JPS6079724A - 回転処理装置 - Google Patents
回転処理装置Info
- Publication number
- JPS6079724A JPS6079724A JP58186712A JP18671283A JPS6079724A JP S6079724 A JPS6079724 A JP S6079724A JP 58186712 A JP58186712 A JP 58186712A JP 18671283 A JP18671283 A JP 18671283A JP S6079724 A JPS6079724 A JP S6079724A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- mask
- mounting table
- pendulum
- placing stand
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Clamps And Clips (AREA)
- Weting (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は試料を回転させながら試料の表面や裏面などを
処理する技術に関するもので、特にマスク等の現象、エ
ツチング、洗浄等の処理をするのに用いて有効な回転処
理技術に関するものである。
処理する技術に関するもので、特にマスク等の現象、エ
ツチング、洗浄等の処理をするのに用いて有効な回転処
理技術に関するものである。
本発明者法試料を回転させながらその表面や裏面を処理
する技術、特に電子部品を製造するために使用するマス
クを現象、エツチング、洗浄等の処理を行なう技術とし
て、第１図及び第２図に示すような技術を開発した。す
なわち、マスク１０角部を十字形に配置した載置台２の
端部３に設けた凹部４に嵌め込んだ状態で、図示しな（
・モータにより回転軸５を回転させ、マスク１の上部に
設けたノズル（図示せず）から現像液、エツチング液、
洗浄液をマスク１の表面忙順次噴出させてマスク１の処
理を行なっていた。しかしながら、このような回転処理
装置（スピンナ）におい又は次のような問題があること
を本発明者は発見した。
する技術、特に電子部品を製造するために使用するマス
クを現象、エツチング、洗浄等の処理を行なう技術とし
て、第１図及び第２図に示すような技術を開発した。す
なわち、マスク１０角部を十字形に配置した載置台２の
端部３に設けた凹部４に嵌め込んだ状態で、図示しな（
・モータにより回転軸５を回転させ、マスク１の上部に
設けたノズル（図示せず）から現像液、エツチング液、
洗浄液をマスク１の表面忙順次噴出させてマスク１の処
理を行なっていた。しかしながら、このような回転処理
装置（スピンナ）におい又は次のような問題があること
を本発明者は発見した。
すなわち、（１）凹部の壁部が丸くなると、マスクと凹
部の壁面の嵌合性が悪＜’ｆｒす、マスクが回転させら
れた時にマスクに作用する遠心力により載置台からマス
クが飛散してしまう。
部の壁面の嵌合性が悪＜’ｆｒす、マスクが回転させら
れた時にマスクに作用する遠心力により載置台からマス
クが飛散してしまう。
（２）マスクな載置台に載せたとき、凹部にマスクの角
部がしっかりと嵌め込まれてぃながった場合載置台が回
転した時にマスクが飛散してしまう。
部がしっかりと嵌め込まれてぃながった場合載置台が回
転した時にマスクが飛散してしまう。
（３）上記（１）（２１に示したごとく、マスクが飛散
してしまうと破損が生じて、経済的にも安全性の面から
も非常に問題となっていた。
してしまうと破損が生じて、経済的にも安全性の面から
も非常に問題となっていた。
以上の問題を解決するため１本発明者は鋭意検討した。
本発明の目的は、試料製確実に載置台に固定または保持
することにより、載置台を回転させたときに試料が載置
台から飛散することを防止できるような回転処理技術を
提供することである。
することにより、載置台を回転させたときに試料が載置
台から飛散することを防止できるような回転処理技術を
提供することである。
本発明の他の目的は、載置台の回転スピードを増大して
も、試料の飛散が防止できかつ安全性のたがい回転処理
技術を提供することである。
も、試料の飛散が防止できかつ安全性のたがい回転処理
技術を提供することである。
本−において開示される発明のうち代表的なものの概要
な簡単圧説明すれば下記のとおりである。
な簡単圧説明すれば下記のとおりである。
すなわち、試料を載置する載置台の周辺部に、載置台が
回転したときに、その遠心力を利用して試料を固定また
は保持する機構を設けることにより、試料が載置台から
飛散することを防止できるものである。
回転したときに、その遠心力を利用して試料を固定また
は保持する機構を設けることにより、試料が載置台から
飛散することを防止できるものである。
〔実施例１〕
第３図は、本発明の一実施例であるスピンナの全体措成
図、第４図及び第５図はその主要部の一部断面図である
。
図、第４図及び第５図はその主要部の一部断面図である
。
６はマスク１等の試料の載置台で十字形に設けられてお
り、その端部７にはマスク１０角部を嵌め込んで支持す
る四部８が設けられている。さらにこの端部７には、ふ
り子状体９が支軸１（ｌ中心にして回転自在に軸支され
ており、その上部には載置台６の回転中心方向に突起し
たマスクの縁部を固定するための固定爪１１が設けられ
、下部にはおもり１２が設けられている。このふり子状
体９は、マスク１の載置時に防げとならないように配置
してあり、支軸１（ｌ中心にふり子状体９を回転させた
とき、固定爪１１がマスク１に尚接するようになってい
る。なお、１３は回転軸５を駆動するスピンモータ、１
４は処理容５．１５は蓋である。この蓋１５には、マス
ク１の表面に現象液、エツチング液、洗浄液ケ噴出する
ためのノズル１６．１７．１８がそれぞれ設けられてい
る。
り、その端部７にはマスク１０角部を嵌め込んで支持す
る四部８が設けられている。さらにこの端部７には、ふ
り子状体９が支軸１（ｌ中心にして回転自在に軸支され
ており、その上部には載置台６の回転中心方向に突起し
たマスクの縁部を固定するための固定爪１１が設けられ
、下部にはおもり１２が設けられている。このふり子状
体９は、マスク１の載置時に防げとならないように配置
してあり、支軸１（ｌ中心にふり子状体９を回転させた
とき、固定爪１１がマスク１に尚接するようになってい
る。なお、１３は回転軸５を駆動するスピンモータ、１
４は処理容５．１５は蓋である。この蓋１５には、マス
ク１の表面に現象液、エツチング液、洗浄液ケ噴出する
ためのノズル１６．１７．１８がそれぞれ設けられてい
る。
次に第３図〜第５図を用いて動作な説明する。
モータ１３が停止している状態で、マスク１を手作業あ
るいは機械的に載置台６に載置する。このとき、マスク
１の角部が端部７の凹部８に正確に嵌め込むことが好ま
しい。マスク１の載置が完了すると、モータ１３を駆動
して回転軸５に連結している載置台６を回転させる。序
々にモータ１３の回転数を上げていくと、マスク１が正
確に凹部８に嵌め込まれていない場合は特に強い浮力が
フスクＩＫ生じること釦なり、この浮力がある一定以上
に達するとマスク１が載置台６から飛散してしまう。し
かしながら、第４図及び第５図忙示すヨウに、載置台６
が回転するにつれて、ふり子９０下部に設けたおもり１
２に作用する遠心力により、上部に設けた固定爪１１が
、載置６の回転中心方向に回動し、載置台６がある回転
スピードに達すると固定爪１１がマスク１の上面のパタ
ーンが形成されない部分（縁部）に当接して、マスク１
の上面から押え付け、マスク１が飛散するまえに固定で
きるようになっている。この場合、マスク１が飛散する
地検のある回転スピードに達する前に、固定爪１１がマ
スク１上面に尚接するようにおもりの重量を調節して設
けている。
るいは機械的に載置台６に載置する。このとき、マスク
１の角部が端部７の凹部８に正確に嵌め込むことが好ま
しい。マスク１の載置が完了すると、モータ１３を駆動
して回転軸５に連結している載置台６を回転させる。序
々にモータ１３の回転数を上げていくと、マスク１が正
確に凹部８に嵌め込まれていない場合は特に強い浮力が
フスクＩＫ生じること釦なり、この浮力がある一定以上
に達するとマスク１が載置台６から飛散してしまう。し
かしながら、第４図及び第５図忙示すヨウに、載置台６
が回転するにつれて、ふり子９０下部に設けたおもり１
２に作用する遠心力により、上部に設けた固定爪１１が
、載置６の回転中心方向に回動し、載置台６がある回転
スピードに達すると固定爪１１がマスク１の上面のパタ
ーンが形成されない部分（縁部）に当接して、マスク１
の上面から押え付け、マスク１が飛散するまえに固定で
きるようになっている。この場合、マスク１が飛散する
地検のある回転スピードに達する前に、固定爪１１がマ
スク１上面に尚接するようにおもりの重量を調節して設
けている。
〔実施例２〕
第６図及び第７図はそれぞれ本発明の他の実施例である
スピンナの主要部のザ）親図と側面図である。ここで〔
実施例１〕と同一の部分については説明を省略する。載
置台１９の端部２０＋Ｃは、支軸１０を中心に回転自在
に取り付けられたふり子状体２１が設けられており、そ
の上部には摺動孔２２が、下部にはおもり２３が構成さ
れている。
スピンナの主要部のザ）親図と側面図である。ここで〔
実施例１〕と同一の部分については説明を省略する。載
置台１９の端部２０＋Ｃは、支軸１０を中心に回転自在
に取り付けられたふり子状体２１が設けられており、そ
の上部には摺動孔２２が、下部にはおもり２３が構成さ
れている。
前記摺動孔２２は摺動ピン２３と嵌合して、ふり子状体
２１の回転運動を直Ｍ運動に変換するようニスライド板
２４に伝達し、このスライド板２４がガイド部２５に沿
ってマスク１とほぼ平行にパターンが形成されていｌｘ
い線部に突出できるように構成されて〜・る。
２１の回転運動を直Ｍ運動に変換するようニスライド板
２４に伝達し、このスライド板２４がガイド部２５に沿
ってマスク１とほぼ平行にパターンが形成されていｌｘ
い線部に突出できるように構成されて〜・る。
次に動作を説明する。第６図に示すように、回転軸５が
回転していないとき、すなわち載置台１９が回転してい
ないときは、ふり子状体２１の下部のおもり２３０作用
で、スライド板２４はガイド部２５内に収納されている
。この状態でマスク１を載置台１９ＦＣ載せ、載置完了
後回転軸５により回転させる。回転スピードが増すにつ
れて、おもり２３に作用する遠心力が増加して、おもり
２３が支軸１０を中心に回動して外側に移動する１、そ
うすると、おもり２３と反対側、っまり摺動孔２２が設
けであるふり子状体２１の上部は内側に移動し、それに
つれて摺動孔２２と嵌合している摺動ピン２３の作用で
、スライド板２４がガイド部２５に沿ってマスク１上簡
に突出してマスクの縁部処達する。このため、マスク１
が浮力により浮き上がってきても、スライド板２４で保
持され、飛散するようなことは起こらな℃・。
回転していないとき、すなわち載置台１９が回転してい
ないときは、ふり子状体２１の下部のおもり２３０作用
で、スライド板２４はガイド部２５内に収納されている
。この状態でマスク１を載置台１９ＦＣ載せ、載置完了
後回転軸５により回転させる。回転スピードが増すにつ
れて、おもり２３に作用する遠心力が増加して、おもり
２３が支軸１０を中心に回動して外側に移動する１、そ
うすると、おもり２３と反対側、っまり摺動孔２２が設
けであるふり子状体２１の上部は内側に移動し、それに
つれて摺動孔２２と嵌合している摺動ピン２３の作用で
、スライド板２４がガイド部２５に沿ってマスク１上簡
に突出してマスクの縁部処達する。このため、マスク１
が浮力により浮き上がってきても、スライド板２４で保
持され、飛散するようなことは起こらな℃・。
（１）試料を載置する載置台の周辺部に、遠心力を利用
して試料を保持または固定でき、る機構を設けることに
より、試料を回転させたときに載置台から試料が飛散す
ることを防止できるという効果が得られる。
して試料を保持または固定でき、る機構を設けることに
より、試料を回転させたときに載置台から試料が飛散す
ることを防止できるという効果が得られる。
（２）試料を載置する載置台の端部Ｋ、その端部に設け
た支軸を中心にして載置台の回転中心方向に回動できる
ふり子状体を設け、前記ふり子状体の下部にはおもりを
、上部には試料に当接できるように形成した固定爪を設
けることにより、載置台の回転スピードが上昇して試料
の浮力が増大しても、おもりに作用する遠心力もそれ釦
つれて増大するので、試料を前記固定爪で固定する力も
大きくなり、試料が飛散することを完全圧防止できると
いう効果が得られる。
た支軸を中心にして載置台の回転中心方向に回動できる
ふり子状体を設け、前記ふり子状体の下部にはおもりを
、上部には試料に当接できるように形成した固定爪を設
けることにより、載置台の回転スピードが上昇して試料
の浮力が増大しても、おもりに作用する遠心力もそれ釦
つれて増大するので、試料を前記固定爪で固定する力も
大きくなり、試料が飛散することを完全圧防止できると
いう効果が得られる。
（３） 試料を載置する載置台の端部に試けた支軸を中
心にして、載置台の回転中心方向に回動できるふり子状
体を設け、そのふり子状体に遠心力が加わって℃・ると
きに連動して、試料上面に突出するスライド板を設ける
ことにより、試料が回転しているときに、試料が飛散す
るのを防止できると℃・う効果が得られる。
心にして、載置台の回転中心方向に回動できるふり子状
体を設け、そのふり子状体に遠心力が加わって℃・ると
きに連動して、試料上面に突出するスライド板を設ける
ことにより、試料が回転しているときに、試料が飛散す
るのを防止できると℃・う効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが１本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能である。たとえば、本実施例においては、試料はマス
クであったが、つ工−ハでも良く、それ以外の種々のも
のに用℃・ることかできる。また、載置台を十字形状と
し、その端部にて試料な固定または保持するようにして
いるが、載置台の形状や、遠心力により試料夕固定また
は保持する機構の数は４個に限定されるものではなく、
試料の形状に合わせ１設ける。
具体的に説明したが１本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能である。たとえば、本実施例においては、試料はマス
クであったが、つ工−ハでも良く、それ以外の種々のも
のに用℃・ることかできる。また、載置台を十字形状と
し、その端部にて試料な固定または保持するようにして
いるが、載置台の形状や、遠心力により試料夕固定また
は保持する機構の数は４個に限定されるものではなく、
試料の形状に合わせ１設ける。
さらに、ふり子状体の爪、摺動孔、おもりなどの形状は
種々に変更できる。また、載置台や固定または保持でき
る機構等は、耐薬品性が強（、マスクに傷をつきにくい
ふっ素樹脂あるいは、表面をふっ素樹脂でコーティング
したものを使用すると良い。
種々に変更できる。また、載置台や固定または保持でき
る機構等は、耐薬品性が強（、マスクに傷をつきにくい
ふっ素樹脂あるいは、表面をふっ素樹脂でコーティング
したものを使用すると良い。
以上の説明では主として本発明圧よってなされた発明ｔ
その背景となった利用分野である電子部品を製造するど
きに使用するマスクの現像、エツチング、洗浄するだめ
の回転処理技術に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、たとえば、半導体ウェー
ハや半導体分野以外の物品の表面処理を回転させながら
行なうものには適用できる。
その背景となった利用分野である電子部品を製造するど
きに使用するマスクの現像、エツチング、洗浄するだめ
の回転処理技術に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、たとえば、半導体ウェー
ハや半導体分野以外の物品の表面処理を回転させながら
行なうものには適用できる。
第１図、第２図はそれぞれ本発明者が考えたスピンナの
概略図及びその■−Ｉ線断面図、第３図は本発明の一実
施例であるスピンナの全体構成図、 第４図、２ｇ５図は本発明の一実施例であるスピンナの
主要部の一部断面図、 第６図、第７図はそれぞれ本発明の他の実施例の斜視図
とその側面図である。 １・・・マスク、２，６．１９・・・載置台、３，７゜
２０・・・端部、４，８・・・凹部、５・・・回転軸、
’９．２１・・・ふり子状体、１０・・・支軸、１１・
・・爪、１２．２３・・・おもり、１３・・・スピンモ
ータ、１４・・・収理容器、１５・・・蓋、１６，１７
．１８・・・ノズル、２２・・・摺動孔、２３・・・摺
動ビン、２４・・・スライド板、２５・・・ガイド部。 第 １ 図 − 第 ２ 図 第 ３ 図 ＼。 】 第 ４ 図 ／／ ／／ 第 ５ 図
概略図及びその■−Ｉ線断面図、第３図は本発明の一実
施例であるスピンナの全体構成図、 第４図、２ｇ５図は本発明の一実施例であるスピンナの
主要部の一部断面図、 第６図、第７図はそれぞれ本発明の他の実施例の斜視図
とその側面図である。 １・・・マスク、２，６．１９・・・載置台、３，７゜
２０・・・端部、４，８・・・凹部、５・・・回転軸、
’９．２１・・・ふり子状体、１０・・・支軸、１１・
・・爪、１２．２３・・・おもり、１３・・・スピンモ
ータ、１４・・・収理容器、１５・・・蓋、１６，１７
．１８・・・ノズル、２２・・・摺動孔、２３・・・摺
動ビン、２４・・・スライド板、２５・・・ガイド部。 第 １ 図 − 第 ２ 図 第 ３ 図 ＼。 】 第 ４ 図 ／／ ／／ 第 ５ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、試料を載置する載置台と、前記載置台の周辺部であ
って、その載置台を回転させた時に、試料が飛散するこ
とを防止するために、遠心力を利用して試料を固定また
は保持できる機構を設けたことを特徴とする回転処理装
置。 ２、前記機構は、載置台の周辺部に軸支され、載置台の
回転中心方向に回動するふり子状体からなり、前記のふ
り子状体の上部忙は試料を固定する固定爪が、下部には
おもりが設けられていることを特徴とする特許請許の範
囲第１項記載の回転処理装置。 ３、前記機構は、載置台の周辺部に軸支され、載置台の
回転中心方向に回動するふり子状体と、その上部にはふ
り子の運動に連動し、試料上面にスライド自在に突出可
能なスライド部材及びそのガイド部材が設けられ、その
下部にはおもりが設けられていることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の回転処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58186712A JPS6079724A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 回転処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58186712A JPS6079724A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 回転処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6079724A true JPS6079724A (ja) | 1985-05-07 |
Family
ID=16193317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58186712A Pending JPS6079724A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 回転処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6079724A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63185029A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-07-30 | Hitachi Ltd | ウエハ処理装置 |
| US4817556A (en) * | 1987-05-04 | 1989-04-04 | Varian Associates, Inc. | Apparatus for retaining wafers |
| JPH02278713A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-15 | Tokyo Electron Ltd | レジスト処理装置 |
| US5040484A (en) * | 1987-05-04 | 1991-08-20 | Varian Associates, Inc. | Apparatus for retaining wafers |
| US5318634A (en) * | 1987-03-31 | 1994-06-07 | Epsilon Technology, Inc. | Substrate supporting apparatus |
| US5591113A (en) * | 1994-10-31 | 1997-01-07 | Cobe Laboratories, Inc. | Centrifugally assisted centrifuge bowl mount |
| JPH09121U (ja) * | 1996-09-19 | 1997-03-11 | 沖電気工業株式会社 | 枚葉式スピン乾燥装置 |
| US5658231A (en) * | 1995-09-21 | 1997-08-19 | Haemonetics Corporation | Mechanism for securing a separation bowl to a mechanical chuck |
-
1983
- 1983-10-07 JP JP58186712A patent/JPS6079724A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63185029A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-07-30 | Hitachi Ltd | ウエハ処理装置 |
| US5318634A (en) * | 1987-03-31 | 1994-06-07 | Epsilon Technology, Inc. | Substrate supporting apparatus |
| US4817556A (en) * | 1987-05-04 | 1989-04-04 | Varian Associates, Inc. | Apparatus for retaining wafers |
| US5040484A (en) * | 1987-05-04 | 1991-08-20 | Varian Associates, Inc. | Apparatus for retaining wafers |
| JPH02278713A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-15 | Tokyo Electron Ltd | レジスト処理装置 |
| US5591113A (en) * | 1994-10-31 | 1997-01-07 | Cobe Laboratories, Inc. | Centrifugally assisted centrifuge bowl mount |
| US5658231A (en) * | 1995-09-21 | 1997-08-19 | Haemonetics Corporation | Mechanism for securing a separation bowl to a mechanical chuck |
| JPH09121U (ja) * | 1996-09-19 | 1997-03-11 | 沖電気工業株式会社 | 枚葉式スピン乾燥装置 |
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