JPS6077190A - フラツクス法による単結晶の合成方法 - Google Patents

フラツクス法による単結晶の合成方法

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JPS6077190A
JPS6077190A JP58182183A JP18218383A JPS6077190A JP S6077190 A JPS6077190 A JP S6077190A JP 58182183 A JP58182183 A JP 58182183A JP 18218383 A JP18218383 A JP 18218383A JP S6077190 A JPS6077190 A JP S6077190A
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JP
Japan
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flux
crystal
single crystal
base material
growth
Prior art date
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Pending
Application number
JP58182183A
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English (en)
Inventor
Eiji Togawa
戸川 栄司
Yoshio Morita
喜夫 森田
Masaaki Takeuchi
正明 竹内
Tadaaki Atomachi
後町 忠昭
Koji Kasuga
春日 好治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Filing date
Publication date
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Priority to JP58182183A priority Critical patent/JPS6077190A/ja
Publication of JPS6077190A publication Critical patent/JPS6077190A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/34Silicates

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フラックス法を用いた単結晶を効率的に合成
する方法に関する。
ルビー、アレキサントティト等に代表される宝石部材は
、近年レーザー発振用結晶として注目されている。これ
らの単結晶の合成方法としては、引上げ法、水熱合成法
、フラックス法等が知られているが、引上げ法は工粟用
単紅;晶としては結晶ひずみが大きく、水熱合成法はコ
ストが非常に高いという欠点があるため、特に精密な結
晶合成をめる時にはフラックス法が多く用いられている
水元RAは、このフラックス法による彫結晶合成の改良
を目的とする。
フラックス法による短結晶合成は、P/10 、 B2
O3、V2O5,PbF2 、 Nα3A/3F6等ノ
フヲックスに目的とする単結晶成分母材を溶解し、痛1
度による溶解度の差によシフラックスから単結晶を析出
させる方法であることはここでこれ以上詳説するまでも
ない。フラックスに対する昆結晶成分のWi解度は一般
にはそれほど大きくないため、罪結晶を大型にかつ大量
に成長させるにはフラックスの瓜結晶成分母材の溶解が
常に過飽和でなければならない。
過飽和度を大きくする最短の方法としては、短結晶成分
の解解部と凰結晶の成長部の温度勾配を大きくすれば良
いが、この温度勾配は単結晶成長にあたっては最も大き
な駆動力であり、ある程度以上大きい゛場合には次のよ
うな欠点が生ずる。
(1+結晶の質が低下する。すなわち、積層欠陥が生じ
ゃすくなシ、いわゆるインクルージヨンが入フやすい。
i21目的とする種結晶上への成長の他に1自然核生成
による微結晶が多数発生して種結晶上に付着して単条結
晶化させる。
このような欠点を補うためには温度勾配を大きくしない
で単結晶成分母材の供給を増加させることが必要である
。フラックスを入れるるつばの大きさに対して単結晶を
安定に成長させるための単結晶成分母材を入れる容積は
10q6以下が望ましいと言われている。
本発明は、単結晶成分母材を多孔質に焼結して、単結晶
成分のフラックスへの溶解を容易にして安定かつ精密な
単結晶成長を行なうものである。
母材の焼結密度は60チ〜99チであシ、望ましくは、
70〜95チである。
焼結密度が60%より小さい場合はフラックスへの溶解
にしたがって形状がくずれて、比表面積が小さくなり、
99%LD大きい場合は、比表面積がバルクと大差がな
くなるため本発明の目的と合致しない。
また、母材には粉末を用い、その粒径it O,1〜1
11ミクロン、望ましくは0.5〜5ミクロンである。
0、】ミクロンよル小さい粒子を用いて焼結すると2次
粒子が生じゃすくなシ、結果として0.】ミクロン以上
の径になるため意味がなく、また、10ミクロンよシ大
きい粒子は焼結性が大きく低下するとともに比表面積が
小さくなって本発明の目的に合致しない。
焼結体の外形形状は基本的には任意であるが、るつほの
内径に対しl/3〜IJ+程度の大きさが望ましい、l
/3より大きい場合には単結晶成分母材の量がフラック
ス量に比べ過剰にな多すぎ、]A1より小さい場合には
母材の消費によって外形形状がくずれやすくなって比表
面積が小さくなるため望ましくない。
次忙本発明による効果を以下に示す。
(11溶解速度が大きく、一定である。
焼結密層を比較的低くおさえであるため多孔質であり、
比表面積が大きく単結晶成長で消費される減少分を速や
かにフラックス中へ溶解させることができる。また、母
材が消費されても、比表面積がはt丁一定で推移するた
め、原料の供給を一定にでき、その結果結晶成長速度を
一定にすることができる。
(21結晶成長速度を制御できる。
焼結度合によって比表面積を変化させることができる。
すなわち原料供給量を制御でき結晶成長速度を焼結度に
よって制御することができる。
(31良質の結晶が得られる。
結晶成長は概ね次のような式に従う。
%式% ΔT:母材部と結晶成長部の温度差 M:結晶成長面への母材の供給量 本発明の目的は前述したように△Tをできるだけ小さく
して結晶の質を良くシ、なおかつ工業的水準で結晶成長
を得ようとするところにある。
すなわち、本発明では焼結密度を6oチ〜9゜チにする
ことによって母材の供給を大きく、かつ一定にすること
ができた。これによってMが大きくなるため△T′ft
小さくできるので結晶の品質を良くすることができる。
次に本発明の実施例を以下に示す。
実施例] くアレキサンドライト単結晶成長〉 B (30: A、4203= l : l (モル比
) ノ粉末KCr2o32 wt%を混合してラバープ
レスして焼結し、1(IIIJIφの母材をつくった。
白金るっは(60Uφx 150 m )にこの母材を
80F投入し、フラックスとしてV2O,7009k入
れて加熱した。
母材の焼結密度を70チ、80%、99.9%の3水準
に分け、同一温度条件で結晶成長を行なった。なお、成
長部には3vux角の天然クリンベリル種結晶を白金線
でつるして入れた。
母材部の温度 980℃ 結晶長酸部の温度 970℃、975℃保持時間 1o
oo時間 成長結果(成長量of) 得られた結晶を顕微鏡観察およびX線ロッキングカーブ
で判定した結果ΔTが10℃の時は成長量は大きいがイ
ンクルージヨン、双晶が多く品質は悪く、△T=5℃の
時はすべて品質はΔT=1υ℃よル良いが、焼結密度が
70%、80チの方が成長速度は早かった。
実施例2 くルビー車結晶成長〉 AA203に3 wt’16のCr2O3ヲ入れテヨく
混合シ実施例1と同じ大きさに焼結した。6016mm
 X 150 mの白金るつばに焼結母材を80を入れ
Pbo : PbF2= l : 5 (モル比)のフ
ラックスを1.5Hf入れ加熱して、母材部温度110
0℃、成長部温度1090℃で1000時間保持した。
種結晶は1cm角のサファイア板を用いた。
結晶成長した結果は実施例1のアレキサントフィト単結
晶成長と同一の傾向であり、通常の温度条件△T = 
20 ℃より良好な結晶が得られ、焼結密度が85%付
近でΔT=2)℃と同程度の成長速度が得られた。
実施例3 くエメヲルド単結晶成長〉 原料 BgO41,2% AAzos 55.9% CrxOs 2.9% の割合で混合し%I(111JIφ、焼結密度90チで
焼結し、10fをるつぼに、 5ho2は水晶を肋2る
つほに入れた。
フラックスはv205 : LjzMgO4= 1 :
 1 (% /l/比)で4002を入れ加熱した。
成長条件は、母材部950℃、成長部945℃で100
0時間成長であったc1種結晶は1cyn角の天然ベリ
ルを用いた。
この結′果、成長速度は0 、03 yu1日が一定に
得られ、インクルージヨンは初期成長段階を除いて全く
みられなかった。
同一温度条件で焼結密度99.8チの母材を用いた場合
は、結晶の品質は同等であったが成長速度が0.01a
m+/日と遅く、母材の焼結密度の差が結晶成長速度に
明確に現われた。
以上、実施例に示したように、本発明によって、結晶成
長部と母材部の温度差を小さくして結晶の質を上げ、温
度差を小さくすることによって成長速度が低下する分を
母材の焼結密度を60〜99チにすることで補うことが
できることができた。
本発明によって、フラックス法を用いた革結晶合成技術
が品質向上、歩留向上を容易に達成することができるの
で、レーザー用等機能結晶に用いられるだけでなく、宝
飾用としても用いることができるため、実用上極めて有
用な発明である。
以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士段 上 務

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 酸化物、フッ化物等をフラックスとし、これらから温度
    差法あるいは徐冷法によってフラックス成分と異なる酸
    化物・フッ化物等の蛍結晶を合成する方法に於いて、目
    的とするM結晶成分の原料を焼結で製造し、その焼結密
    度を60チから99チにすることを特徴とするフラック
    ス法による単結晶の合成方法。
JP58182183A 1983-09-30 1983-09-30 フラツクス法による単結晶の合成方法 Pending JPS6077190A (ja)

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JPS6077190A true JPS6077190A (ja) 1985-05-01

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