JPS6081855A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPS6081855A
JPS6081855A JP58190219A JP19021983A JPS6081855A JP S6081855 A JPS6081855 A JP S6081855A JP 58190219 A JP58190219 A JP 58190219A JP 19021983 A JP19021983 A JP 19021983A JP S6081855 A JPS6081855 A JP S6081855A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
transistor
bonding pad
bipolar transistor
separated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58190219A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Yamagishi
明 山岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP58190219A priority Critical patent/JPS6081855A/ja
Publication of JPS6081855A publication Critical patent/JPS6081855A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P74/00Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices

Landscapes

  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は半導体装置に関し、特にバイポーラ集積回路装
置において、特定のバイポーラトランジスタの特性をウ
ェーハ段階でチェック可能に構成した基板−構造に関す
るものである。
〔背景技術〕
一般にバイポーラアナログ集積回路装置は半導体基板に
用途に応じたバイポーラトランジスタを含む複数の回路
要素が形成され、適宜に配線接続して構成されており、
例えば3端子レギユレータ。
カーステレオ用パワーアンプなどに適用され、広く使用
されている。
例えば第1図は8端子レギユレータの回路構成図であっ
て、レギュレータ回路Aと過熱保護回路Bとから構成さ
れている。そして、レギュレータ回路Aは出力段パワー
トランジスタC,アクティブロードD、電流制限回路E
、基準電圧回路F。
誤差増巾回路Gなどからなり、入力端子INに入力電圧
が印加されると、これを基準電圧と比較してその誤差分
を出力側に帰還し出力端子OUTの出力電圧を一定にす
る。又、過熱保護回路Bは内外要因によって温度上昇が
設定された動作温度を越えると過熱制限用トランジスタ
Trが導通し、レギュレータ回路Aの出力段を遮断して
装置全体の保護が図られる。
ところで、この過熱保護回路Bは例えば第2図に示すよ
うに構成されている。この回路において、B点電圧は第
1のトランジスタTr、のVBEより若干低い目に設定
されており、何らかの原因により過度に温度上昇すると
、第1のトランジスタTr。
のVBEが2 m V / ℃の割合で低下し、B点電
圧より低くなると導通し、これに伴って第2のトランジ
スタTr、も導通してレギュレータ回路Aが保護される
この回路において、それぞれのトランジスタは製造時の
条件によって特性が大きく変化することが知られている
のであるが、その製造過程において特定のトランジスタ
のみの特性をチェックすることは全くできない。このた
めに、製品化された状態での特性検査によって始めて良
否の判定がなされることから、不良と判定されたものは
半導体素子を固定する放熱板、リード、モールド樹脂が
無駄になり、集積回路装置のコストへの影響が大きくな
るという問題がある。
又、カーステレオ用アンプに適用されるパワー集積回路
装置にあっては出力の歪率がトランジスタの電流増巾率
hFEに影響され、hFEが大きくなると歪率は小さく
なり、逆にhFEが小さくなると歪率は大人くなる。し
かし乍ら、製造過程では所望するトランジスタの特性チ
ェ・ツクができないために、止むを得ず完成品の特性検
査によってその良否を判定している。このために、」二
速同様に放熱板、リード、モールド樹脂が無駄となり、
コストへの影響が大きくなるものである。
従って、集積回路装置における特定のトランジスタ スタウエーハないしベレット状態にて特性チェックでき
れば、不良素子の組み込みを事前に防止できる上、それ
に要する材料も有効に活用できることもあって、作業能
率は勿論のこと、コスト面の大巾な改善が可能となり望
ましいものである。
〔発明の開示〕
それ故に、本発明の目的は簡単な構成によってウェーハ
ないしベレット状態において特定のバイポーラトランジ
スタの特性をチェックできる半導体装置を提供すること
にある。
そして、本発明の特徴は同一半導体基板内にバイポーラ
トランジスタを含む複数の回路要素を具え、それぞれを
適宜に配線接続したものにおいて、上記特定のバイポー
ラトランジスタより延びる少くとも2つの回路部分を分
離すると共に、それぞれの端部にボンディングパ・ソド
部を電気的な接続関係を有するように離隔並設し、かつ
特定のバイポーラトランジスタの特性チェック後に隣接
するそれぞれのポンディングパッド部を短絡するように
したことにある。
この発明によれば、特定のバイポーラトランジスタより
延びる回路部分を分離し、それぞれの端部にポンディン
グパ・ソド部を離隔並設しているので、ウェハーないし
ベレット状態において特性チェックを行うことができる
。このために、特定のトランジスタの特性が規格を満足
するもののみを組立ての対象にできる関係で、放熱板、
リード。
 5− モールド樹脂などの材料を有利に利用でき、コストも有
効に低減できる。
〔発明を実施するための最良の形態〕
次に本発明のバイポーラ集積回路装置への適用例につい
て第3図〜第4図を参照して説明する。
第3図において、1はベレット状の半導体基板であって
、それにはバイポーラトランジスタ2を含む複数の回路
要素が形成されており、適宜に配線されている。そして
、バイポーラトランジスタ2のベース、コレクタ、エミ
ッタより延びる回路部分8,4.5は分離され、それぞ
れの端部にポンディングパッド部6a、6b、712.
7b、8a、8bが対をなすように離隔並設されている
この状態において、ボンでイングパッド部6a。
7a、8aに測子を接触させてトランジスタ2の特性を
測定する。特性値が規格を満足するものについてのみ、
第4図に示すように、対をなすポンディングパ1.ド部
6a−6b間 712−7b間。
8a、8b間を金属部材9にて短絡する。以下通常の方
法にて組立する。
 6− この実施例によれば、特定のトランジスタ2の特性をウ
ェーハないしベレ、7 )状態にて測定できるために、
特性不良品の組立工程への供給を完全に防止できる。従
って、材料の有効活用のみならず、コストも有効に低減
できる。
第5図は本発明の他の実施例を示すものであって、ボン
ディングパリド部612−6b、 ’Te1−’1b、
8a−8bをポンディングワイヤ10のボン接続し、樹
脂モールド後に樹脂材より露呈するボンディングワイヤ
10を切断するものである。
尚、本発明において、ポンディングパッド部ハトランジ
スタより延びるすべての回路部分に形成したが、2つの
回路部分にのみ形成することもできる。又、複数のトラ
ンジスタに適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の集積回路装置の電気回路図、第3図は本
発明の一実施倒を示す要部概略図、第4図はポンディン
グパッド部を短絡l−だ状態を示す要部概略図、第5図
は本発明の他の実施例を示す要部概略図である。 図中、1は半導体基板、2はパイポーラトランジスタ、
8.j、5は回路部分、612,6b、7a、7b、B
a、Bbはポンディングパッド部、9.10は金属部材
である。 すA1 第3図 第4図 第5図 手 続 補 正 書 (方式) %式%) ■、事件の表示 昭和58年 特 許 願第190219号2発明の名称 半導体装置 3、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人 電話 大津 (0’775)37−21007補止の内
容 (1) 第7頁第19行の「電気回路図、」09次に「
第2図は第1図における過熱保論回路の詳細回路図、」
全挿入する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 同一半導体基板内にバイポーラトランジスタを含む複数
    の回路要素を具え、それぞれを適宜に配線接続したもの
    において、上記特定のバイポーラトランジスタより延び
    る少くとも2つの回路部分を分離すると共に、それぞれ
    の端部にポンディングパッド部を電気的な接続関係を有
    するように離隔並設し、かつ特定のバイポーラトランジ
    スタの特性チェ・ツク後に隣接するそれぞれのポンディ
    ングパッド部を短絡するようにしたことを特徴とする半
    導体装置。
JP58190219A 1983-10-11 1983-10-11 半導体装置 Pending JPS6081855A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58190219A JPS6081855A (ja) 1983-10-11 1983-10-11 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58190219A JPS6081855A (ja) 1983-10-11 1983-10-11 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6081855A true JPS6081855A (ja) 1985-05-09

Family

ID=16254452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58190219A Pending JPS6081855A (ja) 1983-10-11 1983-10-11 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6081855A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007258627A (ja) * 2006-03-27 2007-10-04 Hitachi Ltd 半導体装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4919029A (ja) * 1972-03-27 1974-02-20

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4919029A (ja) * 1972-03-27 1974-02-20

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007258627A (ja) * 2006-03-27 2007-10-04 Hitachi Ltd 半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5793108A (en) Semiconductor integrated circuit having a plurality of semiconductor chips
JPH0546045U (ja) 半導体パツケージ
KR950000205B1 (ko) 리이드 프레임 및 이를 사용한 반도체 장치
US6215174B1 (en) Lead frame, mold for producing a resin-sealed semiconductor device, resin-sealed semiconductor device using such a lead frame
JP3989417B2 (ja) 電源用デバイス
JPH09120974A (ja) 半導体装置
JPS6081855A (ja) 半導体装置
US3560808A (en) Plastic encapsulated semiconductor assemblies
JP2601228B2 (ja) 樹脂封止型回路装置の製造方法
JP7734826B2 (ja) 半導体装置
JP3234614B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH05283582A (ja) 正負安定化電源装置
JPS6214689Y2 (ja)
JP3300651B2 (ja) 安定化電源装置
JPS617660A (ja) 半導体装置
JPH07335818A (ja) 半導体装置
JPS6011643Y2 (ja) 半導体集積回路装置の実装構造
JPS62123750A (ja) リ−ドフレ−ムおよびそれを用いた半導体装置の製造方法
JP3203377B2 (ja) 混成集積回路装置
JPH05326832A (ja) 直流電圧安定化素子
JPH05136183A (ja) 集積回路装置
JP2954561B2 (ja) リードフレーム、リードフレームを用いた樹脂封止半導体装置の成形金型、リードフレームを用いた樹脂封止半導体装置および樹脂封止半導体装置の製造方法
KR0142756B1 (ko) 칩홀딩 리드 온 칩타입 반도체 패키지
JP3336328B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置およびその製造に用いられるリードフレーム
JPH06132464A (ja) 半導体集積回路の組立方法