JPS6076746A - 露光マスクの修理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 である基板上に設けられており、且つ使用する露光用放
射光に対し非透過性であるマスク構造体を有する露光マ
スクの修理方法で、該露光マスクの修理すべき面を使用
する露光用放射光に対しシＩ−透適性である材料で被覆
する際、被覆を要しない面をマスキングしておき乍ら、
被覆すべき露光マスク面を自触媒的に作用する浴より無
電金属付着法で金属化する露光マスクの修理方法に関す
るものである。

露光マスクは、トランジスタ、ダイオードまたは集積回
路のような、例えば電子素子の製造において要求される
。これら素子に関して特性値は、半導体本体に設けられ
る金属化の被着面積や寸法により、またある場合には半
導体本体に設けられる異なる導電形領域の、例えばマス
キンク層を用いての拡散によって得られるパターンによ
り、その大部分が決定される。この為、極めて高度の精
度が金属化する際や上記導電形領域を設ける際に要求さ
れる。更に、所望パターンを設ける為に使用すべきマス
クは、数回使用できるような強度を有していなければな
らない。これら理由により、かかる目的に要求される精
度を伴って任意形態の光学マスクを製造することは、技
術的に複雑であり、また比較的費用の掛ることである。

実際には、最適結果はマスクができるだけ平形である場
合に得られることが分った。マスク構造体は、マスクを
数回使用できるように耐摩耗性でなければならないが、
また同時に該マスクは、鮮明に画成された像かががるマ
スク構造体を介して放射感応性ラッカ一層上に表示され
るように正確に鋭角としなければならない。

露光用放射光に対し透過性である基板上に薄膜パターン
形態でマスク構造体を有するマスクは、特にこれら性質
を有する。かがる薄膜パターンは、薄膜技術で知られた
技術、例えば蒸着またはカソードスパッタリングにより
基板に被着される。

しかしこれら製造法においては、マスク構造体が露光用
放射光に対し局部的に透過性となり、また孔（所謂ピン
ホール）により光学的必要条件が満たされなくなる場合
が起こり得る。マスクの製造は複雑で、従って費用が扛
）る為に、かかる欠陥マスクを直ちに不合格品とみなさ
ず、欠陥部分を修理することによりマスクを使用に適し
た状態にし得ることを確実ならしめるような方法を見い
出ずことが実際に試みられてきた。

最初に述べた方法は米国特許第４．２００．６６８号明
細書に開示されており、この方法は無電金属付着法によ
り、特にクロムまたはニッケルを、例えばクロムの修理
すべきマスク構造体の面上に堆積させるものである。

特にガラス板をマスク構造体用の基板として使用した場
合には、クロムまたはニッケルで修理されたマスク構造
体の面は大量生産において、実際の使用に必要な高い耐
摩耗性を示さないことが分った。即ち、修理した面の耐
摩耗性は、例えばカソードスパッタリングまたは真空蒸
着により基板に被着された初期マスク構造体の耐摩耗性
よりも低かった。この耐摩耗性が低いという欠点は、例
えばマスク構造体におけるピンポール形態の欠陥部を修
理するだけでなく、マスク構造体を他の構造要素で更に
完全なものとする必要が生じてくる為に、更に大きな問
題を生じることになる。

本発明の目的は、マスク構造体を修理面が少なくとも初
期のマスク構造体の耐摩耗性と等しい耐摩耗性を有する
ように修理および／または完全なものとすることができ
るように、最初に述べた方法を改善することにある。

本発明においては、この目的は銀を被覆すべき面上に堆
積させることにより達される。

無電解金属付着法により、特にガラス基板上に堆積した
銀層は、驚くべきことに極めて高い耐摩耗性を有するこ
とが見い出された。また、得られた修理面は完全に光を
透過させないことが分った。

尚この為に、修理した面を１０００倍の強度の光で検査
した。自触媒的に作用する浴により堆積された銀の耐摩
耗性が高いのは、銀の再結晶作用により銀層の硬化（ｑ
ｕａｓｉ　ｃｕｒｉｎｇ）が堆積後に起こり、同時に被
着に有利な被着相互作用が特にガラスと銀との界面間で
起こるという事実による為である。

薄金属層を化学的に被着させた場合は、無孔の被着層を
得るのに、また堆積がなされるべき基板を（該基板を増
感させる為に）化学的に予備処理して化学的な金属付着
法に必要な結晶核を生せしめることだけでなく　（粗）
堆積面を化学的に予備処理して活性的な結晶化手段をそ
の後の処理の為に設けるのにも特に有効であると考えら
れる。本発明は、堆積がなされるべき表面の機械的予備
処ＪＪ（が不必要であるにもかかわらず修理面の範囲内
において、無孔耐拡散性であって延性であり且つ良好な
被着性故に耐摩耗性であるコープインクが（４ｊられる
といった事実を確かめ、かかる認識を基に成したもので
ある。

本発明を用いることにより得られる利点は、マスク構造
体を極めて少ない技術処理工程で修理するこ止ができ、
同時に極めて良好な光学的性質を有する均一層厚の耐摩
耗性マスク構造体を得ることができるということにある
ことは明白である。

本発明の方法の他の利点は、欠陥面の孔を被覆すること
ができるだけでなく、マスク構造体を改良および完全な
ものとすることもでき、同時にピンホールのない修理面
を得ることができ、この面は約１０００倍の強度の光で
も全く光を透過しないということにある。

本発明の１例として、クロムまたは酸化第二鉄（Ｆｅ２
０３）のマスク構造体の被覆を必要とする面」二への銀
層の堆積について述べる。

銀で被覆されるべきＦｅ２ｏｚ　または［ｒのマスク構
造体面の増感を、塩化スズの溶液により以下に記載する
例に従い行った。この溶液は、スズの結晶化核が特にガ
ラスまたは石英表面と比較して（ガラスまたは石英はマ
スク構造体としての使用に最も適したものであることが
判明した）好適な界面特性を有する為に特に有利である
。しかし、他の適当なる増感溶液を使用することもてき
る。金属コーディングを有しているかまたは有していな
いガラス、石英、セラミックス材料、磁器、樹脂、樹脂
混合物、紙等の基板の増感用の、また無電法による銅、
ニッケル、コバルト、銀、金、スズ、ロジウムおよび亜
鉛の浴による堆積用の種々の浴は当業者に知られている
。

次に本発明を実施例につき説明する。

本発明の方法を実施する為に使用した基板は、ｐｅ２Ｌ
　のマスク基板を備えたガラス板形態の露光マスクであ
る。先ず、この露光マスクを、被覆を要しない面をマス
キングする為に厚さ約１′μｍのフォトラッカ一層で被
覆し、かかるフォトラッカ一層において、銀メッキすべ
き露光マスク面を既知方法で露光した。

露光した面を十分に洗浄した後に、以下に示す組成を有
する増感溶液Ａを該面に滴加し、２〜３分間放置した。

溶液Ａ。

１±０．１ｇの５ｎＣ１＝　＋　１±０．１ｇのＣ６Ｈ
，０７・Ｈ２Ｏを５０ｍ１の高純度１１２０　に溶解し
た溶液。

次いで、このように予備処理した露光マスクを十分に洗
浄し、遠心分離で残留液を除去することによって乾燥し
た。

次に、無電法で銀を堆積させる溶液を調整した。

この為には、以下に示す溶液ＢとＣを等置部で十分に混
合し、得られた混合溶液を銀で被覆すべき露光マスク面
に滴下した。約０．０１μｍ／分の銀が堆積した。所望
の層厚に達した後、露光マスクを十分に洗浄し、遠心分
離により乾燥した。

溶液Ｂ： を該溶液が透明になるまで滴下した。

続的に溶解した溶液。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　使用される露光用放射光に対し透過性であである基
   板上に設けられており、且つ使用される露光用放射光に
   対し非透過性であるマスク構造体を有する露光マスクの
   修理方法で、露光マスクの修理すべき面を使用する露光
   用放射光に対し非透過性である材料で被覆する際、被覆
   を要しない面をマスキングしておき乍ら、被覆すべき露
   光マスク面を自触媒的に作用する浴より無電金属付着法
   で金属化するにあたり、銀を被覆すべき面上に堆積させ
   ることを特徴とする露光マスクの修理方法。 ２、　マスク構造体に使用する材料が酸化第二鉄（Ｆｅ
   ２Ｌ）である特許請求の範囲第１項記載の修理方法。 ３、　マスク構造体に使用する材料がクロム（［「）で
   ある特許請求の範囲第１項記載の修理方法。 ４、　先ず、被覆すべき面を無電金属付着用の、５０ｍ
   １の高純度］（２０に溶解した １±０．１ｇの５ｎＣＬ　＋　ｌ±０．１ｇのＣ６Ｈ８
   ［］７・Ｈ２０から成る溶液Ａで増感し、次いで上記面
   を、溶液Ｂ＋Ｃの等置部から成り無電法で銀を１体積さ
   せる浴により金属化し、この際、溶液ＢおよびＣが以下
   の組成を有する溶液。 溶液Ｂ： ５±００１ｇ　の八ｇＮＬｐ、　ａ　を７５ｍｊｉ’の
   高純度Ｈ２０＋４〜６ｍｆ！、のＮＨ３（２５％）に溶
   解した溶液溶液Ｃ１ ０，９±０．０５ｇの酒石酸カリウムナトリウム＋１．
   １　±０．０５ｇ　の八ｇＮＯｓ　を５００ｍｆｆて１
   ００　℃の高純度Ｈ２０に連続的に溶解した溶液 である特許請求の範囲第１項記載の修理方法。