JPS6076042A - 光デイスク用マスタ−の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は元ディスク用のマスターの製造方法に関するも
のである。

（従来技術） 近年Ｖ−ザー技術の長足の進歩により１元によ！７情報
を記録再生することが可能となり、最近では元ディスク
の研究開発が盛んに進められて８９、今や実用化の段階
に至っている。この元ディスクは、小型にして高密度の
記録が可能であること、ランダム・アクセス機能が優れ
ていることなど、種々の利点を有し、将来的には情報記
録の媒体として中心的な存在となることが予想される。

この元ディスクは、大別すると、ビデオディスク或いは
コン／セクトディスクに代表される再生専用の元ディス
ク（以下単に［再生専用型光ディスク」という。）と、
通常元メモリディスクと呼ば九ているユーザーが自由に
情報を記録することができる元ディスク（以下単に［記
録可能型光ディスク」という。）とがめる。前者の再生
専用型光ディスクは、映像或いは音声等の情報が微細な
凹凸（以下単に「ピント」という。）の形で記録され′
ｆｃ元ディスク用マヌター（以１単に「マスター」とい
う。）を母型とし、この母型から金型を作製し、この金
型でアクリルなどの樹脂板をプノス丁ることにより通常
のリコード盤と同様の方法により製造さｎる。−万後者
の記録可能型元ディスクは、トラッキングのためのブリ
・グループと呼ばれる同心円或いは渦巻状の案内溝が形
成されて成るマスターを母型とし、この母型から金型を
作製し、この金型でアクリルなどの樹脂板をゾＶスする
ことにより案内溝を有する樹脂板を形成し、次いでこの
樹脂板上に記録層を設けて製造される。

このように利用目的の異なり′ｆｃ２つのタイプの元デ
ィスクがあるが、何れの元ディスクを得る場合にもマス
ターを必要とし、このマスターにビット或いは案内溝を
正確に設けることが要求される。

斯かるマスターの製造方法としては、基本的にはガラス
などよりなる基板上に記録層ｆ：設け、この記録層に高
密度エネルギービームを照射して記録すべき情報に基い
た露光を行なう方法が採用されている。具体的には、例
えば第１図に示すように、ガラス製基板ｌ上に感光性樹
脂層２を設けてマスター用基材３を構成し、このマスタ
ー用基材３の感光性樹１１＆Ｊｍ２の露出面に直接高密
度エネルギービームを照射して記録すべき情報に基いた
露光を行ない、その後感光性樹脂層２を現像してビット
または案内溝を形成する方法がある（特開昭４９−９３
００２号参照）。この方法にぢいては、感光性樹脂層２
が記録層に４１白し、この感光性樹脂層２に高い精度で
しかも高密度の情報を記録するためには、高密度エネル
ギービームを感光性樹脂層２の露出面上に常に正確に集
光してスポット径が小さくしかもエネルギー密度の高（
・ビームスポットを形成することが必要であり、このた
め高密度エネルギービーム発生装置には通常高密度エネ
ルギービームの焦点位Ｉｆｆ　ｋ　、ｉ７・’、ｌ整す
るフォーカスサーボ機構が設けられている。このフォー
カスサーボ＋ｊ＆椙は通常感光性樹脂層２の露出面から
の反射光を検出して焦点の位＠調整を自動的に行なうよ
うにしているが、感光性樹脂層２は七の目的からして光
吸収性のよいものであるため、こむよりの反射光の強度
は小さく、従って７万一カスザーｄ？機構を高い精度で
駆動することが相当に内錐であり、形成されるビットま
たは案内溝は形状精度の劣ったものになり易いという欠
点を有している。

これに対して、例えば第２図に示すように、ガラス製基
板ｌ上に純金属または金属の合金などより成る金属層４
を設けて７７ター用基材５を構成し、このマスター用基
材５の金属層４の鈷出面に直接高密度エネルギービーム
を照射して記録子べ。

ぎ情報に基いた露光を行ない、当該金粍層４の露光部分
に熱的変形を与えることによりビットｆたは案内溝を形
成する方法、があ、る　（特開昭５０−２４１５号、特
開昭５２−１０８８０３号参照）。この方法に８いては
、金妨層４が記録層に相当し、この金属Ｎ４は金属より
成るためその露出面の反射率が高くて反射光の強度は充
分となり、従ってフォーカスサーボ機構ＶＣＬる焦点位
置の調整は冒い精度で行なうことができるが、反面、ビ
ントスたは案内溝は金属層４の熱的変形により形成され
るため、その制御は充分に行なうことが困難であり。

高密度エネルギービームの制御は充分であっても、結局
形成されるビン）１′ｆｃは案内溝は形状精度の劣った
ものとなる。また金属層４に熱的変形を与えるためには
、／ぞワーの大きい高密度エネルギービームが必要とさ
れ、記録層が感光性樹脂である場合に比べて高密度エネ
ルギービーム発生装置が大型で高価にな９、しがも消費
屯カが大ぎくな９経済的なデメリットも太き（・。

また第３図に示すように、ガラス製基板ｌ上に感光性樹
脂層６ｔｌ−設け、更にこの上に金属層７ｔ−設けてマ
スター用基材８を構成し、このマスター用基材８の金國
層７の露出面に高庇゛度エネルギービームを照射して記
録子べぎ情報に基いた露光を行ない、百該金用層７の露
光部分をヒートモードにより除去して当該金槻層７に前
記情報に基いたマスク・ぞターンを形成し、久いでマス
ター用基材８の金属層７側の全体全水銀シンゾなどの元
源により一様露尤し、その後金焉層７を除去し、感光性
樹脂層６を現像し゛こ′５′ｅを受けた部分或いは元を
受けなかった部分の何れが一方を除去して当該感光性樹
脂層６にピントまたは案内溝を形成する方法がある（特
開昭５７−２０８６４６号）。Ｃの方法によれば、金栢
層７まりの反射光め強度は充分となるからフォーカスチ
ーが機構による焦点位置の調整は高い精度で行なうこと
ができるが、金属層７にヒートモード方式によりマスク
Ｉｅターンを形成する際には、感元性樹脂層６に損傷を
与えずに金賄層７の露光部分のみを除去することが必要
であり、従って高密度エネルギービームを照射する際に
は相半精密なエネルギー制御が要求され、この結果高密
度工ｉルギービーム発生装置として高性能で高価なもの
が必要とさｎる欠点がある。

また上記何れの方法においても、金属層または感光性樹
脂層の露出面に焦点を合せて高密度エネルギービームを
照射するようにしているため、当該露出面にほこりなど
が付着している場合には、高密度エネルギービームが散
乱されていわゆるドロップアウト（記録欠如）の現象が
生じ、記録すべき情報に忠実なマスターが得られない問
題点を有している。

（発明の目的） 本発明の目的は、上述のような問題点を有せず、比較的
低／９ワーのエネルギー源による高密度エネルギービー
ムにより、記録子べぎ情報が高密度でしかも忠実に記録
さｎたマスターを得ることができる元ディスク用マスタ
ーの製造方法を提供することにある。

（発明の構成） 上記の目的は、透元性基板土に感光性樹脂層を設けて更
にこの感光性樹脂層上に金属層を設け、高密度エネルギ
ービームを前起基板側から前記感光性樹脂層に照射して
記録子べき情報に基いた露光を行ない、露光後前記金属
層を除去した後前記感光性樹脂層を現像して肖該感九性
樹脂層に前記情報に基＜・ソターンを形成することを特
徴とする元ディスク用マスターの製造方法によって達成
される。

以下図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。

本発明においては、例えば第４図に示すように、透明な
ガラスなどより成る送元性基板９上に、例えばポジ型フ
ォトレジストなどより成る感光性樹脂層１０ｔ−設け、
更にこの感光性樹脂層１０上に金属層１１を設けて、マ
スター用基相１００を構成する。

次に第５図に示すように、レーザー元などの高密度エネ
ルギービームを前記マスター用基材１００の送元性基板
９側からＷＡ元性樹脂層ｌＯに照射して記録子べさ情報
に基いた露光を行なう。

露光終了後、前記金属層１１を除去して男６図に示すよ
うに感元性樹脂層ｌＯの裏面１２を露出させ、次いでこ
の感光性樹脂層ｌＯを現１＃！液により現像して、当該
感光性樹脂層ｌＯに、第７図に示すように、ビット１３
　（または案内溝）より成る／ぞターンを形成し、もっ
て元ディスク用マスターを得る。

前記送元性基板９としては、透明なガラス板が好ましい
が、ポリメチルメタアクリレートなどより成るアクリル
系の透明樹脂板を用いることもできる。この送元性基板
９の厚さは通常１−＝＝　１０■程度であり、高密度エ
ネルギービームの透過性の良好なものがよい。

前記感光性樹脂層ｌＯとしては、ポジ型！７（＃′ｉ。

ネガ型のフォトレジストを用いることができ、こみうち
解像度の優れている点でポジ型の７万トＶシストが好ま
しい。このポジ型のフォトレジストは１通常未感元の部
分はアルカリ溶液に不溶であるが、紫外領域の波長を含
むエネルギービームにより感光した部分はアルカリ溶液
に可溶になるという特性を有し℃いる。従ってポジ型の
フォトレジストソ用い′ｆｃ場合には、感元部分が除去
されそこにビットまたは案内溝が形成される。このよう
なポジ型のフォトレジストとしては５例えばナフトキノ
ンジアジド、環状スルホニワム過塩素ｒＩ１．塩、キノ
リンキノンアジド化合物などを用いたものが知られて８
り、具体的には、米国シラグレイ社製のＡＺタイプ、米
国イーストマン・コダソク社製のＫＯＲタイプ、または
東京応化社製のＯＦｔ’ｌｔＪイゾなどが市販されてい
る。−万ネガ型のフォトレジストを用いた場合には、感
光した部分が現像液に不溶となり、未感光部分が現像液
により除去されてそこにビットまｆｃは案内溝が形成さ
れる。

このようなネガ型のフォトレジストとしては１例えばプ
リビニルアルコール−クイ反酸エステル、ホリビニルア
ルコールーシンナミリ７’　７　酸エフ、　ｆル、環化
ゴム−ビスアジド、元硬化性ナイロンなどを用いたもの
が仰られてｊｏす、具体的には、米国イーストマン・コ
ダック社裂のＫＰ）Ｌ、ＫＭＥＲ。

ＫＦＩ）ｔタイプ、または東京応化社製のＯＭＲタイプ
などが市販されている。

この感光性樹脂層ｌＯを透光性基板９上に設（する方法
としては、スピナー塗布法などにより塗布し′ｔｃ後、
乾燥する方法、その他通常用いられている方法全適用す
ることができる。この感光性樹脂層ｌＯの厚さは形成丁
べぎピットまたは案内溝に必要とされる深さに応じて決
められるが、通常は０．０５〜０．１５１１ｍ　程度で
ある。

前記金属層１１に用いる材料としては、例えばＭｇ、　
Ｓｃ、　Ｙ、　Ｔｉ　％Ｚｒ、Ｈｆ　、　Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ。

Ｃｒ、　Ｍｏ、　ＳＪ　Ｍｎ、　Ｒｅ、Ｆｅ、　Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ。

Ｒｈ％Ｐｄ、Ｉｒ％ＰＬ、　Ｃｕ、　Ａｇ、　Ａｕ、　
Ｚｕ、　Ｃｄ。

ＡＩ、Ｑａ、Ｉｎ、　Ｓｉ、　Ｇｅ、Ｔｅ、　Ｐｂ、　
Ｐｏ、　Ｓｎ。

Ａｓ％Ｓｂ、　Ｂｉ　、　Ｓｅなどの単体、またはＣれ
らの合金などを挙げることができる。この金属層１１の
材料としては、毒性が少なく、酸化されに（＜。

膜形成性能が優れ、しかも感光性樹脂層１０の種類との
関係に８いて好ましい金属層除去液を選択することがで
きるなどの条件を兼ね具えたものが好ましい。例えば感
光性樹脂層ｌＯとしてポジ型フォトＶシストを用いる場
合には、後述するように現像液としては通常アルカリ溶
液を用いるため。

金属層除去液としてはアルカリ溶液以外の例えば中性溶
液を用いることが望ましく、この点から後述する特定の
中性溶液に可溶な銀を金属層１１の材料に用いることが
好ましい。また感光性樹脂層ｌＯのａ類との関係に３い
て金属層除去液として希硝酸などの酸化力のめる酸を支
障なく用いることがでさる場合には金属層１１の材料と
じ又、銅、〕Ｒラジウム、クロム、Ｖニクムなどを好”
ｆＬ＜用いることができる。こ几に対して、例えば感光
性樹脂層ｌＯとしては好ましいポジ型のフオ）Ｖシスト
を用いる場合に？いて、金属層１１をアルミニワムとス
ズとの合金により形成した場合には、金属層１１ｉアル
カリ溶液で除去することはできるが、後述するように現
像工程にどいて好１しくない現象が生ずる。以上の金属
層１１は、例えば蒸着、ス・七ツタリング、イオンブレ
ーティングなどの通常用いられている薄膜形成技術によ
り形成することができる。

＋ 前記高密度エネルギービームとしては、Ａｒ　レーザー
、Ｋｒ　レーザー、Ｈｅ−Ｃｄｖ−ザー　などのンーザ
ー元を好１しく用いることができる。高密度エネルギー
ビームは感光性樹脂層の感光特性に基いて選択される。

高密度エネルギービームの発生装置としては例えば第８
図に示すような構成のものを用いることができる。第８
図に？いて、１４はＶ−ザー発振器、１５．１６はプリ
ズム、１７は変調器を内蔵した光学回路、１８は偏元器
、１９はピックアップ、１００はマスター用基材％　２
０は回転用モータである。尚図示はしていないが、高密
度エネルギービームの焦点位置を自動調整するフォーカ
スチーゲ機構が設けられて８９．マスター用基材１００
の透光性基板９側から金Ｕ＊１１−へ検出用元を照射し
、この金属層１１よりの反射光を検出することにより高
密度エネルギービームの焦点が常にマスター用基材１０
０の感光性樹脂層ｌＯの透光性基板９との界面に位置す
るよう制御される。この発生装置に、妄いては、Ｖ−ザ
ー発振器１４よりのＶ−ザー元が光学回路１７ｖｃおい
又。

音声信号、映像信号、トラッキング信号などの記録子べ
ぎ信号により変調さｎ、この変調さｎ’ｆＣ高密度エネ
ルギービームがピックアップ１９より発生される。この
高密度エネルギービームによる露光に？いては、マスタ
ー用基材１００を回転用モータ２０により定速度で回転
せしめながら、高密度エネルギービームを、マスター用
基材１００の透光性基板９側から感光性樹脂層１０に照
射して行なわれる。

高密度エネルギービームによる蕗ｙ０処理彼にゴロ（シ
イＩ自ｌφべ１Ｉ４１１１ＩＩ（キリノ＾メＬｔｒ１４
．ｌ＋１＋、＋＋、、’ｌＩＩ＋％’は透光性基板９及
び感光性樹脂層１０に悪影響を与えずに金属層１１’１
ｍ除去することが好ましい。

金属層除去液としては金属層１１を溶解する溶液が用い
られ、例えばアルミニウムとスズとの合金にエフ金属層
１１を形成した場合には、アルカリ溶液により当該金属
層１１を除去することができる。またこのとぎアルカリ
溶液に可溶でらろポジ型のフォトンシストにより感光性
樹脂層１０を形成しである場合には、金掲層１１の除去
に用いるアルカリ溶液により金属層１１の除去と感光性
樹脂層ｌＯのｌ！Ｊ像とを併せて行なうことができるの
で処理工程の簡略化を図ることができる利点が得られる
が、反面同一のアルカリ溶液にｘ、！７金属層１１の除
去処理とＷ＆元注性樹脂層１０現像処理の２つの処理を
同時ＶＣ−ｆ４足しなければなうな（・が、そのような
処理は相半に困難であり、このため感光性樹脂１−１０
に膜減り、剥離などの損傷が生じ易く、しかも当該アル
カリ土類金属層１１の金属が溶出さｎるため％労咳アル
カリ溶液の疲労が激しくて繰り返し使用が困難であると
いう問題点を生じ易い。

これに対して、銀を用いて金属層１１を形成した場合に
は、１把第１表に示す組成のブリーテ・フィクス液（以
下単に「ＢＦ液」という。）ＶＣより当該金属層１１を
容易に除去することができ、しかもこのＢＦ液は中性溶
液であるため、感光性樹脂層ｌＯ及び送元性基板９に損
傷を与えることなく金属層１１の除去処理を達成できる
。またこのＢＦ液による金属層除去処理は後の感光性樹
脂層１０の現像処理とは分離し１行なうこととなるため
、上述のようにアルカリ溶液を用いた場合に生じ易い問
題点は生ずることがない。

第　１　表 感光性樹脂層１０の現像処理１ｃｊｃｆいては、感光性
ｍ脂層１０の物性に応じて現像液が選択されるが、感光
性樹脂層ｌＯがポジ型のフオ）Ｌ／ジスト工９成る場合
には現像液として通常用いられているアルカリ溶液を用
い、感光性樹脂層ｉｏの感光部分を溶解除去して現像が
達成さｎ、これに、ｒ、ｇ当該感光性樹脂層ｉｏにビッ
トｆ瓦は案内溝より成る・ぐクーンが形成される。既述
のようにアルカリ再啓性の金属層１１とポジ型のフス′
ドアシストより成る感光性樹脂層ｌＯを組み合せた場合
には、アルカリ溶液により金属層１１の除去処理と感光
性樹脂層ｉｏの現像処理が連続して行なわｎることとな
９、既述のような問題点が発生するので、半載現像処理
は金Ｍ層１１の除去処理とは分離してできることが望ま
しい。従って金属層１１として銀を用いた場合には、既
述のように金属層１１の除去処理を感光性樹脂層１０に
損傷を与えることなく行なうことができるので、現像処
理工程に３いては、金属層１１の物性とは無関係に感光
性樹脂層１０の感光特性に基いて最適な現像液を選択す
ることができ、現像液の調整または現像時間の調整など
の現像処理条件の設定も容易となり。

この結果良好な現像処理′ｆＩ：達成することができる
。

しかもこのように現像処理を金属層１１の除去処理と分
離して行なう場合には、分離しない場合に発生する合間
の溶出による現像液の疲労という問題点が生ぜず、従っ
て現像液の複数回に亘る繰り返し使用が可能となり経隘
的なメリットが大きい。

（発明の効果） 本発明方法にＪ−ｆｌは次のような効果が得られる。

送元性基板上に順に感光性樹脂層及び金属層金膜けてマ
スター用基材を構成し、このマスター用基材の送元性基
板側から高密度エイ・ルギービームを感光性樹脂層に照
射して露光を行なうため、高密度エネルギービームの焦
点位置の調整ＶＣ２６いて、前記金属層により良好に反
射さｔ′Ｌｆ？：、強度の大きい反射光を検出元として
使用できるため、フ万一カスチーが機構などＶＣ，Ｊ：
る焦点位置の自動調整を精密に行なうことが可能となり
、この結果露光時には高密度エネルギービームの焦点が
感′ＭＳ注樹脂層面上に常ＶＣ確実に位置さｎるように
なり、結局ピントずたは案内溝の形状精度が格段に優れ
たものとなり、記録子べぎ情報が忠実に記録されたマス
ターを得ることができる。−！た露光時に送元性基板の
露出面に仮りにほこりなどの汚れが付着している場合が
あっても、高密度エネルギービームの焦点はＷ＆元注性
樹脂層面上位置されていることから、汚れに対してはい
わゆるアウトフォーカスとなるので汚れによる影響はほ
とんど受けることなく所期の雄性を達成することがでさ
、結局汚れに起因する欠陥が住することを抑止すること
ができる。また上述のように高密度エネルギービームは
その焦点が感光性樹脂層面上に常に確実に位置さｎるた
め、ビームスポット径を充分小さくすることができ、従
つ″′Ｃ従米従来してエネルギー源の・ぐワーが小さく
ても従来と同等のエネルギーの高密度エネルギービーム
とすることができ、この結果高密度エネルギービーム発
生装置の小型化及び消費電力の節約を図ることができ、
マスターを有利に製造すること、ができる。

ｆだ金属層を銀により形成した場合には次のような効果
を併せて得ることができる。

銀は酸化されにくいため、金属層の形成工程にＳいて高
真空度を必要とせず、しかも膜形成性能が優れているの
で比較的簡単に金属層を形成することができる。また金
属層の除去処理は既述のようにＢＦ液で容易に行なうこ
とができると共に当該ＢＦ液は中性溶液であるので感光
性樹脂層または送元性基板に損傷を与えることがない。

また感光性樹脂層の現像処理は金属層の除去処理とは分
離して行なうこととなるので現像処理条件全通正に定め
ることが容易となり、感光性樹脂層を損傷せしめること
なく良好な現像を達成することができる。丁たこのよう
に現像処理を金稠層の除去処理とは分離しｆＣ状態で行
なうので、金属の溶出による現像液の疲労という問題点
が生ぜず、現像液の複数回に亘る繰り返し使用が可能と
なり現像処理を有利に行なうことができる。

（実施例） 実施例１ 直径３０　ｃｍ　１厚さ１．２１１１１１のポリメチル
メタアクリレートより成る送元性基板上に、ポジ型のフ
ォトレジストｊＡＺ−１３５０Ｊ　（米国シップＶイ社
胸）をスピナー塗布法にょｐ塗布し、乾燥して厚さ７０
０λの感ｔｔ性樹脂層を形成した。この感ｙｔ、性樹脂
層上に銀を膜厚１ｏｏＸとなるよう蒸着して金属層を形
成し、もってマスター用基材を炸裂した。

このマスター用基材をその中心を軸として回転数９００
ｒｐｍ　で回転させた状態で、Ａｒ”Ｖ−デー・ビーム
（波長４８８１ｍｍ、ビームスポット径Ｌ２＃７７！。

エネルギー５０　ｍＷ　）を記録信号によＶ＆調させな
がら、透性性基板側から感光性樹脂層に照射して窯元処
理を行なった。

露九後、マスター用基材′にゐ度２０’ＣのＢＦ液に６
０秒間＆潰させたところ、全極層は完全に溶解除去され
た。

次にマスター用基材を温度２５℃のＶシスト用現ｇＲａ
に６０秒間浸漬したところ、感性性情脂層の感光部分の
みが溶解除去されてビット及び案内溝が形成されたマス
ターを得Ｔｃ０ このマスターを走査型電子顕微鏡で観察したところ、感
光性樹脂層にはエツジの明瞭なビット及びレリーフ状の
案内溝が形成さｎてぃた。

また以上と同様にして、レリーフ状の案内溝及び検査用
のビットが形成されたマスターの異面側にス・七ツタリ
ング法により厚さ１００Ａのニッケル膜を設けたうえ、
このマスターを回転数１８０Ｏｒｐｍで回転させた状態
で、Ｈｅ−Ｎｅｖ−デー（波長６３２８Ａ、ビームスポ
ット径１２μｍ、エネルギー２　ｍＷ　）　Ｋより記録
された信号を読み出し、この読み出し元を読み出しヘッ
ドの内部のＶンズにまり集注し、この元を前記マスター
のニッケル膜弐面に照射し、検査用ピッ）（２ＮＨ４）
からの反射光を検出し、２ＭＨｚ近傍でのＳＮ比を測定
した。得られたＳＮ比は４０ｄＢであった。このように
マスター忙反射性を付与してＳＮ比を測定することによ
ってもエツジ形状の良否を判定することができる。

比較例１ 実施例ＩＫ：Ｆ＋５いて、金属層を設けないマスター用
基材を用いた以外は同様にしてマスターを製造したとこ
ろ、ＳＮ比は２０ｄＢ以１と惚めて低かった。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図はそれぞ：ｎ従来の製造方法を示す説明
図、第４図〜第７図は本発明の表遣方法の一例を工程順
に示す脱ＢＡ囚、第８囚は高密度エネルギービーム発生
装置の一例を示す説明図である。 ｌ・・・ガラス裂基板　２，６・・・感性性樹脂層３．
５．８・・・マスター用基材 ４．７・・・金属層　９・・・送元性基板ｌＯ・・・感
光性ｍ脂層　１１・・・合間層１００・・・マスター用
基材　１３・・・ピット１４・・・Ｖ−デー発振器　１
７・・・元学回路勿１図 第２図 第４因 孝５Ｎ 第７図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ）送元性基板上に感光性樹脂層を設けて更にこの感光
   性樹脂層上に金属層を設け、高密度エネルギービームを
   前記基板側から前記感光性樹脂層に照射して記録子べぎ
   情報に基いた露光を行ない、露光後前記金属層を除去し
   た後前記感光性樹脂層を現像して当該感光性樹脂層に前
   記情報に基く・ξターンを形成することｔ−特徴とする
   元ディスク用マスターの製造方法。 ２）金属層が実質的に銀より成ることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の元ディスク用マスターの製造方
   法。