JPS6081180A - 3‐ホルミル‐テトラヒドロチオピランの製法 - Google Patents
3‐ホルミル‐テトラヒドロチオピランの製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D335/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ニッケル、コバルト、白金、 zl(il及
び/又は銀を含有する触媒の存在下に、6−ホルミル−
5,6−シヒドロー2 H−チオヒラン類を還元ずろこ
とによる、6−ホルミルーチトラヒドローチオビランジ
ゴ1の製法に関する。6−ホルミル−5,6−シヒドロ
ー2 II−チオビランは場合により、ビス−(β−ホ
ルミルエチル)−スルフィド及び/又は6−ホルミル−
4−ヒドロキシ−テトラヒドロチオビランを酸性触媒の
存在下に反応させ、そして場合によりこのビスア ー(β−ホルミルエチル) ’(;−ルフ4イド及ヒ/
又は6−ホルミル−4−ヒドロキシ−テトラヒドロチオ
ビランは、アクロレインを(a)塩基性触媒及び溶剤と
しての塩化メチレン、芳香族炭化水素及び/又は111
+2−1− IJジクロルタンの存在下に及び/又は
(b)カルボン酸アミドの存在下に硫化水素と反応させ
ることにより製造される。
び/又は銀を含有する触媒の存在下に、6−ホルミル−
5,6−シヒドロー2 H−チオヒラン類を還元ずろこ
とによる、6−ホルミルーチトラヒドローチオビランジ
ゴ1の製法に関する。6−ホルミル−5,6−シヒドロ
ー2 II−チオビランは場合により、ビス−(β−ホ
ルミルエチル)−スルフィド及び/又は6−ホルミル−
4−ヒドロキシ−テトラヒドロチオビランを酸性触媒の
存在下に反応させ、そして場合によりこのビスア ー(β−ホルミルエチル) ’(;−ルフ4イド及ヒ/
又は6−ホルミル−4−ヒドロキシ−テトラヒドロチオ
ビランは、アクロレインを(a)塩基性触媒及び溶剤と
しての塩化メチレン、芳香族炭化水素及び/又は111
+2−1− IJジクロルタンの存在下に及び/又は
(b)カルボン酸アミドの存在下に硫化水素と反応させ
ることにより製造される。
アクロレイン及び硫化水素から銅片及びトリエチルアミ
ンの存在下に一10℃で、6−ホルミル−5,6−シヒ
ドロー2 H−チオピランを製造しうろことは公知であ
る( Z、 Lebensm・Unters、 For
sch、 170巻64〜65頁1980年)。同様に
西ドイツ特許出願公告1919504号明細書には、2
段階の、すなわち塩基及び溶剤の存在下で一10〜+1
50°Cで反応を行い、次いで生成物を強酸と60〜1
60°Cで反応させることによる製造法が記載されてい
る。実施例は、溶剤としてクロロホルム及びメタノール
、塩基として三級アミン及び酸として燐酸及び硫酸を使
用するへ加圧下の操作法を示している。
ンの存在下に一10℃で、6−ホルミル−5,6−シヒ
ドロー2 H−チオピランを製造しうろことは公知であ
る( Z、 Lebensm・Unters、 For
sch、 170巻64〜65頁1980年)。同様に
西ドイツ特許出願公告1919504号明細書には、2
段階の、すなわち塩基及び溶剤の存在下で一10〜+1
50°Cで反応を行い、次いで生成物を強酸と60〜1
60°Cで反応させることによる製造法が記載されてい
る。実施例は、溶剤としてクロロホルム及びメタノール
、塩基として三級アミン及び酸として燐酸及び硫酸を使
用するへ加圧下の操作法を示している。
飽和アルデヒドである6−ホルミルーチトラヒドロチオ
ピランの製造は、これまで英国特許1479916号明
細省にだけ記載されている。
ピランの製造は、これまで英国特許1479916号明
細省にだけ記載されている。
この場合はまず6−クロルプロピオンアルデヒド−ジエ
チルアセタール及び水硫化ソーダから6−ホルミル−5
,6−シヒドロー21−I−チオビランを製造し、次い
でこれを炭素担体上のパラジウム触媒を用いて還元して
飽和アルデヒドにする。実施例は高い触媒量が必要であ
ることを示しており、6−ホルミル−5,6−シヒドロ
ー2H−チオピラン6.2gに対し、炭素上にノくラジ
ウム10%を有する触媒が、1.5.9用いられ℃いる
。
チルアセタール及び水硫化ソーダから6−ホルミル−5
,6−シヒドロー21−I−チオビランを製造し、次い
でこれを炭素担体上のパラジウム触媒を用いて還元して
飽和アルデヒドにする。実施例は高い触媒量が必要であ
ることを示しており、6−ホルミル−5,6−シヒドロ
ー2H−チオピラン6.2gに対し、炭素上にノくラジ
ウム10%を有する触媒が、1.5.9用いられ℃いる
。
不飽和サルファイドをパラジウム/木炭触媒上で還元し
て飽和サルファイドに変えることも公知である。これに
ついては重金属触媒上で、普通−の条件すなわち加圧下
の高温での水素化が著しい水素分解に導くことが知られ
ている(J。
て飽和サルファイドに変えることも公知である。これに
ついては重金属触媒上で、普通−の条件すなわち加圧下
の高温での水素化が著しい水素分解に導くことが知られ
ている(J。
Chem* Soc、 2888〜2890頁、195
8年参照)。
8年参照)。
さらにα、β−不飽和アルデヒドを部分水素化して飽和
アルデヒドにするため、白金触媒の使用が好ましいこと
が報告されている(ライランダー著カクリテイツク・ハ
イドロゲネイション・オーバー・プラチナム・メタルズ
、アカデミツク出版社ニュ・−ヨーク1967年版10
7〜1・08頁)。西ドイツ特許出願公開285269
9号明細舵1には、パラジウム及び希土類金属化合物か
ら成る触媒が記載され、これについては敏感なアルデヒ
ド基が存在するにもかかわらず、オレフィン性不飽和ア
ルデヒドの対応する飽和アルコールへの過水素化が避け
られることが知られている。この文献は、脂肪族不飽和
アルデヒドの場合に白金触媒も使用できるが、いずれの
場合にもパラジウム触媒だけが、カルボニル基を本質的
に還元することなく選択的にオレフィン基を還元するの
で、触媒としてパラジウムを使用すべきことを教示して
いる。その実施例としては、シトロネラールの還元が示
され、その場合パラジウム触媒はメレフイン性二重結合
を攻撃するが、ニッケル触媒はカルボニル基を攻撃する
。
アルデヒドにするため、白金触媒の使用が好ましいこと
が報告されている(ライランダー著カクリテイツク・ハ
イドロゲネイション・オーバー・プラチナム・メタルズ
、アカデミツク出版社ニュ・−ヨーク1967年版10
7〜1・08頁)。西ドイツ特許出願公開285269
9号明細舵1には、パラジウム及び希土類金属化合物か
ら成る触媒が記載され、これについては敏感なアルデヒ
ド基が存在するにもかかわらず、オレフィン性不飽和ア
ルデヒドの対応する飽和アルコールへの過水素化が避け
られることが知られている。この文献は、脂肪族不飽和
アルデヒドの場合に白金触媒も使用できるが、いずれの
場合にもパラジウム触媒だけが、カルボニル基を本質的
に還元することなく選択的にオレフィン基を還元するの
で、触媒としてパラジウムを使用すべきことを教示して
いる。その実施例としては、シトロネラールの還元が示
され、その場合パラジウム触媒はメレフイン性二重結合
を攻撃するが、ニッケル触媒はカルボニル基を攻撃する
。
ニッケル触媒は硫黄化合物例えばチオフェンにより速や
かに被毒する(ハルト−著チオフェン・アンド拳イツソ
ーデリバテイブズ、インターザイエンス出版社ニューヨ
ーク1952年167〜168頁参照)。これについて
は有機化合物から脱硫するためにニッケル触媒及びコバ
ルト触媒が役立ち、その場合硫化水素が除去されること
が知られている。白金触媒もチオフェンによって被毒す
る。チオフェン化合物例えばチオラン化合物も、銅触媒
、白金触媒及びニッケル触媒による水素化の際に分解さ
れる。アンゲワンテeマイクロモレクラーレ・ヘミ−5
2巻1976年63〜70頁の論説も、ニッケル触媒が
有効な脱硫触媒であることを示している1゜フライフエ
ルダー著プラクティカル・カフリティック・ハイドロゲ
ネイション、ウィリー・イアター11工ンス社ニューヨ
ーク1971年156〜154頁も、同様に不飽和アル
デヒドの水素化のためのパラジウム触媒を推奨しており
、そして白金触媒及びニッケル触媒が不適当で、ニッケ
ル触媒が過水素化を起こすことを示している。
かに被毒する(ハルト−著チオフェン・アンド拳イツソ
ーデリバテイブズ、インターザイエンス出版社ニューヨ
ーク1952年167〜168頁参照)。これについて
は有機化合物から脱硫するためにニッケル触媒及びコバ
ルト触媒が役立ち、その場合硫化水素が除去されること
が知られている。白金触媒もチオフェンによって被毒す
る。チオフェン化合物例えばチオラン化合物も、銅触媒
、白金触媒及びニッケル触媒による水素化の際に分解さ
れる。アンゲワンテeマイクロモレクラーレ・ヘミ−5
2巻1976年63〜70頁の論説も、ニッケル触媒が
有効な脱硫触媒であることを示している1゜フライフエ
ルダー著プラクティカル・カフリティック・ハイドロゲ
ネイション、ウィリー・イアター11工ンス社ニューヨ
ーク1971年156〜154頁も、同様に不飽和アル
デヒドの水素化のためのパラジウム触媒を推奨しており
、そして白金触媒及びニッケル触媒が不適当で、ニッケ
ル触媒が過水素化を起こすことを示している。
西ドイツ特許1919504号明細書には、アクロレイ
ン及び硫化水素を有機塩基の存在下に、場合により有機
溶剤の存在下に反応させ、次いで反応生成物を強酸で後
処理することによる、6−ホルミルーテI・ラヒドロー
チオビラン(1−チアシクロ−Δ3−ヘキセナール−6
)の製法が記載されている。実施例には、6.5ゲージ
圧までの圧力、溶剤としてのメタノール及びクロロホル
ム及び塩基としての三級アミンが記載されている。硫化
水素及び塩基は常に先に存在し、次いでアクロレインが
混合物に添加される。
ン及び硫化水素を有機塩基の存在下に、場合により有機
溶剤の存在下に反応させ、次いで反応生成物を強酸で後
処理することによる、6−ホルミルーテI・ラヒドロー
チオビラン(1−チアシクロ−Δ3−ヘキセナール−6
)の製法が記載されている。実施例には、6.5ゲージ
圧までの圧力、溶剤としてのメタノール及びクロロホル
ム及び塩基としての三級アミンが記載されている。硫化
水素及び塩基は常に先に存在し、次いでアクロレインが
混合物に添加される。
本発明者らは1次式
(式中の1(1は後記の意味を有ずろ)で表わされる6
−ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオピランを、
ニッケル、コバルト、白金、銅及び/又は銀を含有する
触媒の存在]:に水素化するとき、次式 ( (式中のR1はそれぞれ水素原子又は脂肪族基を意味す
る)で表わされる6−ホルミルーチトラヒドロチオピラ
ンが有利に得られることを見出した。
−ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオピランを、
ニッケル、コバルト、白金、銅及び/又は銀を含有する
触媒の存在]:に水素化するとき、次式 ( (式中のR1はそれぞれ水素原子又は脂肪族基を意味す
る)で表わされる6−ホルミルーチトラヒドロチオピラ
ンが有利に得られることを見出した。
さらに本発明者らは、次式
(式中のR′は後記の意味を有する)で表わされるビス
−(β−ポルミルエテル)−サルファイド及び/又は次
式 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされる6−
ホルミル−4−ヒドロキシ−テトラヒドロチオピランを
、酸性触媒の存在下に反応させ、次いで水素化するとき
、本発明方法を有利に実施し5ることを見出した。
−(β−ポルミルエテル)−サルファイド及び/又は次
式 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされる6−
ホルミル−4−ヒドロキシ−テトラヒドロチオピランを
、酸性触媒の存在下に反応させ、次いで水素化するとき
、本発明方法を有利に実施し5ることを見出した。
さらにまた本発明者らは、次式
(式中のR’は後記の意味を有する)で表わされるアク
ロレインを、(a)塩基性触媒及び溶剤としての塩化メ
チレン、芳香族炭化水素及び/又は1,1.2−1−
IJジクロルタン及び/又は(1))カルボン酸アミド
の存在下に硫化水素と反応させ、得られた次式 (式中のR′は後記の意味を有する)で表わされるビス
−(β−ホルミルエチル)−サルファイドと次式 (式中σ月(1は後記の意味を有する)で表わされる6
−ホルミル−4−ヒドロキシーテトラヒドロチオピシン
どの混合物を、酸性触媒の存在下に反応さぜ、次いで水
素化するとき、本発明含有するニッケル触媒、コバルト
触媒、白金触媒、銅触媒及び/又は銀触媒を使用しうろ
ことも見出された。
ロレインを、(a)塩基性触媒及び溶剤としての塩化メ
チレン、芳香族炭化水素及び/又は1,1.2−1−
IJジクロルタン及び/又は(1))カルボン酸アミド
の存在下に硫化水素と反応させ、得られた次式 (式中のR′は後記の意味を有する)で表わされるビス
−(β−ホルミルエチル)−サルファイドと次式 (式中σ月(1は後記の意味を有する)で表わされる6
−ホルミル−4−ヒドロキシーテトラヒドロチオピシン
どの混合物を、酸性触媒の存在下に反応さぜ、次いで水
素化するとき、本発明含有するニッケル触媒、コバルト
触媒、白金触媒、銅触媒及び/又は銀触媒を使用しうろ
ことも見出された。
反応はアクロレインを使用し、そして6段階で操作する
場合について次式で示される。
場合について次式で示される。
↓+2)(2
■(つ
既知方法と比・:ズして本発明方法は、簡単がっIIU
’r的な方法で6−ボルミルーテトラヒドロチオビラン
を改イにされた収率及び純度で提供できる。すべてのこ
の有利な成果は技術水i((がらみて予想外のものであ
る。すなわち6−ボルミルー5,6−ジヒドロ−21]
−チオピランの水素化に際してパラジウム触媒は速やか
に肢mするが(比較例5)、本発明の触媒特にニッケル
触媒によれば、きわめて選択的に水素化が行われ、そし
て認めうるほどの活性損失なしに再使用できる。前記の
ハルト−の教示から見て、本発明のニッケル触媒は速や
かに被■Jすることが予想された。特に西ドイツ特許出
願公開2862699号及びフライ7エルダーの刊行物
に関して、対応するアルコールへのチオピランの著しい
過水素化が起こらないことは意外であった。いずれの場
合にもこれら刊行物、ハルト−の著書及びアンケハンテ
ン・マクロモレクラ−レン・ヘミ−によれば、触媒の著
しい活性低1:′チオピラン環の分解、硫化水素及び種
々の分W(生成物及び副生物の生成が予想された。
’r的な方法で6−ボルミルーテトラヒドロチオビラン
を改イにされた収率及び純度で提供できる。すべてのこ
の有利な成果は技術水i((がらみて予想外のものであ
る。すなわち6−ボルミルー5,6−ジヒドロ−21]
−チオピランの水素化に際してパラジウム触媒は速やか
に肢mするが(比較例5)、本発明の触媒特にニッケル
触媒によれば、きわめて選択的に水素化が行われ、そし
て認めうるほどの活性損失なしに再使用できる。前記の
ハルト−の教示から見て、本発明のニッケル触媒は速や
かに被■Jすることが予想された。特に西ドイツ特許出
願公開2862699号及びフライ7エルダーの刊行物
に関して、対応するアルコールへのチオピランの著しい
過水素化が起こらないことは意外であった。いずれの場
合にもこれら刊行物、ハルト−の著書及びアンケハンテ
ン・マクロモレクラ−レン・ヘミ−によれば、触媒の著
しい活性低1:′チオピラン環の分解、硫化水素及び種
々の分W(生成物及び副生物の生成が予想された。
アクロレインJJiをイレ1[化水素と三級アミンの存
在下に反応させ−(、ビス−(β−ポルミルエチル)−
−リルファイド■と6−ボルミルー4−ヒv ドロキシ−テトラヒドロチオビラうの混合物にする反応
は、西ドイツ特許出願公告1919504号明細店・の
記載からみて湾外にも、アクロレインを前置して(il
E化水素を供給するか、あるいは好ましくはアクロレイ
ン及びKMt化水素を反応室に′1:;圧で10〜60
°C0′)温度で同時に供給してイJわれる。同様にこ
れら団1」物によれは、本発明の方法により溶剤として
塩化メチレン、芳香族炭化水素及び好ましくは1.1.
2−1− 、lJジクロルタンを使用しうるが、アルコ
ールは悪い比較し−〔意外にも、出発物質置及び1vの
主要量でなく、希望しない重合生成物のみが得られるこ
と(比較例2)も予想されなかった。
在下に反応させ−(、ビス−(β−ポルミルエチル)−
−リルファイド■と6−ボルミルー4−ヒv ドロキシ−テトラヒドロチオビラうの混合物にする反応
は、西ドイツ特許出願公告1919504号明細店・の
記載からみて湾外にも、アクロレインを前置して(il
E化水素を供給するか、あるいは好ましくはアクロレイ
ン及びKMt化水素を反応室に′1:;圧で10〜60
°C0′)温度で同時に供給してイJわれる。同様にこ
れら団1」物によれは、本発明の方法により溶剤として
塩化メチレン、芳香族炭化水素及び好ましくは1.1.
2−1− 、lJジクロルタンを使用しうるが、アルコ
ールは悪い比較し−〔意外にも、出発物質置及び1vの
主要量でなく、希望しない重合生成物のみが得られるこ
と(比較例2)も予想されなかった。
反応(水素化)は、当量又は好ましくは過剰の、特に好
ましくは出発物質Hの1モルに対し1〜50モル特に1
〜10モルの水素を用いて行われる。好ましい出発物質
■及び物質1、IV、■及び対応する好ましい目的′吻
iJ↓1(」1、式中の個々の基H’がぞれぞAし水素
原子又は1〜8個!14に1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基を意味するものである。前記の基はさらに反
応条件下で不活性の基、例えば1〜4個の炭素原子を有
するアルキル基により置換されて(・てもよい。
ましくは出発物質Hの1モルに対し1〜50モル特に1
〜10モルの水素を用いて行われる。好ましい出発物質
■及び物質1、IV、■及び対応する好ましい目的′吻
iJ↓1(」1、式中の個々の基H’がぞれぞAし水素
原子又は1〜8個!14に1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基を意味するものである。前記の基はさらに反
応条件下で不活性の基、例えば1〜4個の炭素原子を有
するアルキル基により置換されて(・てもよい。
出発物質■としては例えば次のチオピランが用いられる
。2−ノチルー、2−」−チル−12−プロピル−12
−インプロピル−52−ブチル−12−イソブチル−1
2−二級ブチル−又は2−三級ブチル−6−ホルミル−
5,6−シヒドロー2 )]−チオビラン;前記の基に
より2−位の代わりに6−位で置換された6−ホルミル
−5,6−シヒドロー2H−チオピラン; 前記の基に
より2−位及び6−位で置換された6−ホルZルー5,
6−シヒドロー2 i(−チオピラン;特に好ましくは
6−ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオピラン。
。2−ノチルー、2−」−チル−12−プロピル−12
−インプロピル−52−ブチル−12−イソブチル−1
2−二級ブチル−又は2−三級ブチル−6−ホルミル−
5,6−シヒドロー2 )]−チオビラン;前記の基に
より2−位の代わりに6−位で置換された6−ホルミル
−5,6−シヒドロー2H−チオピラン; 前記の基に
より2−位及び6−位で置換された6−ホルZルー5,
6−シヒドロー2 i(−チオピラン;特に好ましくは
6−ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオピラン。
反応(水素化)は故通4ま10〜180℃好ましくは5
0〜150℃の温度で、常圧、減圧又は好ましくは加圧
下に、好ましくは1〜600バール、%に好4[シ<は
1〜205)く−ル、より有利には1〜155バール、
特に有利には1〜100バールそして特に5〜50バー
ルの圧力下に、連続的又は非連続的に行われる。反応条
件下で不活性な有機溶剤を使用することが好ましく゛。
0〜150℃の温度で、常圧、減圧又は好ましくは加圧
下に、好ましくは1〜600バール、%に好4[シ<は
1〜205)く−ル、より有利には1〜155バール、
特に有利には1〜100バールそして特に5〜50バー
ルの圧力下に、連続的又は非連続的に行われる。反応条
件下で不活性な有機溶剤を使用することが好ましく゛。
溶剤としては例えば次のものが用いらレル。エーテル伝
えはエチルプロピルエーテル、メチル三級ブチルエーテ
ル、r〕−ブチルエチルエーテル、ジーrl−ブチルエ
ーテル、ジイソブチルエーテル、シイツブロビルエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジエチレンクリコール−ジメチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン;アルカ
ノール及びシクロアルカノール例えばエタノール、メタ
ノール、rl−ブタノール、イソブタノール、三級ブタ
ノール、グリコール、6−メドキシプロパノール、二級
ブタノール、n−プロパノール、イソプロパツール、シ
クロヘキサノール、エチレングリコール−モノエチルエ
ーテル、2−エチルヘキサノール、メチルグリコール、
11−ヘキサノール、インヘキサノール、イソヘプタツ
ール、11−ヘプタツール、エチルブタノール、ノニル
アルコール、ドデシルアル=I−ル、;Iチルシクロヘ
キザノール、特に1〜4個の炭素原子を有するもの;三
級アミン例えばN−メチルピペリジン、N−メチルモル
ホリン;カルボン酸アミド例えばN、N−ジメチルベン
ズアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N 、N−
ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルフェニルアセ
トアミド、N、IJ−ジメチルシクロヘチサンカルボン
酸アミド、N 、N−ジメチルプロピオン酸アミド、同
族のN−メチルカルボン酸ヒペリジド、N−メチルカル
ボン酸ピロリシト;対応するN、N−ジエチル−1N、
iv−ジプロピル−1N、N−ジイソプロピル−1N、
N−ジインブチル−、エリ、N−ジベンジル−1N 、
N−ジンエニルー、N−メチル−N−ンエニルー、N−
シクロヘキシルーN−メチル−1N−エチル−N−三級
プチル化合物;1」−メチルーホルムアニIJ ト、N
−エチル−ピペリドン−6、N−メチルピロリドン、テ
トラメチル尿素;特に好ましくはエステル例えば+′l
i’+酸メチル、酢酸エチル、n−プロピルアセテ−1
・、インプチルホルミエート、メチルピロリドン・−ト
、11−ブチルアセテ−1−、エチルポルミニ−1・、
フクル酸メチルエステル、安息香酸メチルエステル、フ
ェニルアセテート;それらの混合物。溶剤は出発物質■
に対し、10〜1oooo重量係特に10〜1000重
量%の量で用(・ることか好ましい。
えはエチルプロピルエーテル、メチル三級ブチルエーテ
ル、r〕−ブチルエチルエーテル、ジーrl−ブチルエ
ーテル、ジイソブチルエーテル、シイツブロビルエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジエチレンクリコール−ジメチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン;アルカ
ノール及びシクロアルカノール例えばエタノール、メタ
ノール、rl−ブタノール、イソブタノール、三級ブタ
ノール、グリコール、6−メドキシプロパノール、二級
ブタノール、n−プロパノール、イソプロパツール、シ
クロヘキサノール、エチレングリコール−モノエチルエ
ーテル、2−エチルヘキサノール、メチルグリコール、
11−ヘキサノール、インヘキサノール、イソヘプタツ
ール、11−ヘプタツール、エチルブタノール、ノニル
アルコール、ドデシルアル=I−ル、;Iチルシクロヘ
キザノール、特に1〜4個の炭素原子を有するもの;三
級アミン例えばN−メチルピペリジン、N−メチルモル
ホリン;カルボン酸アミド例えばN、N−ジメチルベン
ズアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N 、N−
ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルフェニルアセ
トアミド、N、IJ−ジメチルシクロヘチサンカルボン
酸アミド、N 、N−ジメチルプロピオン酸アミド、同
族のN−メチルカルボン酸ヒペリジド、N−メチルカル
ボン酸ピロリシト;対応するN、N−ジエチル−1N、
iv−ジプロピル−1N、N−ジイソプロピル−1N、
N−ジインブチル−、エリ、N−ジベンジル−1N 、
N−ジンエニルー、N−メチル−N−ンエニルー、N−
シクロヘキシルーN−メチル−1N−エチル−N−三級
プチル化合物;1」−メチルーホルムアニIJ ト、N
−エチル−ピペリドン−6、N−メチルピロリドン、テ
トラメチル尿素;特に好ましくはエステル例えば+′l
i’+酸メチル、酢酸エチル、n−プロピルアセテ−1
・、インプチルホルミエート、メチルピロリドン・−ト
、11−ブチルアセテ−1−、エチルポルミニ−1・、
フクル酸メチルエステル、安息香酸メチルエステル、フ
ェニルアセテート;それらの混合物。溶剤は出発物質■
に対し、10〜1oooo重量係特に10〜1000重
量%の量で用(・ることか好ましい。
本発明方法の水素化のための触媒を製造するためKは、
次の金属が用いられる。ニッケル、コバルト、白金、銅
、銀。触媒は担体なしで、例えばラネーニッケル、ラネ
ーコバルト、として、あるいは担持触媒として用いられ
る。担体なしの触媒は、本発明に用いられる金属の化合
物、好ましくはその酸化物であってもよい。担体として
は、例えば炭素、シリカゲル、珪酸アルミニウム又は酸
化アルミニウムが適スル。このような担持触媒の製造は
一任意の手段で、例え表 ば担体を対応する金属塩の溶液で浸漬することにより、
あるいは成分を糺合し又は粉砕混合することにより行わ
れる。触媒特に担持触媒の製造の詳細については、ボウ
ベン−ワイル著メト−テン・デル・オルガニツシエン・
ヘミ−4/2巻167頁以下が参照される。担持触媒の
場合の触媒の金属含量は、担体42旧の全型[jtに対
し普通は0.05〜195重量係好ましくは0.5〜1
5重量係である。本発明の水素化触媒の金属(Ni、C
o−Cu、 Pt、 Ag )は、通常は出発物質■に
対し0.1〜100重量係特に0.5〜20重量係の量
で用いられる。
次の金属が用いられる。ニッケル、コバルト、白金、銅
、銀。触媒は担体なしで、例えばラネーニッケル、ラネ
ーコバルト、として、あるいは担持触媒として用いられ
る。担体なしの触媒は、本発明に用いられる金属の化合
物、好ましくはその酸化物であってもよい。担体として
は、例えば炭素、シリカゲル、珪酸アルミニウム又は酸
化アルミニウムが適スル。このような担持触媒の製造は
一任意の手段で、例え表 ば担体を対応する金属塩の溶液で浸漬することにより、
あるいは成分を糺合し又は粉砕混合することにより行わ
れる。触媒特に担持触媒の製造の詳細については、ボウ
ベン−ワイル著メト−テン・デル・オルガニツシエン・
ヘミ−4/2巻167頁以下が参照される。担持触媒の
場合の触媒の金属含量は、担体42旧の全型[jtに対
し普通は0.05〜195重量係好ましくは0.5〜1
5重量係である。本発明の水素化触媒の金属(Ni、C
o−Cu、 Pt、 Ag )は、通常は出発物質■に
対し0.1〜100重量係特に0.5〜20重量係の量
で用いられる。
好ましい実施態様においては、触媒中に本発明による金
属又は金属化合物のほか、さらに塩基性酸化物、普通は
周期律表11,1族又はm a′yj:の金属の塩基性
酸化物、好ましくはカル7ウム、マグネシウム及び/又
は希土類特にゾラセオジム又はセルの酸化物が用いられ
る。これらの族バタンーラックスのタツシエンブツフ、
フユル・ヘミ−カー・ラント・フィシ−カー(シュプリ
ンガー社ベルリン1967年版)1巻66頁の配置に関
する。触媒中の塩基性金属酸化物の含量は、触媒又は担
41−触媒に対し、好ましくは0.5〜90重量%特に
0.5〜60重量%であり、その場合塩基性金属酸化物
例えば酸化マグネシウムは、それ自体が担体であるか又
は担体の一部であってもよい。
属又は金属化合物のほか、さらに塩基性酸化物、普通は
周期律表11,1族又はm a′yj:の金属の塩基性
酸化物、好ましくはカル7ウム、マグネシウム及び/又
は希土類特にゾラセオジム又はセルの酸化物が用いられ
る。これらの族バタンーラックスのタツシエンブツフ、
フユル・ヘミ−カー・ラント・フィシ−カー(シュプリ
ンガー社ベルリン1967年版)1巻66頁の配置に関
する。触媒中の塩基性金属酸化物の含量は、触媒又は担
41−触媒に対し、好ましくは0.5〜90重量%特に
0.5〜60重量%であり、その場合塩基性金属酸化物
例えば酸化マグネシウムは、それ自体が担体であるか又
は担体の一部であってもよい。
触媒及び担持触媒は(連続的又は非連続的操作法におい
て)、好ましくは棒状又は粉末状で用いられる。
て)、好ましくは棒状又は粉末状で用いられる。
反応は次のように実施することができる。出発物質■、
水素、触媒及び場合により溶剤の混合物を、反応温度及
び反応圧力で反応させる。
水素、触媒及び場合により溶剤の混合物を、反応温度及
び反応圧力で反応させる。
水素は連続的又は非連続的に反応に供給され、及び/又
は触媒自体に一定の反応時間後に再び水素を負荷させる
。普通は反応混合物に反応の最初に及び経過中に水素を
、反応温度において常に対応する反応圧力となる量で供
給する。対応する圧力にするためには、水素のほかに不
活性ガス例えば窒素を使用することもできる。例えば反
応器中で出発物質■に溶剤を添加し、水素化触媒を添加
し、そして反応室を水素で洗う。
は触媒自体に一定の反応時間後に再び水素を負荷させる
。普通は反応混合物に反応の最初に及び経過中に水素を
、反応温度において常に対応する反応圧力となる量で供
給する。対応する圧力にするためには、水素のほかに不
活性ガス例えば窒素を使用することもできる。例えば反
応器中で出発物質■に溶剤を添加し、水素化触媒を添加
し、そして反応室を水素で洗う。
次いで水素を前記の反応圧力になるまで圧入する。そこ
で反応混合物を前記の温度となし、この温度でさらに水
素を導入しながら、水素がもはや反応により消費されな
くなるまで保持する。
で反応混合物を前記の温度となし、この温度でさらに水
素を導入しながら、水素がもはや反応により消費されな
くなるまで保持する。
次いで反応混合物を冷却してF1過L2、P液から常法
例えば蒸留により目的物質を分離する。
例えば蒸留により目的物質を分離する。
出発物質■は任意の方法で、例えば西ドイツ特許出願公
告1919504号の方法により製造できる。2種の好
ましい実施態様にお(・てアクロレイン■を硫化水素と
、実施態様。)で(1、塩基性触媒の存在下に溶剤例え
ば塩化メチレン、芳香族炭化水素及び/又は特に111
12−1− IJアク ロルエA−ンと一緒に反応させ、実施態様すでは同時に
塩基性触媒及び溶剤として作用するカルボン酸アミドの
存在下に反応させる。操作法aでも操作法すでも、−1
5〜」−60℃特に−8〜+40℃の温度で、常圧、加
圧又は減圧下で連続的又は非連続的に操作することが好
ましい。操作法a又はbにあげた溶剤は、単独でも相互
の混合物でも月見・られる。溶剤は好ましくは出発物質
■に対し10〜1oooo重量係特に10〜1000重
量係の量で用いられる。出発物質V及び硫化水素は当量
で又は一方の他方に対する過剰で、好ましくはアクロン
イン■の1モルに対し硫化水素が0.6〜10モル特に
0゜5〜2モルの割合で用いられる。
告1919504号の方法により製造できる。2種の好
ましい実施態様にお(・てアクロレイン■を硫化水素と
、実施態様。)で(1、塩基性触媒の存在下に溶剤例え
ば塩化メチレン、芳香族炭化水素及び/又は特に111
12−1− IJアク ロルエA−ンと一緒に反応させ、実施態様すでは同時に
塩基性触媒及び溶剤として作用するカルボン酸アミドの
存在下に反応させる。操作法aでも操作法すでも、−1
5〜」−60℃特に−8〜+40℃の温度で、常圧、加
圧又は減圧下で連続的又は非連続的に操作することが好
ましい。操作法a又はbにあげた溶剤は、単独でも相互
の混合物でも月見・られる。溶剤は好ましくは出発物質
■に対し10〜1oooo重量係特に10〜1000重
量係の量で用いられる。出発物質V及び硫化水素は当量
で又は一方の他方に対する過剰で、好ましくはアクロン
イン■の1モルに対し硫化水素が0.6〜10モル特に
0゜5〜2モルの割合で用いられる。
操作法aの反応は触媒としての塩基性化合物の存在下に
、好ましくは出発物質Vの1モルに対し塩基性化合物が
0.001〜0.1当量特に0゜005〜0,05当量
の量で行われる。特に好ましい塩基性化合物は三級アミ
ンであるが、アルカリ土類化合物、アンモニウム化合物
、アルカリ化合物、−級又は二級のアミンも用いられろ
。
、好ましくは出発物質Vの1モルに対し塩基性化合物が
0.001〜0.1当量特に0゜005〜0,05当量
の量で行われる。特に好ましい塩基性化合物は三級アミ
ンであるが、アルカリ土類化合物、アンモニウム化合物
、アルカリ化合物、−級又は二級のアミンも用いられろ
。
塩基性化合物の例は次のものである。水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、重
炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、水酸化カルシウム、
酸化カルシウム、酸化バリウム、水酸化マグネシウム、
酸化マグネシウム、水酸化バリウム、炭酸カルシウム、
硅酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、代配カリウム、酢酸
カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、カリウムメチラート、カリウムエチラート、トリメ
チルアミン、l・ジエチルアミン、トリプロピルアミン
、トリイソブチルアミン、トリブチルアミン、トリイソ
ブチルアミン、トリ二級ブチルアミン、1−ジ三級ブチ
ルアミン、トリヘンシルアミン、l−1,1シクロヘキ
シルアミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、
N 、N−ジメチルアニリン、]\l、N−ジエチルア
ニリン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジイ
ソブチルアミン、ピロリドン、ピペリジン、ピロリジン
、イミダゾール、ピロール、N、IIt−ジメチルエチ
レンジアミン、N、コーシエチルエチレンジアミン、モ
ルホリン、ヘキサメチレンイミン、メチルアミン、エチ
ルアミン、プロピルアミン、イングロビルアミン、ブチ
ルアミン、二級ブチルアミン、三級ブチルアミン、アニ
リン、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、
N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、N−メ
チルピロリジン、N−エチルピロリジン、N−エチルビ
ロール、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン
、N−メチルへキサメチレンイミン、N−エチルへキサ
メチレンイミン、ピリジン、キノリン、ピリミジン。
水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、重
炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、水酸化カルシウム、
酸化カルシウム、酸化バリウム、水酸化マグネシウム、
酸化マグネシウム、水酸化バリウム、炭酸カルシウム、
硅酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、代配カリウム、酢酸
カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、カリウムメチラート、カリウムエチラート、トリメ
チルアミン、l・ジエチルアミン、トリプロピルアミン
、トリイソブチルアミン、トリブチルアミン、トリイソ
ブチルアミン、トリ二級ブチルアミン、1−ジ三級ブチ
ルアミン、トリヘンシルアミン、l−1,1シクロヘキ
シルアミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、
N 、N−ジメチルアニリン、]\l、N−ジエチルア
ニリン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジイ
ソブチルアミン、ピロリドン、ピペリジン、ピロリジン
、イミダゾール、ピロール、N、IIt−ジメチルエチ
レンジアミン、N、コーシエチルエチレンジアミン、モ
ルホリン、ヘキサメチレンイミン、メチルアミン、エチ
ルアミン、プロピルアミン、イングロビルアミン、ブチ
ルアミン、二級ブチルアミン、三級ブチルアミン、アニ
リン、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、
N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、N−メ
チルピロリジン、N−エチルピロリジン、N−エチルビ
ロール、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン
、N−メチルへキサメチレンイミン、N−エチルへキサ
メチレンイミン、ピリジン、キノリン、ピリミジン。
操作法すでは、カルボン酸アミドは単独で又は相互の混
合物で、好ましくは溶剤を添加しないで用いられる。場
合によりこれは芳香族炭化水素、1,112−1Jクロ
ルエタン及び/又は塩化メチレンと一緒に、好ましくは
操作法aであげたアクロレインVに対する量比で用いら
れ、両 あるいは塩基性触媒及びa)におけ傷溶剤と一緒に、好
ましくばa)の前記反応条件下で用いられる。カルボン
酸アミドとしては、芳香族、芳香脂肪族、脂環族又は特
に脂肪族又は還状のカルボン酸アミドが用いられ、これ
らは窒素原子において非置換の又はモノ置換もしくは好
ましくはジ置換されたカルボン酸アミドであってよい。
合物で、好ましくは溶剤を添加しないで用いられる。場
合によりこれは芳香族炭化水素、1,112−1Jクロ
ルエタン及び/又は塩化メチレンと一緒に、好ましくは
操作法aであげたアクロレインVに対する量比で用いら
れ、両 あるいは塩基性触媒及びa)におけ傷溶剤と一緒に、好
ましくばa)の前記反応条件下で用いられる。カルボン
酸アミドとしては、芳香族、芳香脂肪族、脂環族又は特
に脂肪族又は還状のカルボン酸アミドが用いられ、これ
らは窒素原子において非置換の又はモノ置換もしくは好
ましくはジ置換されたカルボン酸アミドであってよい。
次式のアミドが好ましく・。
この式中側々の基R2及びR3は同一でも異なってもよ
く、それぞれ水素原子、1〜4個の炭素原子を有するア
ルキル、基、シクロヘキシル基、7〜12個の炭素原子
を有するアルアルキル基又はフェニル基を意味し、その
ほかR2と1(3は隣接する窒素原子と一緒になって5
員又は6員の複素環を、あるいは両方のR2及び隣接す
る窒素原子が5員又は6員の複素環の構成員子を形し、
このR2は前記の意味を有する。これらの基及び環は、
さらに反応条件下で不活性の基、例えば1〜6個の炭素
原子を有するアルキル基により置換されていてもよい。
く、それぞれ水素原子、1〜4個の炭素原子を有するア
ルキル、基、シクロヘキシル基、7〜12個の炭素原子
を有するアルアルキル基又はフェニル基を意味し、その
ほかR2と1(3は隣接する窒素原子と一緒になって5
員又は6員の複素環を、あるいは両方のR2及び隣接す
る窒素原子が5員又は6員の複素環の構成員子を形し、
このR2は前記の意味を有する。これらの基及び環は、
さらに反応条件下で不活性の基、例えば1〜6個の炭素
原子を有するアルキル基により置換されていてもよい。
適当なアミドの例は次のものである。N、N −ジメチ
ルベンズアミド、N、N−ジメチル酪酸アミド、N 、
N−ジメチルフェニルアセトアミド、N 、N−ジメ
チルシクロヘキサンカルボン酸アミド、N 、 N−ジ
メチルプロピオン酸アミド及び同族(f)カルボン酸ヒ
ヘリジド、カルボン酸ピロリシト;対応するN 、N−
ジエチル−1N訳−ジグロビルー、N 、 N−ジイソ
プロピル−1N、N−ジイソブチル−1ji 、N−ジ
ベンジル−1N、N−ジフェニル−1N−メチル−N−
フェニル−1N−シクロへキシル−N−メチル−1N−
エチル−li−三級プチル−化合物;N−メチル−ホル
ムアニリド、N−エチル−ピペリドン−(6)、テトラ
メチル尿素;それらの混合物。特に好ましいものはジメ
チルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジエチルアセトアミド及びN−メチルピロ
リドンである。
ルベンズアミド、N、N−ジメチル酪酸アミド、N 、
N−ジメチルフェニルアセトアミド、N 、N−ジメ
チルシクロヘキサンカルボン酸アミド、N 、 N−ジ
メチルプロピオン酸アミド及び同族(f)カルボン酸ヒ
ヘリジド、カルボン酸ピロリシト;対応するN 、N−
ジエチル−1N訳−ジグロビルー、N 、 N−ジイソ
プロピル−1N、N−ジイソブチル−1ji 、N−ジ
ベンジル−1N、N−ジフェニル−1N−メチル−N−
フェニル−1N−シクロへキシル−N−メチル−1N−
エチル−li−三級プチル−化合物;N−メチル−ホル
ムアニリド、N−エチル−ピペリドン−(6)、テトラ
メチル尿素;それらの混合物。特に好ましいものはジメ
チルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジエチルアセトアミド及びN−メチルピロ
リドンである。
a)又はb)による反応においては、出発物質■及び+
Vの混合物が、出発物質バ(6−ホルミル−4−ヒドロ
キシ−テトラヒドロチオビラン)の1モルに対し出発物
質ff(ビス−(β−ホルミルエチル)−ザルファイド
)カ0゜1〜1モル2段階の酸処理に送られる。しかし
反応i】)又はb)の反応混合物に加工しな(・でその
まよで酸を添加し、そして第2段階の反応を行うことが
好ましい。普通は強酸を欧州する。ここで強酸とは、−
7〜+2.16の酸化数(’pKs )を有する反応条
件下で不活性な有機酸又は無機酸を意味する。酸化数及
びpKs値の定義に関しては、ウルマンス・エンチクロ
ベデイ・デル・テヒニツシエン・ヘミ−15巻2頁が参
照される。好適な例は硫酸、燐酸、塩化水素、硅酸、は
う酸、スルホン酸例えばベンゾ−ルー又はドルオールス
ルホン酸及びトリクロル酎酸である。イオン交換体例え
ばホウベン−ワイル著メトーデン・デル・オルガニツシ
エン・ヘミ−171巻528頁以下に記載の酸性イオン
交換体、特にポリスチロールスルホン酸樹)Yf 、フ
ェノールスルホドルオールスルホン酸又は燐酸である。
Vの混合物が、出発物質バ(6−ホルミル−4−ヒドロ
キシ−テトラヒドロチオビラン)の1モルに対し出発物
質ff(ビス−(β−ホルミルエチル)−ザルファイド
)カ0゜1〜1モル2段階の酸処理に送られる。しかし
反応i】)又はb)の反応混合物に加工しな(・でその
まよで酸を添加し、そして第2段階の反応を行うことが
好ましい。普通は強酸を欧州する。ここで強酸とは、−
7〜+2.16の酸化数(’pKs )を有する反応条
件下で不活性な有機酸又は無機酸を意味する。酸化数及
びpKs値の定義に関しては、ウルマンス・エンチクロ
ベデイ・デル・テヒニツシエン・ヘミ−15巻2頁が参
照される。好適な例は硫酸、燐酸、塩化水素、硅酸、は
う酸、スルホン酸例えばベンゾ−ルー又はドルオールス
ルホン酸及びトリクロル酎酸である。イオン交換体例え
ばホウベン−ワイル著メトーデン・デル・オルガニツシ
エン・ヘミ−171巻528頁以下に記載の酸性イオン
交換体、特にポリスチロールスルホン酸樹)Yf 、フ
ェノールスルホドルオールスルホン酸又は燐酸である。
酸は好ましくは出発物質■の1モルに対し、[]、00
5〜2当量特に0.05〜1当、i花の量で用いられる
。
5〜2当量特に0.05〜1当、i花の量で用いられる
。
第2段階の反応は、光通は60〜150℃特に70〜1
20℃の温度で、常圧又は加圧下に連続的又は非連続的
に行われる。好ましくは方法a)及びb)により、そし
て場合により塩化メチレン、芳香族炭化水素及び/又は
特に1,1,2−トリクロルエタンを用いて第1段階の
反応を行い、そして溶剤を第2段階のために混合物のま
まにしておく。溶剤を酸添加のbIJ又は後に除去し、
次いで追加の溶剤を添加してもよい。同様に第1段階の
溶剤を分離しないで、第1段階の反応混合物に追加溶剤
を添加することもできる。追加溶剤としては場合により
反応条件下で不活性な有機溶剤、例えば芳香族炭化水素
例えバドルオール、キジロール、クロルベンゾール、フ
ルオルペンゾール、ブロムペンゾール、0−1p−及び
In−ジクロルペンゾール又はそれらの混合物が、好ま
しくは出発物質■及び1vに対し100〜1oooo重
量係のi役で用いられる。
20℃の温度で、常圧又は加圧下に連続的又は非連続的
に行われる。好ましくは方法a)及びb)により、そし
て場合により塩化メチレン、芳香族炭化水素及び/又は
特に1,1,2−トリクロルエタンを用いて第1段階の
反応を行い、そして溶剤を第2段階のために混合物のま
まにしておく。溶剤を酸添加のbIJ又は後に除去し、
次いで追加の溶剤を添加してもよい。同様に第1段階の
溶剤を分離しないで、第1段階の反応混合物に追加溶剤
を添加することもできる。追加溶剤としては場合により
反応条件下で不活性な有機溶剤、例えば芳香族炭化水素
例えバドルオール、キジロール、クロルベンゾール、フ
ルオルペンゾール、ブロムペンゾール、0−1p−及び
In−ジクロルペンゾール又はそれらの混合物が、好ま
しくは出発物質■及び1vに対し100〜1oooo重
量係のi役で用いられる。
反応は次のように実施することができる。出発物質■、
溶剤及び場合により塩基の混合物を反応温度に保持し、
次いで酸を添加し、場合により第1段階の溶剤を第2段
階のための他の溶剤で置き換え、第2段階の反応を多く
は2相の混合物中で行う。その場合出発物質■、■及び
■は主として有機相中に存在し、水相は酸性触媒を含有
する。次いで出発物質■を常法により、例えば有機相を
分離し、水相を抽出し、−緒にした有機相を分留するこ
とにより分離し、そしてこれを用(・て第6段階で前記
のようにして本発明の水素化を行う。酸性触媒を含有す
る水相ば、反応後に分離して次の仕込みに再使用するこ
とができる。
溶剤及び場合により塩基の混合物を反応温度に保持し、
次いで酸を添加し、場合により第1段階の溶剤を第2段
階のための他の溶剤で置き換え、第2段階の反応を多く
は2相の混合物中で行う。その場合出発物質■、■及び
■は主として有機相中に存在し、水相は酸性触媒を含有
する。次いで出発物質■を常法により、例えば有機相を
分離し、水相を抽出し、−緒にした有機相を分留するこ
とにより分離し、そしてこれを用(・て第6段階で前記
のようにして本発明の水素化を行う。酸性触媒を含有す
る水相ば、反応後に分離して次の仕込みに再使用するこ
とができる。
他の実施態様においては、他の方法で製造された出発物
質■及び/又は■を、前記のようにして第2段階(I4
i2処理)にかり−、生成した出発物質■を前記のよう
にして水素化する。
質■及び/又は■を、前記のようにして第2段階(I4
i2処理)にかり−、生成した出発物質■を前記のよう
にして水素化する。
本発明の方法により製造される化合物は、染料、医薬及
び有害生物駆除剤例えば欧州特許用A’A O0717
07号1]細’ilJ’K 記載ノ除草剤ヲm造するた
めの価値ある出発物質である。そのほか用途に関しては
前記刊行物が参照される。
び有害生物駆除剤例えば欧州特許用A’A O0717
07号1]細’ilJ’K 記載ノ除草剤ヲm造するた
めの価値ある出発物質である。そのほか用途に関しては
前記刊行物が参照される。
例1
a) 6−ホルミル−5,6−シヒドロー21−1−チ
オピランの製造: 1.1.2− )リフo )v xり720 D Om
C及びピリジン1.3 meの混合物な、21℃で硫化
水素で飽和させる。次いでアクロレイン507.!7を
同時に硫化水素を導入しながら滴加する。その際冷却し
て温度を65℃に保持する。生成した混合物に硫化水素
を飽和するまて導入すると、合計で665gの硫化水素
が吸収される。さらにアクロレイン507gを硫化水素
を供給しないで62℃で滴加し、得られた溶液を22℃
で12時間攪拌する。次いで反応混合物に67チ燐酸I
D OD m(を添加し、ilA合物な85°Cで7
時間攪拌したのち冷却し、有(Q相を分ORB l、、
水相を1.’1.2−1−リクo ルエタン各500
meで2回抽出する。−緒にした有機相な硫酸ソーダ上
で乾燥し、溶剤を真空で除去ずろ。残留物を薄層蒸発器
中で真空蒸留することにより高沸点の副生物を除去する
。沸点75〜b バール、融点61℃の6−ホルミル−5,6−ジヒドロ
−2H−チオピランが106(l得られ、内容60 D
Omeの回転式オートクレーブに。
オピランの製造: 1.1.2− )リフo )v xり720 D Om
C及びピリジン1.3 meの混合物な、21℃で硫化
水素で飽和させる。次いでアクロレイン507.!7を
同時に硫化水素を導入しながら滴加する。その際冷却し
て温度を65℃に保持する。生成した混合物に硫化水素
を飽和するまて導入すると、合計で665gの硫化水素
が吸収される。さらにアクロレイン507gを硫化水素
を供給しないで62℃で滴加し、得られた溶液を22℃
で12時間攪拌する。次いで反応混合物に67チ燐酸I
D OD m(を添加し、ilA合物な85°Cで7
時間攪拌したのち冷却し、有(Q相を分ORB l、、
水相を1.’1.2−1−リクo ルエタン各500
meで2回抽出する。−緒にした有機相な硫酸ソーダ上
で乾燥し、溶剤を真空で除去ずろ。残留物を薄層蒸発器
中で真空蒸留することにより高沸点の副生物を除去する
。沸点75〜b バール、融点61℃の6−ホルミル−5,6−ジヒドロ
−2H−チオピランが106(l得られ、内容60 D
Omeの回転式オートクレーブに。
a)Kより製造された6−ホルミルーシヒドローDOm
6及びラネーニッケル220gを装入し、オートクレー
ブを閉じて窒素で洗浄する。次(・で水素を全圧が20
バールになるまで圧入し、混合物を90℃に加熱し、こ
の条件でさらに水素を導入しながら圧力が一定になるま
で水素化する。次いで冷却し、触媒を戸別し,F液を真
空で蒸留して精製する。沸点94〜95°G/1011
1バールの6−ホルミルーチトラヒドロチオ性の損失な
しで純1」重物質が同一の収率で得られる。
6及びラネーニッケル220gを装入し、オートクレー
ブを閉じて窒素で洗浄する。次(・で水素を全圧が20
バールになるまで圧入し、混合物を90℃に加熱し、こ
の条件でさらに水素を導入しながら圧力が一定になるま
で水素化する。次いで冷却し、触媒を戸別し,F液を真
空で蒸留して精製する。沸点94〜95°G/1011
1バールの6−ホルミルーチトラヒドロチオ性の損失な
しで純1」重物質が同一の収率で得られる。
例2
a) 反応を例1a)と同様に行(・、ただし溶剤とし
て塩化メチレンを用い、水性燐酸を添加したのち蒸留し
、そして同量のドルオール換える。次いで酸性媒質中で
例1a)と同様に反応を行う。沸点75〜78°C /
0. 2 5 ml(−ル、融点61℃の3−ホルミ
ル−5.6−シヒドロー2H−チオピランが974g得
られる。
て塩化メチレンを用い、水性燐酸を添加したのち蒸留し
、そして同量のドルオール換える。次いで酸性媒質中で
例1a)と同様に反応を行う。沸点75〜78°C /
0. 2 5 ml(−ル、融点61℃の3−ホルミ
ル−5.6−シヒドロー2H−チオピランが974g得
られる。
b) こうして得られた出発物質Uを用いて、例1b)
と同様に水素化を行う。例ib)と同じ結果及び同じ触
媒活性が得られる。
と同様に水素化を行う。例ib)と同じ結果及び同じ触
媒活性が得られる。
例6(比較例)
a) 例1a)と同様に反応を行い、ただし溶剤どして
1,1.1 − )リクロルエタンを使用する。
1,1.1 − )リクロルエタンを使用する。
アクロレインを滴加すると、例1a)と異なり強い発熱
反応が起こって、白色油状の重合生成物が生じる。反応
混合物を仕上げ処理しても、ゴム状の高分子生成物が得
られるにすぎない。
反応が起こって、白色油状の重合生成物が生じる。反応
混合物を仕上げ処理しても、ゴム状の高分子生成物が得
られるにすぎない。
b)シたがって例1b)と同様に反応を行うことはでき
ない。
ない。
例4
内容3 0 0 mlの攪拌式オートクレーブに、6−
ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオビラン629
、酢酸エチル100+a/!及び触媒(組成二酸化アル
ミニウム上ニッケル19重量係、コバルト7、9重量%
及び銅3.2重量%)3.2gを装入する。次いで混合
物を140°C及び水素圧20バールで圧力が一定にな
るまで水素化する。
ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオビラン629
、酢酸エチル100+a/!及び触媒(組成二酸化アル
ミニウム上ニッケル19重量係、コバルト7、9重量%
及び銅3.2重量%)3.2gを装入する。次いで混合
物を140°C及び水素圧20バールで圧力が一定にな
るまで水素化する。
真空蒸留により3−ホルミル−テトラヒドロチオピラン
が28g(理論値の86%)得られる。
が28g(理論値の86%)得られる。
触媒は成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使用で
きる。
きる。
例5
例4と同様に反応を行い、ただし触媒とじてラネーコバ
ルl− 3. 2 、jを用い、水素化TilA度を1
20℃トすル。この条件で6−ホルミルーチトラヒドロ
チオピランが、理論(直の88係の収率で得られる。触
媒ば成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使用でき
る。
ルl− 3. 2 、jを用い、水素化TilA度を1
20℃トすル。この条件で6−ホルミルーチトラヒドロ
チオピランが、理論(直の88係の収率で得られる。触
媒ば成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使用でき
る。
例6(比較例)
活性炭上にパラジウム10.¥Ii昂Jを含有する触媒
3.2gを用いて、例4と同様に反応を行う。
3.2gを用いて、例4と同様に反応を行う。
による、次の組成を有する。
6−メチルーチトラヒドロチオピラン7飴6−ホルミル
ーチトラヒドロチオピラン86俸6−ホルミル−5,6
−シヒドロー211−チオピラン7係 この触媒を第2回の反応に使用すると、著しい活性低下
が認められ、収率は理論値の12係にすぎない。
ーチトラヒドロチオピラン86俸6−ホルミル−5,6
−シヒドロー211−チオピラン7係 この触媒を第2回の反応に使用すると、著しい活性低下
が認められ、収率は理論値の12係にすぎない。
例7
内容600meO)撹拌式オートクレーブに、6−ホル
ミル−5,6−シヒドロー2 H−チオピラフ38、4
&,メタノール100g及び触媒C illll酸二酸
化アルミニウム上白金5重1’,j’ %、酸化プラセ
オジjム2.5重6;: % ’) 6. 5 Elを
装入する。
ミル−5,6−シヒドロー2 H−チオピラフ38、4
&,メタノール100g及び触媒C illll酸二酸
化アルミニウム上白金5重1’,j’ %、酸化プラセ
オジjム2.5重6;: % ’) 6. 5 Elを
装入する。
次いで混合物を160℃及び水素圧5[1/ニー/しで
、圧力が一定になるまで水素化する。反応生成物67g
が得ら才1、こればCC−分析によると次の絹.成をイ
J゛する。
、圧力が一定になるまで水素化する。反応生成物67g
が得ら才1、こればCC−分析によると次の絹.成をイ
J゛する。
3−メチル−テトラヒドロチオピラン3係6−ホルミル
−テトラヒドロチオピラン92係(理論値の87係) 6−ホルミル−5,6−シヒドロー2 H−チオビラン
5% この触媒は成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使
用できる。
−テトラヒドロチオピラン92係(理論値の87係) 6−ホルミル−5,6−シヒドロー2 H−チオビラン
5% この触媒は成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使
用できる。
例8
例7と同様に操作し、ただし酸化アルミニウム上に白金
5重量%及び銀1重量%の組成を有する触媒6.5Iを
使用する。溶剤としてはテトラヒドロフランを使用する
。この条件で得られる反応生成物は,GO−分析による
と次の組成を有する。
5重量%及び銀1重量%の組成を有する触媒6.5Iを
使用する。溶剤としてはテトラヒドロフランを使用する
。この条件で得られる反応生成物は,GO−分析による
と次の組成を有する。
6−ホルミルーチトラヒドロチオピラン88q6(理論
値の83.6係) 6−ホルミル−5,6−シヒドロー211−チオピラン
6係 6−ヒトロキシメチルーテトラヒドロチオピラン9係 この触媒は成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使
用できる。
値の83.6係) 6−ホルミル−5,6−シヒドロー211−チオピラン
6係 6−ヒトロキシメチルーテトラヒドロチオピラン9係 この触媒は成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使
用できる。
例9
例7と同様に操作し、ただし酸化マグネシウム194重
量係及び酸化アルミニウム80.6重量係から成る担体
の上に白金5重量係の組成を有する触媒6.5gを使用
する。この条件で得られる生成物は、GC−分析による
と次の組成を有する。
量係及び酸化アルミニウム80.6重量係から成る担体
の上に白金5重量係の組成を有する触媒6.5gを使用
する。この条件で得られる生成物は、GC−分析による
と次の組成を有する。
6−メチル−テトラヒドロチオピラン5チロ−ホルミル
−テトラヒドロチオピラン91%(理論値の86.5係
) 6−ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオピラン1
係 6−ヒトロキシメチルーテトラヒドUチオビラン6係 この触媒は成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使
用できる。
−テトラヒドロチオピラン91%(理論値の86.5係
) 6−ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオピラン1
係 6−ヒトロキシメチルーテトラヒドUチオビラン6係 この触媒は成績の悪化なしに、さらに17回の反応に使
用できる。
例10
a) アクロレイン420g及びジメチルホルムアミド
429の溶液に、−5’Cで6時間かけて硫化水素16
0yを導入する。反応はすぐに始まる。反応混合物に2
0℃でドルオール60時間加熱する。水65m1を分離
したのち、混合物を蒸留すると、6−ホルミル−5,6
−シヒドロー2H−チオピランが460g(理論値の8
9係)得られる。
429の溶液に、−5’Cで6時間かけて硫化水素16
0yを導入する。反応はすぐに始まる。反応混合物に2
0℃でドルオール60時間加熱する。水65m1を分離
したのち、混合物を蒸留すると、6−ホルミル−5,6
−シヒドロー2H−チオピランが460g(理論値の8
9係)得られる。
ルミルーテトラヒドロチオビランが1658.9(理論
値の91り得られる。この触媒は活性て、さらに17回
の反応に使用できる。
値の91り得られる。この触媒は活性て、さらに17回
の反応に使用できる。
例11
a) 3−ホルミル−5,6−シヒドロー2,6−シメ
チルー2 H−チオピランの製造: トルオール500111e、クロトンアルデヒド70!
1及びトリエチルアミンjDmeからの混合物に、60
°Cで硫化水素17gを導入する。次いで室温で12時
間撹拌したのち、67重量係燐酸300 mlを添加す
る。90℃で8時間攪拌し、室温に冷却し、有機相を分
離する。水相をドルオールで1回抽出し、−緒にした有
機相を水で1回洗浄し、硫酸ソーダ上で乾燥し、溶剤を
真空で除去する。残留物を0.6 mバールで蒸留する
と、沸点76〜76°Cの6−ホルミル−5,6−シヒ
ドロー2,6−シメチルー211−チオピランが64g
(理論値の82チ)得られる。
チルー2 H−チオピランの製造: トルオール500111e、クロトンアルデヒド70!
1及びトリエチルアミンjDmeからの混合物に、60
°Cで硫化水素17gを導入する。次いで室温で12時
間撹拌したのち、67重量係燐酸300 mlを添加す
る。90℃で8時間攪拌し、室温に冷却し、有機相を分
離する。水相をドルオールで1回抽出し、−緒にした有
機相を水で1回洗浄し、硫酸ソーダ上で乾燥し、溶剤を
真空で除去する。残留物を0.6 mバールで蒸留する
と、沸点76〜76°Cの6−ホルミル−5,6−シヒ
ドロー2,6−シメチルー211−チオピランが64g
(理論値の82チ)得られる。
b) 5−ホルミル−2,6−シメチルーテトラヒドロ
チオビランの製造: 内容500m6の攪拌式オートクレーブに、例11a)
により製造された6−ホルミル−5,6−シヒドロー2
,6−シメチルー2 H−チオピラン100g、酢酸エ
チル60me及びラネーニッケルgo、!7を装入し、
オートクレーブを閉じて窒素で洗浄する。次いで水素を
全圧が60バールになるまで圧入し、混合物を90℃に
加熱し、この条件で圧力が一定になるまで水素化する。
チオビランの製造: 内容500m6の攪拌式オートクレーブに、例11a)
により製造された6−ホルミル−5,6−シヒドロー2
,6−シメチルー2 H−チオピラン100g、酢酸エ
チル60me及びラネーニッケルgo、!7を装入し、
オートクレーブを閉じて窒素で洗浄する。次いで水素を
全圧が60バールになるまで圧入し、混合物を90℃に
加熱し、この条件で圧力が一定になるまで水素化する。
次いで冷却し、触媒をF別し、Pe、を真空で精製する
と、沸点127〜129°G 710 mバールの3−
ホルミル−2,6−シメチルーテトラヒドロチオピラン
が89g(理論値の88 % ) 得られる。
と、沸点127〜129°G 710 mバールの3−
ホルミル−2,6−シメチルーテトラヒドロチオピラン
が89g(理論値の88 % ) 得られる。
例12
a) 5−ホルミル5 + 6−ジヒド”−2H−チオ
ピランの製造を、例1a)と同様に行う。
ピランの製造を、例1a)と同様に行う。
b)6−ホルミルーチトラヒドロチオピランの製造:
内容5000 mlの攪拌式オートクレーブに、例1a
)により製造された6−ホルミルーシヒドロー2 H−
チオピラン1792g、N、N−ジメチルホルムアミド
200 me及びラネーニッケル75.!7を装入し、
オートクレーブを閉じて蟹素テ洗浄する。次いで水素を
全圧が200バールになるまで圧入し、混合物を1′5
0°Cに加熱し、この条件でさらに水素を圧力が一定に
なるまで導入して水素化する。次いで冷却し、触媒なσ
コ別し、p液を真空で蒸留して精製すると、/11)点
94〜95°G/ 10 mバールの6−ホルミルーチ
トラヒドロチオピランが1669.!7(q論値の90
%)得られる。
)により製造された6−ホルミルーシヒドロー2 H−
チオピラン1792g、N、N−ジメチルホルムアミド
200 me及びラネーニッケル75.!7を装入し、
オートクレーブを閉じて蟹素テ洗浄する。次いで水素を
全圧が200バールになるまで圧入し、混合物を1′5
0°Cに加熱し、この条件でさらに水素を圧力が一定に
なるまで導入して水素化する。次いで冷却し、触媒なσ
コ別し、p液を真空で蒸留して精製すると、/11)点
94〜95°G/ 10 mバールの6−ホルミルーチ
トラヒドロチオピランが1669.!7(q論値の90
%)得られる。
例16
出発物質■を製造し、これを例12と同様に水素化し、
その場合150バールの圧力で水素化を行うと、沸点9
4〜95℃/ 10 mバールの6−ホルミルーチトラ
ヒドロチオビランが16769(理論値の92慢)得ら
れる。
その場合150バールの圧力で水素化を行うと、沸点9
4〜95℃/ 10 mバールの6−ホルミルーチトラ
ヒドロチオビランが16769(理論値の92慢)得ら
れる。
出願人 バスフ・アクチェンゲゼルシャフト代理人 弁
理士 小 林 正 雄 第1頁の続き @発明者 ハイフン・ニックハル ト ドイツ連邦共和国6700ルードウイツヒスハーフエン
・リューデイガーシュトラーセ7
理士 小 林 正 雄 第1頁の続き @発明者 ハイフン・ニックハル ト ドイツ連邦共和国6700ルードウイツヒスハーフエン
・リューデイガーシュトラーセ7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 次式 ( (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされる6−
ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオビランな、ニ
ッケル、コバルト、白金、餅1及び/又は銀を含有する
触媒の存在下に水素化することを特徴とする、次式 (式中のR1はそれぞれ水素原子又は脂肪族糸を意味す
る)で表わされる3−ポルミル−テトラヒドロチオピラ
ンの製法。 2、 次式 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされるビス
−(β−ホルミルエチル)−ザルファイド及び/又は次
式 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされる6−
ホルミル−4−ヒドロギシーテトラヒドロチオビランを
、酸性触媒の存在下に反応させ。 得られた次式 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされる6−
ホルミル−5,6−シヒドロー2H−チオビランを、ニ
ッケル、コバルト、白金、銅及び/又は銀を含有する触
媒の存在下に水素化することを特徴とする、次式 (式中のR1はそれぞれ水素原子又は脂肪族基を意味す
る)で表わされる6−ホルミルーチトラヒドロチオピラ
ンの製法。 3、 次式 %式% (1 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされるアク
ロレインを、(a)塩基性触媒及び6剤としての塩化メ
チレン、芳香族炭化水素及び/又は1.1.2−1−
!Jジクロルタン及び/又は(1))カルボン酸アミド
の存在下に硫化水素と反応させ、得られた次式 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされるビス
−(β−ホルミルエチル)−ザルファイドと次式 (式中のR1は後記の意味を有する)で表わされる6−
ボルミルー4−ヒドロキシ−テトラヒドロ−チオピラン
との混合物を、酸性触媒の存在下に反応さぜ、そしてイ
:jられた次式(式中のR1は後記の意味を有する)で
表わされる6−ホルミル−5,6−シヒドロー21(−
チオビランを、ニッケル、コバルト、白金、銅及び/又
は銀を含有する触媒の存在下に水素化することを特徴と
する、次式 (式中のR1はそれぞれ水素原子又は脂肪族基を意味す
る)で表わされる6−ホルミルーチトラヒドロチオピラ
ンの製法。 4、 水素化触媒として、さらに塩基性酸化物を含有す
るニッケルー、コバ用1−−1白金−12同−及び/又
は銀触媒を使用することを!1+i徴とずろ、特許請求
の範囲第1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833333678 DE3333678A1 (de) | 1983-09-17 | 1983-09-17 | Verfahren zur herstellung von 3-formyl-tetrahydrothiopyranen |
| DE3333678.4 | 1983-09-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6081180A true JPS6081180A (ja) | 1985-05-09 |
| JPH0564149B2 JPH0564149B2 (ja) | 1993-09-14 |
Family
ID=6209394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59188267A Granted JPS6081180A (ja) | 1983-09-17 | 1984-09-10 | 3‐ホルミル‐テトラヒドロチオピランの製法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4629799A (ja) |
| EP (1) | EP0141960B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6081180A (ja) |
| AT (1) | ATE26979T1 (ja) |
| CA (1) | CA1230125A (ja) |
| DE (2) | DE3333678A1 (ja) |
| HU (1) | HU201049B (ja) |
| IL (1) | IL72956A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3025771B1 (en) * | 2008-12-05 | 2018-07-25 | Multi-Chem Group, Llc | Method for removal of hydrogen sulfide from geothermal steam and condensate |
| CN113024506B (zh) * | 2021-03-18 | 2022-05-20 | 合肥工业大学 | 3-甲酰四氢噻喃化合物的制备方法 |
| EP4494466A1 (en) * | 2023-07-20 | 2025-01-22 | Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) | Sulfur-containing compounds and use thereof |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7003166A (ja) * | 1969-04-17 | 1970-10-20 | ||
| GB1479916A (en) * | 1974-11-27 | 1977-07-13 | Lafon Labor | Benzothiadiazine derivatives |
| DE2832699A1 (de) * | 1978-07-26 | 1980-02-14 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von gesaettigten aliphatischen, cycloaliphatischen und araliphatischen aldehyden |
| DE3121355A1 (de) * | 1981-05-29 | 1982-12-16 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Cyclohexandionderivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende herbizide |
| JP4373130B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2009-11-25 | アネスト岩田株式会社 | スクロール流体機械 |
-
1983
- 1983-09-17 DE DE19833333678 patent/DE3333678A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-09-10 JP JP59188267A patent/JPS6081180A/ja active Granted
- 1984-09-10 US US06/648,877 patent/US4629799A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-09-11 AT AT84110797T patent/ATE26979T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-09-11 DE DE8484110797T patent/DE3463508D1/de not_active Expired
- 1984-09-11 EP EP84110797A patent/EP0141960B1/de not_active Expired
- 1984-09-12 CA CA000463007A patent/CA1230125A/en not_active Expired
- 1984-09-14 IL IL72956A patent/IL72956A/xx unknown
- 1984-09-17 HU HU843494A patent/HU201049B/hu unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HUT38098A (en) | 1986-04-28 |
| HU201049B (en) | 1990-09-28 |
| CA1230125A (en) | 1987-12-08 |
| ATE26979T1 (de) | 1987-05-15 |
| US4629799A (en) | 1986-12-16 |
| DE3333678A1 (de) | 1985-03-28 |
| IL72956A0 (en) | 1984-12-31 |
| JPH0564149B2 (ja) | 1993-09-14 |
| DE3463508D1 (en) | 1987-06-11 |
| EP0141960A1 (de) | 1985-05-22 |
| IL72956A (en) | 1988-11-15 |
| EP0141960B1 (de) | 1987-05-06 |
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |