JPS6080225A - ドライプロセス処理方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はドライエツチング処理装置等のドライプロセス
処理装置に関するものである。

〔発明の背景〕

従来ドライプロセス処理装置の圧力コントロール機（ｉ
ｆは第１図に示す如（構成されている。

即ちこの圧力コントロール機構は処理用ガスの流量と処
坤建の圧力を共に一足に保つように構成している。

ガスの流量を一足に１呆つガス流部コントロール部２は
ガス源９、開閉パルプ８、ガス流量センサ５、コントロ
ールバルブ３、コントロールパルプ駆動部４、サーボア
ンプ６、流片設定部７からなっている。ガス流量は流量
センサ５で検知し、その流量と流量設定部７で設定され
た値の差をサーボアンプ６で増幅してコントロールパル
プＭＡ　’Ａ　部４　ヲ介してコントロールバルブ３を
動かし、一定のガスυを址を保つようにしている。

処理室１の圧力コントロール部１０は、圧力センサ１１
、排気コンダクタンスコントロールバルブ１２、バルブ
駆動部１５、サーボアンプ１４、圧力設定部１５、真空
排気装置１６かもなっている。

圧力のコントロールは処理室１の圧力を圧力センサ１１
で検出し、圧力設定部１５に設定された値との差をサー
ボアンプ１４で増幅し、バルブ駆動部１６を弁してコン
トロールパルプ１２のコンダクタンスを変化させて排気
量７１６の排気能力を変え、行なっている。

この排気コントロール部１０ではコントロールパルプ１
２を変化させた場合、圧力は処理望１の容積とガス流入
量、排気量の関係から徐々に変化する。そのため測定圧
力と設定圧力との差に従ってバルブを開閉すれば、この
圧力コントロール系は振動し、安定に圧力を制御できな
くなる。そこでサーボアンプ１４の応答を遅延させ、圧
力が安定にコントロールできるようにしている。

ドライプロセス装置では処理を書現性よく行うため、処
理条件、すなわちガス流量ヤガス圧力を一定にして行う
必要かある。

しかし従来の圧力コントロール方法では圧力か一定にな
るまでに時間がかかり、ドライプロセス装置の処理能力
を向上する上でのネックとなっていた。

特に従来の圧力コントロール方法では設定圧力に遅する
までに１分程の時間かかかり、処理時間全体に対１−る
割合もドライプロセス処理の商速化に伴い、２〜３割を
しめるようになっている。したがって処理能力の向上に
はガス圧力コントロール時間の短縮が不可欠となってき
た。

〔発明の目的〕

本発明の目的はドライプロセス処理圧力の、コントロー
ル応答性を高めることが出来、処理能力の向上がはかれ
るようにしたドライプロセス処理装置を提供するにある
。

〔発明の概要〕

即ち本発明は、ドライプロセス処理のガス圧力が処理条
件として設定されていることを利用し、この設定圧力条
件とコントロールパルプの開閉割合の関係（プログラム
）をメモリに記憶し、この記憶されたプログラムを読み
出し、ガス供給生膜のガス倶給量及び排気手段の排気量
を制御することを特徴とするものである。

〔発明の実施例〕

第２図に本発明による実ｊｌ！ｉ例を示し、以下に説明
する。

ドライプロセス処理を行う処：ｌｉｌ！室２０には処理
用ガスを供給するガス供給・ｕ２２、処理室内を排気す
る排気ハ３２が設けられている。

ガス供給部はガス源６１、開閉バルブ６０、流量センサ
２７、コントロールパルプ２６かう成っティる。

流量センサ２７の信号はＡ／Ｄ変換器２Ｂを介して、マ
イクロコンピュータ２１に送られる。コントロールパル
プ２６は駆動モータ２４により動かされ、モータにはエ
ンコーダ２５か連結してあり、エンコーダ２５の信号は
マイクロコンピュータ２１に送られる。

駆動モータ２４はマイクロコンピュータ２１ニコントロ
ールされたドライバ２６により動かされる。

ガス流量の設定は流量設定部２９かも設定（ｇ号をマイ
クロコンピュータ２１に送り行う。

排％　ｔ＋ｌｓ　ハコンダクタンスのコントロールパル
プ６６、真をＪＪＩ’気装置４〔〕からなっている。

コントロールパルプ６６は駆動モータ６４により動かさ
れ、七−夕にはエンコーダ２５が連結してあり、その情
号はマイクロコンピュータ２１に送られる。

駆動モータ３４はマイクロコンピュータ２１ニコント四
−ルされたドライバ６６により動かされる。

処理室２０に取付けた圧力センサ６７の１ｄ号はＡ／Ｄ
変換器３８を介してマイクロコンピュータ２１に送られ
る。ガス圧力の設定は圧力設定部３９からの設定信号を
マイクロコンピータ２１に送り行う。

以上の構成において圧力コントロール時の谷部の動作に
ついて以下に説明する。

処理室２０はコントロールバルブ６３を全開にして処理
室内を低圧に排気している。処理室２ｏに図示しない搬
送系により図示しない被処理物を搬入する。搬入完了を
構出すると第３図に示すように圧力コントロールバルブ
６６を閉じ、ガス供給のガス流量コントロールバルブ２
６を全開にする。このＢＣｌｓ　、ＣＦ４．０２等の２
種類以上のガスを混合して使用する場合、各ガスの混合
比率を設定されたガス流量の比よりマイクロコンピュー
タ２１により昇出し、ガスの組ノ戎をかえないため、そ
の比率で匝せる最大流量なυＩＬずようコントロールす
る。この時圧力は処理条件によっても異なるが数秒で設
定圧力に近ずく。マイクロコンピュータ２１には前回処
理した時の、設定条件に対するバルブ駆動モータ２４　
、５４　、の回転角かエンコーダ２５．３５からの信号
により、メモリに記憶されている。圧力センサ６７で処
理室内の圧力をチェックし、設定圧力の±２０％以内の
圧力範囲に入ると、マイクロコンピュータ２１の指示に
よりドライバ２６　、３６を介して圧力及びガス流団コ
ントロールバルブの開閉割合をメモリに記憶された状態
に固定する。

さらに処理室内の圧力が設定圧力の±１０％に入るとコ
ントロールバルブ２５．６５の制御を設定圧力と処理室
内の圧力差に応じて制御する従来方式により行う。次に
処理室内が設定圧力の±６％の圧力に１分間入った時の
コントロールバルブの開閉割合をエンコーダ２５　、５
５から読み取り、マイクロコンピュータ内のバルブ開閉
割合を記憶したメモリをクリアし、新しいデータを惰き
込む。

以上述へたように本発明による圧力コントロール方法で
はまず流入ガス量を最大にし、排気バルブを閉じるため
、最短時間で圧力は上昇し、かつ設定圧に近１いた時に
はバルブ弁の開閉割合は設定圧力を保持する状態にある
ため、従来の方法にあったような圧力がオーバシュート
し振動してしまう問題も発生しない。

以上述べた本実施例では設定圧力に１０秒程で到達する
ことができ、従来の一程の時間に短縮することができる
。

また本実施例では処理を開始するまでの圧力コントロー
ル方法について述べたが、カス流量、ガスライン、ガス
圧力など処理条件の途中での変更の場合にも、同様に行
うことができる。その場合にも中途変更後の処理条件で
のコントロールバルブ開閉割合を記憶し、変更後の圧力
条件が商い場合は本実施例に述べた方法により行い、変
更後の圧力条件が低い場合は逆に、ガス・供給を止め、
排気パルプを全開にして同様に設定圧力に近ずけること
かできる。

また本実施例ではコントロールバルブの開閉により圧力
コントロールを行う例について述べだが、基本的には排
気蓋を変えることかでさる排気方法であるならば同様の
方法を行うことができることは明らかである。たとえば
、機械式の真空排気ポンプにより排気し、真空ポンプの
回転数により排気量を変え、圧力をコントロールする場
合、各処理条件での回転数を記憶し、コントロールする
ことにより行うことができる。

〔発明の効果〕

以上’ｉ４３？、明したように本発明によれは、被処理
物を処理室に入れてから設定圧にするまでの時間、処理
条件を途中で変更し、変更後の朱件に達するまでの時間
を短縮することかでき、被処理物の処理１ｃ７間を短縮
し、ドライプロセス装置の処１！Ｉｆ化力を向上させる
効果がある。

たとえは本発明をエツチング処理に２．５分、ローディ
ング、アンローディングに０．５分かかるドライエツチ
ングに適用すれば従来合計４分かかっていた１回の処理
を６．２分に短縮することができ、２割の処理能方向上
を計ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のドライプロセス装置における圧力コント
ロールシステムを示す図、 第２図は本発明のドライプロセス装置における圧力コン
トロールシステムの一実施例を示す図、 第６図は本発明のドライプロセス装置における圧力コン
トロールフローを示した図である。 ２０・・・処理室、２１・・・マイクロコンピュータ、
２３・・・コントロールバルブ、２５・・・エンコーダ
、２７・・・流？ｆｔ　セン？、３５・・・コントロー
ルパルプ、３５・・・エンコーダ、３７・・・圧力セン
サ、４０・・・真空排気装置。 第１図 第　Ｚ　図 第１頁の続き ０発　明　者　相　内　進 黄浜市戸塚区吉田町２乾番地　株式会社日立製作所生産
技術研究所内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｔ　処理用ガスの流量コントロール供給手段と、排気量
   のコントロールできる排気手段とを有するドライプロセ
   ス処理装置であって、設定された各処理条件でのプログ
   ラムされた流量及び排気量コントロール状態を記憶する
   記憶手段と、該記憶手段に記憶されたプログラムコント
   ロールデータにもとづき、上記ガス供給手段及び排′気
   手段を制御する制御手段を備え伺けたことを特徴とする
   ドライプロセス処理装置。 ２、　上記制御手段は、ガス供給量、排気量を最大ある
   いは最小にして一定の圧力範囲になった後記憶データに
   基ついた状態に設定し、その後圧力コントロールを設定
   された圧力と測定値の差に基づいてコントロールするよ
   うに構成したことを特徴とする特許請求範囲第１項記載
   のドライプロセス処理装置。 ３、　上記記憶手段は、設定された各処理条件での流量
   、排気量コントロール状態の記憶を、各処理ごとに設定
   圧力状態に対し所定の圧力範囲になった時のデータを取
   込み、すでに記憶されたデータに置侯え記１．ハするよ
   う構成したこと特徴とする特許請求範囲第１項記載のド
   ライプロセス処理装置。