JPS6077190A - フラツクス法による単結晶の合成方法 - Google Patents
フラツクス法による単結晶の合成方法Info
- Publication number
- JPS6077190A JPS6077190A JP58182183A JP18218383A JPS6077190A JP S6077190 A JPS6077190 A JP S6077190A JP 58182183 A JP58182183 A JP 58182183A JP 18218383 A JP18218383 A JP 18218383A JP S6077190 A JPS6077190 A JP S6077190A
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- crystal
- single crystal
- base material
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- Pending
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B9/00—Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/34—Silicates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フラックス法を用いた単結晶を効率的に合成
する方法に関する。
する方法に関する。
ルビー、アレキサントティト等に代表される宝石部材は
、近年レーザー発振用結晶として注目されている。これ
らの単結晶の合成方法としては、引上げ法、水熱合成法
、フラックス法等が知られているが、引上げ法は工粟用
単紅;晶としては結晶ひずみが大きく、水熱合成法はコ
ストが非常に高いという欠点があるため、特に精密な結
晶合成をめる時にはフラックス法が多く用いられている
。
、近年レーザー発振用結晶として注目されている。これ
らの単結晶の合成方法としては、引上げ法、水熱合成法
、フラックス法等が知られているが、引上げ法は工粟用
単紅;晶としては結晶ひずみが大きく、水熱合成法はコ
ストが非常に高いという欠点があるため、特に精密な結
晶合成をめる時にはフラックス法が多く用いられている
。
水元RAは、このフラックス法による彫結晶合成の改良
を目的とする。
を目的とする。
フラックス法による短結晶合成は、P/10 、 B2
O3、V2O5,PbF2 、 Nα3A/3F6等ノ
フヲックスに目的とする単結晶成分母材を溶解し、痛1
度による溶解度の差によシフラックスから単結晶を析出
させる方法であることはここでこれ以上詳説するまでも
ない。フラックスに対する昆結晶成分のWi解度は一般
にはそれほど大きくないため、罪結晶を大型にかつ大量
に成長させるにはフラックスの瓜結晶成分母材の溶解が
常に過飽和でなければならない。
O3、V2O5,PbF2 、 Nα3A/3F6等ノ
フヲックスに目的とする単結晶成分母材を溶解し、痛1
度による溶解度の差によシフラックスから単結晶を析出
させる方法であることはここでこれ以上詳説するまでも
ない。フラックスに対する昆結晶成分のWi解度は一般
にはそれほど大きくないため、罪結晶を大型にかつ大量
に成長させるにはフラックスの瓜結晶成分母材の溶解が
常に過飽和でなければならない。
過飽和度を大きくする最短の方法としては、短結晶成分
の解解部と凰結晶の成長部の温度勾配を大きくすれば良
いが、この温度勾配は単結晶成長にあたっては最も大き
な駆動力であり、ある程度以上大きい゛場合には次のよ
うな欠点が生ずる。
の解解部と凰結晶の成長部の温度勾配を大きくすれば良
いが、この温度勾配は単結晶成長にあたっては最も大き
な駆動力であり、ある程度以上大きい゛場合には次のよ
うな欠点が生ずる。
(1+結晶の質が低下する。すなわち、積層欠陥が生じ
ゃすくなシ、いわゆるインクルージヨンが入フやすい。
ゃすくなシ、いわゆるインクルージヨンが入フやすい。
i21目的とする種結晶上への成長の他に1自然核生成
による微結晶が多数発生して種結晶上に付着して単条結
晶化させる。
による微結晶が多数発生して種結晶上に付着して単条結
晶化させる。
このような欠点を補うためには温度勾配を大きくしない
で単結晶成分母材の供給を増加させることが必要である
。フラックスを入れるるつばの大きさに対して単結晶を
安定に成長させるための単結晶成分母材を入れる容積は
10q6以下が望ましいと言われている。
で単結晶成分母材の供給を増加させることが必要である
。フラックスを入れるるつばの大きさに対して単結晶を
安定に成長させるための単結晶成分母材を入れる容積は
10q6以下が望ましいと言われている。
本発明は、単結晶成分母材を多孔質に焼結して、単結晶
成分のフラックスへの溶解を容易にして安定かつ精密な
単結晶成長を行なうものである。
成分のフラックスへの溶解を容易にして安定かつ精密な
単結晶成長を行なうものである。
母材の焼結密度は60チ〜99チであシ、望ましくは、
70〜95チである。
70〜95チである。
焼結密度が60%より小さい場合はフラックスへの溶解
にしたがって形状がくずれて、比表面積が小さくなり、
99%LD大きい場合は、比表面積がバルクと大差がな
くなるため本発明の目的と合致しない。
にしたがって形状がくずれて、比表面積が小さくなり、
99%LD大きい場合は、比表面積がバルクと大差がな
くなるため本発明の目的と合致しない。
また、母材には粉末を用い、その粒径it O,1〜1
11ミクロン、望ましくは0.5〜5ミクロンである。
11ミクロン、望ましくは0.5〜5ミクロンである。
0、】ミクロンよル小さい粒子を用いて焼結すると2次
粒子が生じゃすくなシ、結果として0.】ミクロン以上
の径になるため意味がなく、また、10ミクロンよシ大
きい粒子は焼結性が大きく低下するとともに比表面積が
小さくなって本発明の目的に合致しない。
粒子が生じゃすくなシ、結果として0.】ミクロン以上
の径になるため意味がなく、また、10ミクロンよシ大
きい粒子は焼結性が大きく低下するとともに比表面積が
小さくなって本発明の目的に合致しない。
焼結体の外形形状は基本的には任意であるが、るつほの
内径に対しl/3〜IJ+程度の大きさが望ましい、l
/3より大きい場合には単結晶成分母材の量がフラック
ス量に比べ過剰にな多すぎ、]A1より小さい場合には
母材の消費によって外形形状がくずれやすくなって比表
面積が小さくなるため望ましくない。
内径に対しl/3〜IJ+程度の大きさが望ましい、l
/3より大きい場合には単結晶成分母材の量がフラック
ス量に比べ過剰にな多すぎ、]A1より小さい場合には
母材の消費によって外形形状がくずれやすくなって比表
面積が小さくなるため望ましくない。
次忙本発明による効果を以下に示す。
(11溶解速度が大きく、一定である。
焼結密層を比較的低くおさえであるため多孔質であり、
比表面積が大きく単結晶成長で消費される減少分を速や
かにフラックス中へ溶解させることができる。また、母
材が消費されても、比表面積がはt丁一定で推移するた
め、原料の供給を一定にでき、その結果結晶成長速度を
一定にすることができる。
比表面積が大きく単結晶成長で消費される減少分を速や
かにフラックス中へ溶解させることができる。また、母
材が消費されても、比表面積がはt丁一定で推移するた
め、原料の供給を一定にでき、その結果結晶成長速度を
一定にすることができる。
(21結晶成長速度を制御できる。
焼結度合によって比表面積を変化させることができる。
すなわち原料供給量を制御でき結晶成長速度を焼結度に
よって制御することができる。
よって制御することができる。
(31良質の結晶が得られる。
結晶成長は概ね次のような式に従う。
%式%
ΔT:母材部と結晶成長部の温度差
M:結晶成長面への母材の供給量
本発明の目的は前述したように△Tをできるだけ小さく
して結晶の質を良くシ、なおかつ工業的水準で結晶成長
を得ようとするところにある。
して結晶の質を良くシ、なおかつ工業的水準で結晶成長
を得ようとするところにある。
すなわち、本発明では焼結密度を6oチ〜9゜チにする
ことによって母材の供給を大きく、かつ一定にすること
ができた。これによってMが大きくなるため△T′ft
小さくできるので結晶の品質を良くすることができる。
ことによって母材の供給を大きく、かつ一定にすること
ができた。これによってMが大きくなるため△T′ft
小さくできるので結晶の品質を良くすることができる。
次に本発明の実施例を以下に示す。
実施例]
くアレキサンドライト単結晶成長〉
B (30: A、4203= l : l (モル比
) ノ粉末KCr2o32 wt%を混合してラバープ
レスして焼結し、1(IIIJIφの母材をつくった。
) ノ粉末KCr2o32 wt%を混合してラバープ
レスして焼結し、1(IIIJIφの母材をつくった。
白金るっは(60Uφx 150 m )にこの母材を
80F投入し、フラックスとしてV2O,7009k入
れて加熱した。
80F投入し、フラックスとしてV2O,7009k入
れて加熱した。
母材の焼結密度を70チ、80%、99.9%の3水準
に分け、同一温度条件で結晶成長を行なった。なお、成
長部には3vux角の天然クリンベリル種結晶を白金線
でつるして入れた。
に分け、同一温度条件で結晶成長を行なった。なお、成
長部には3vux角の天然クリンベリル種結晶を白金線
でつるして入れた。
母材部の温度 980℃
結晶長酸部の温度 970℃、975℃保持時間 1o
oo時間 成長結果(成長量of) 得られた結晶を顕微鏡観察およびX線ロッキングカーブ
で判定した結果ΔTが10℃の時は成長量は大きいがイ
ンクルージヨン、双晶が多く品質は悪く、△T=5℃の
時はすべて品質はΔT=1υ℃よル良いが、焼結密度が
70%、80チの方が成長速度は早かった。
oo時間 成長結果(成長量of) 得られた結晶を顕微鏡観察およびX線ロッキングカーブ
で判定した結果ΔTが10℃の時は成長量は大きいがイ
ンクルージヨン、双晶が多く品質は悪く、△T=5℃の
時はすべて品質はΔT=1υ℃よル良いが、焼結密度が
70%、80チの方が成長速度は早かった。
実施例2
くルビー車結晶成長〉
AA203に3 wt’16のCr2O3ヲ入れテヨく
混合シ実施例1と同じ大きさに焼結した。6016mm
X 150 mの白金るつばに焼結母材を80を入れ
Pbo : PbF2= l : 5 (モル比)のフ
ラックスを1.5Hf入れ加熱して、母材部温度110
0℃、成長部温度1090℃で1000時間保持した。
混合シ実施例1と同じ大きさに焼結した。6016mm
X 150 mの白金るつばに焼結母材を80を入れ
Pbo : PbF2= l : 5 (モル比)のフ
ラックスを1.5Hf入れ加熱して、母材部温度110
0℃、成長部温度1090℃で1000時間保持した。
種結晶は1cm角のサファイア板を用いた。
結晶成長した結果は実施例1のアレキサントフィト単結
晶成長と同一の傾向であり、通常の温度条件△T =
20 ℃より良好な結晶が得られ、焼結密度が85%付
近でΔT=2)℃と同程度の成長速度が得られた。
晶成長と同一の傾向であり、通常の温度条件△T =
20 ℃より良好な結晶が得られ、焼結密度が85%付
近でΔT=2)℃と同程度の成長速度が得られた。
実施例3
くエメヲルド単結晶成長〉
原料 BgO41,2%
AAzos 55.9%
CrxOs 2.9%
の割合で混合し%I(111JIφ、焼結密度90チで
焼結し、10fをるつぼに、 5ho2は水晶を肋2る
つほに入れた。
焼結し、10fをるつぼに、 5ho2は水晶を肋2る
つほに入れた。
フラックスはv205 : LjzMgO4= 1 :
1 (% /l/比)で4002を入れ加熱した。
1 (% /l/比)で4002を入れ加熱した。
成長条件は、母材部950℃、成長部945℃で100
0時間成長であったc1種結晶は1cyn角の天然ベリ
ルを用いた。
0時間成長であったc1種結晶は1cyn角の天然ベリ
ルを用いた。
この結′果、成長速度は0 、03 yu1日が一定に
得られ、インクルージヨンは初期成長段階を除いて全く
みられなかった。
得られ、インクルージヨンは初期成長段階を除いて全く
みられなかった。
同一温度条件で焼結密度99.8チの母材を用いた場合
は、結晶の品質は同等であったが成長速度が0.01a
m+/日と遅く、母材の焼結密度の差が結晶成長速度に
明確に現われた。
は、結晶の品質は同等であったが成長速度が0.01a
m+/日と遅く、母材の焼結密度の差が結晶成長速度に
明確に現われた。
以上、実施例に示したように、本発明によって、結晶成
長部と母材部の温度差を小さくして結晶の質を上げ、温
度差を小さくすることによって成長速度が低下する分を
母材の焼結密度を60〜99チにすることで補うことが
できることができた。
長部と母材部の温度差を小さくして結晶の質を上げ、温
度差を小さくすることによって成長速度が低下する分を
母材の焼結密度を60〜99チにすることで補うことが
できることができた。
本発明によって、フラックス法を用いた革結晶合成技術
が品質向上、歩留向上を容易に達成することができるの
で、レーザー用等機能結晶に用いられるだけでなく、宝
飾用としても用いることができるため、実用上極めて有
用な発明である。
が品質向上、歩留向上を容易に達成することができるの
で、レーザー用等機能結晶に用いられるだけでなく、宝
飾用としても用いることができるため、実用上極めて有
用な発明である。
以 上
出願人 株式会社諏訪精工舎
代理人 弁理士段 上 務
Claims (1)
- 酸化物、フッ化物等をフラックスとし、これらから温度
差法あるいは徐冷法によってフラックス成分と異なる酸
化物・フッ化物等の蛍結晶を合成する方法に於いて、目
的とするM結晶成分の原料を焼結で製造し、その焼結密
度を60チから99チにすることを特徴とするフラック
ス法による単結晶の合成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182183A JPS6077190A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | フラツクス法による単結晶の合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182183A JPS6077190A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | フラツクス法による単結晶の合成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6077190A true JPS6077190A (ja) | 1985-05-01 |
Family
ID=16113786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58182183A Pending JPS6077190A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | フラツクス法による単結晶の合成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6077190A (ja) |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP58182183A patent/JPS6077190A/ja active Pending
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