した。その後150 ’Qで30分間
加熱処理した。このように処理され1ζクシ型’ij
価に40“C990係Iもiiの環境下で20日間、1
00■の直流電圧を印加したが、電極に変色番」、認め
しれン1かった。比較のために、冥施例1の感光性樹脂
組成物から七ロキリーイド2021を除いた感)Y:性
樹脂組成物について、同上の処理を行なったところ、電
圧印加3日で陽極に変色が発生した。このことから本発
明になる感光性樹脂組成物は特開昭53−13696号
公報に示される感光性樹脂組成物に比べ耐電食性に優れ
、永久保護被膜としての信頼性に優れていることが示さ
れる。
実施例3
トリメチルへキサメチレンジインシアナート1モルと2
−ヒドロキシプロビルアクリレート2モルとを反応させ
て得られたウレタンジアクリレート化合物 ・・・・・
・・・・75部無水フタル酸、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、エピクロルヒドリンから合成した実施例1
で用いた式[1’)の化合物 ・・・・・・・・・20
部エピコート828 (シェル社製ビスフェノールA型
エポキシ樹脂) ・・・・・・・・・ 5部ベンゾフェ
ノン ・・印・用2.7部 ミヒ2−ケトン ・・・曲・・o、3部p−メトキシフ
ェノール ・・用用・o、 1 部ビクトリアピュアブ
ルー ・・・叫・−0,02m上記配合で粘度約70ボ
アーズ(25℃)の感光性樹脂組成物を調製し、感光層
の厚さを一定に保つだめのスペーサ(厚さ160μ!1
])を設けた銅張積層板上に塗布した。この感光層表面
にポリエチレンデレフタレートフイルノ、(厚さ4μ川
)及びネガマスク(透明画線幅30μm、線間隔300
μm )を重ね、メーク製作所製超高圧水銀灯フェニッ
クス3000を使用し、300川J 7cm2で照射し
た。露プC後30分放置したのち、l、I、1−トリク
ロルエタンを用い18℃で30秒間スプレー現像した。
−ヒドロキシプロビルアクリレート2モルとを反応させ
て得られたウレタンジアクリレート化合物 ・・・・・
・・・・75部無水フタル酸、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、エピクロルヒドリンから合成した実施例1
で用いた式[1’)の化合物 ・・・・・・・・・20
部エピコート828 (シェル社製ビスフェノールA型
エポキシ樹脂) ・・・・・・・・・ 5部ベンゾフェ
ノン ・・印・用2.7部 ミヒ2−ケトン ・・・曲・・o、3部p−メトキシフ
ェノール ・・用用・o、 1 部ビクトリアピュアブ
ルー ・・・叫・−0,02m上記配合で粘度約70ボ
アーズ(25℃)の感光性樹脂組成物を調製し、感光層
の厚さを一定に保つだめのスペーサ(厚さ160μ!1
])を設けた銅張積層板上に塗布した。この感光層表面
にポリエチレンデレフタレートフイルノ、(厚さ4μ川
)及びネガマスク(透明画線幅30μm、線間隔300
μm )を重ね、メーク製作所製超高圧水銀灯フェニッ
クス3000を使用し、300川J 7cm2で照射し
た。露プC後30分放置したのち、l、I、1−トリク
ロルエタンを用い18℃で30秒間スプレー現像した。
現像後、40℃で10分間加熱乾燥し、東芝′fiL拐
製紫外線照射装fiを使用し、50J /cnt2で照
射した。その後150℃で1時間加熱処理した。fJら
れた保膜被膜は厚さ16 Q Irmで約1幅40μm
の庁r像力を治しており、耐トリクレン性、電気絶縁性
、耐熱性等の特性も代れ℃卦り、永久保護被膜として用
い得るものであった。
製紫外線照射装fiを使用し、50J /cnt2で照
射した。その後150℃で1時間加熱処理した。fJら
れた保膜被膜は厚さ16 Q Irmで約1幅40μm
の庁r像力を治しており、耐トリクレン性、電気絶縁性
、耐熱性等の特性も代れ℃卦り、永久保護被膜として用
い得るものであった。
実施例4
トリメチルへギサメチレンジイソシアナート7′シクロ
−・ギザフジメタノール/2−ヒドロギシエチルアクリ
レー) (1/ 0.1 / 1.9モル比)反応物
・・・・・・・・・ 80部 無水フタル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、エ
ピクロルヒドリンから合成した実施例1で用いた式〔l
l)の化合物 ・・・・・・・・・ 10部エボライ)
1600(共栄社油脂化学工業@製氷添ビスフェノール
A型エポキシ樹脂)・・・・・・・・・ 10部 ベンゾフェノン ・・・・・・・・・ 2.’lBミヒ
ラーケトン ・・・・・・・・・ 0.1部p−メトキ
シフェノール ・・・・・・・・・ o、i部ビクトリ
アピュアブルー ・・・・・・・・・0.02 部上記
配合で粘度約70ボアーズ(25℃)の感光性樹脂組成
物を調製し、実施例1と同様にして。
−・ギザフジメタノール/2−ヒドロギシエチルアクリ
レー) (1/ 0.1 / 1.9モル比)反応物
・・・・・・・・・ 80部 無水フタル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、エ
ピクロルヒドリンから合成した実施例1で用いた式〔l
l)の化合物 ・・・・・・・・・ 10部エボライ)
1600(共栄社油脂化学工業@製氷添ビスフェノール
A型エポキシ樹脂)・・・・・・・・・ 10部 ベンゾフェノン ・・・・・・・・・ 2.’lBミヒ
ラーケトン ・・・・・・・・・ 0.1部p−メトキ
シフェノール ・・・・・・・・・ o、i部ビクトリ
アピュアブルー ・・・・・・・・・0.02 部上記
配合で粘度約70ボアーズ(25℃)の感光性樹脂組成
物を調製し、実施例1と同様にして。
優れた永久保護被膜を得た。
実施例5
アロエックスM6200(東亜合成化学工梁■製オリゴ
エステルアクリレート)・・・・・・・・・ 50部ア
ロエックスM8060(東亜合成化学工朶■製オリゴエ
ステルアクリレート)・・・・・・・・・ 10部無水
フタル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、エピク
ロルヒドリンから合成した式[JII]の化合物 ・・
・・・・・・・ 20部アラルダイm1(CNI 23
5 (チパ社製ノボラック型エポキシ樹脂) ・・・・
・・・・・ 20部2−ニゲルアントラキノン ・・・
・・・・・・ 3部X)−メトキシノエノール ・市川
・・ o、imビクトリアピュアブルー ・・山・川0
.02 部上記配合で粘度70ボアーズ(25℃)ノ感
光性樹脂組成物を調製し、実施例1と同様にして優れた
永久保護被膜を得た。
エステルアクリレート)・・・・・・・・・ 50部ア
ロエックスM8060(東亜合成化学工朶■製オリゴエ
ステルアクリレート)・・・・・・・・・ 10部無水
フタル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、エピク
ロルヒドリンから合成した式[JII]の化合物 ・・
・・・・・・・ 20部アラルダイm1(CNI 23
5 (チパ社製ノボラック型エポキシ樹脂) ・・・・
・・・・・ 20部2−ニゲルアントラキノン ・・・
・・・・・・ 3部X)−メトキシノエノール ・市川
・・ o、imビクトリアピュアブルー ・・山・川0
.02 部上記配合で粘度70ボアーズ(25℃)ノ感
光性樹脂組成物を調製し、実施例1と同様にして優れた
永久保護被膜を得た。
1
H
実ろ例6
アロエックスM6100(東亜合成化学工業(…製オリ
ゴエステルアクリレート)・旧・・・・・ 40 部ト
リメチロールプロパントリアクリレート・・・・・・・
・・ 20部 無水フタル酸、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
エピクロルヒドリンから合成した実施例1で用いた式〔
■〕の化合物 ・・・・・・・・・ 1o部アラルダイ
)ECN1280(チバ社製ノボラック型エボキ7樹脂
) ・・・・・・・・・ 30部ベンゾンエノン °旧
旧°2.7部 ミヒラーケトン ・・・叩・・0.3部p−メトキシフ
ェノール ・・・・・聞o、1部ビクトリアピュアブル
ー 叩用・・0.02部上記配合で粘反約100ボアー
ズ(35℃)の感光性樹脂組成物を調製し、実施例1と
同様にして優れた永久保欣Mを得た。
ゴエステルアクリレート)・旧・・・・・ 40 部ト
リメチロールプロパントリアクリレート・・・・・・・
・・ 20部 無水フタル酸、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
エピクロルヒドリンから合成した実施例1で用いた式〔
■〕の化合物 ・・・・・・・・・ 1o部アラルダイ
)ECN1280(チバ社製ノボラック型エボキ7樹脂
) ・・・・・・・・・ 30部ベンゾンエノン °旧
旧°2.7部 ミヒラーケトン ・・・叩・・0.3部p−メトキシフ
ェノール ・・・・・聞o、1部ビクトリアピュアブル
ー 叩用・・0.02部上記配合で粘反約100ボアー
ズ(35℃)の感光性樹脂組成物を調製し、実施例1と
同様にして優れた永久保欣Mを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a) 末端エチレン基を少なくとも2個有する光
重合性化合物の少なくとも1種 Cbl 式(Illで表わされる化合物〔式中Zは環式
二塩基酸残基+ R’は炭素数1〜3のアルキレン基I
R2は水素原子又はメチル基、Xは塩素原子又は臭素
原子である。〕の少なくとも1種(C1エポキシ基を有
する化合物の少なくとも1種および (d) 活性jt線により遊離ラジカルを生成する増感
剤または(および)増感剤系を官有してなる感光性樹脂
組成物。 2、(al 末端エチレン基を少なくとも2個有する光
重合性化合物の少なくとも1種を20〜90*鮨1部 tbl 式〔l〕で表わされる化合物f40〜5市鄭部
および (C1エポキシ基を表か会曇←H補する化合物の少なく
ともl J’+N、 e 40〜53N、’、 yJi
部とした請求の範囲第1埃記載の感光性樹脂組成物。 3、末端エーノーレン基を少なくとも2個・hする光重
合性化合物が、(イ)トリメチルへキザメグーレンジイ
ソシアナート、(ロ)2価アルコールのアクリル曹モノ
ニスデル又はメタクリル酸モジエステル史に場合により
(ハ)2価アルコールを反応させてイ!すられるウレタ
ンジアクリレート化合物又はウレタンジメタクリレート
化合物である’Nrs’r請求の範囲第1項または第2
項nI兄1(の感光性41IJ脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11545883A JPH0244056B2 (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | Kankoseijushisoseibutsu |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11545883A JPH0244056B2 (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | Kankoseijushisoseibutsu |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS607427A true JPS607427A (ja) | 1985-01-16 |
| JPH0244056B2 JPH0244056B2 (ja) | 1990-10-02 |
Family
ID=14663047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11545883A Expired - Lifetime JPH0244056B2 (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | Kankoseijushisoseibutsu |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244056B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01105240A (ja) * | 1987-07-09 | 1989-04-21 | Mitsubishi Electric Corp | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
| WO2009147913A1 (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法 |
| US8460852B2 (en) | 2008-04-28 | 2013-06-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern and method for manufacturing printed wiring board |
| CN109929430A (zh) * | 2019-04-03 | 2019-06-25 | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 | 一种抗水解的光纤外涂层涂料 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19547236A1 (de) | 1995-12-18 | 1997-07-03 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von D,L-Methionin oder dessen Salz |
-
1983
- 1983-06-27 JP JP11545883A patent/JPH0244056B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01105240A (ja) * | 1987-07-09 | 1989-04-21 | Mitsubishi Electric Corp | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
| US8460852B2 (en) | 2008-04-28 | 2013-06-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern and method for manufacturing printed wiring board |
| WO2009147913A1 (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法 |
| US8460853B2 (en) | 2008-06-02 | 2013-06-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element, resist pattern manufacturing method, and printed circuit board manufacturing method |
| CN109929430A (zh) * | 2019-04-03 | 2019-06-25 | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 | 一种抗水解的光纤外涂层涂料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0244056B2 (ja) | 1990-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107250198B (zh) | 含羧基树脂、感光性树脂组合物、干膜、印刷布线板以及含羧基树脂的制造方法 | |
| EP2781530B1 (en) | Carboxyl-containing resin, resin composition for solder mask, and method of preparing carboxyl-containing resin | |
| JP7479130B2 (ja) | エポキシアクリレート樹脂、アルカリ可溶性樹脂、それを含む樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP6391121B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
| WO2017125966A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
| KR101900355B1 (ko) | 드라이 필름 적층체 | |
| JP6478351B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | |
| JP6767090B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、プリント配線板、支持体付きドライフィルム、及び多層プリント配線板 | |
| JP2025020271A (ja) | エポキシアクリレート樹脂、アルカリ可溶性樹脂、それを含む樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP2017191204A (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
| WO2016121395A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
| JP2020144374A (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
| US6432613B1 (en) | Photosensitive composition | |
| JP2017129687A (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
| JP2017161636A (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
| TW201937288A (zh) | 感光性樹脂組成物、乾膜及印刷線路板 | |
| JP6272372B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板 | |
| JP2002308964A (ja) | 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 | |
| JPH02261862A (ja) | 光重合性樹脂組成物 | |
| JPS61264341A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0244056B2 (ja) | Kankoseijushisoseibutsu | |
| JP6172816B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及び感光性樹脂組成物の製造方法 | |
| JP2002196486A (ja) | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板 | |
| JPS61264340A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0223351A (ja) | フォトソルダーレジスト組成物 |